没有光刻机还有“冰刻机”？西湖大学另辟蹊径，或有重大突破

光刻机与芯片

对于光刻机，相信大家都不陌生，它是世界上最精密的设备之一，也是半导体芯片行业最核心的机器，具有不可替代的重要地位。一颗芯片要想成功地生产出来，必须经过光刻机的一系列操作，这是所有半导体公司公认的事实，直到现在仍然无法改变。

既然光刻机这么重要，那么我们国内有没有掌握这项技术呢？答案可能会让很多人失望，因为国内对光刻机的研究还停留在初级阶段，距离先进水平还有一定的差距。但这也是国内不得不正视的现实问题，而如何突破顶尖的光刻机技术更是重中之重。

目前，全球范围内只有一家公司可以说是真正掌握了光刻机技术，那就是来自于荷兰这个欧洲小国的ASML。但ASML还得到了整个欧洲和美国的技术支持，不然它也不会成为世界最大的几个半导体设备制造商。

虽然ASML不是唯一能生产出光刻机的厂商，日本的尼康和佳能，以及我们国内的上海微电子都具备制造低端光刻机的实力，但是在高端市场，ASML处于绝对垄断的地位，享有最高的话语权。这是国内不愿意看到，却又不得不承认的局面。

至于国内为什么不愿意看到ASML的领先，是因为它会受到相关协议和美国规则的影响，从而无法自由地向国内出货。也就是说，国内的半导体公司不容易买到ASML的光刻机，尤其是最先进的EUV光刻机，目前国内更是一台都没有。

因此，国产光刻机的研发势在必行，不管是为了技术自主还是为了芯片事业的崛起，国内都必须坚定这个目标。再加上近年来华为受到的诸多不公平的对待，进一步证明了国内绝对不能放弃光刻机的研发，尽管它的难度超出了普通人的想象！

西湖大学“冰刻机”来了

光刻机到底有多难？这个问题并没有一个确切的答案，一般人肯定不知道，而知道的人我们平时也接触不到。但可以确定的是，光刻机既然能被称为人类工艺技术的巅峰之作，就代表它的难度肯定是非常高，国内需要大量的时间才能慢慢取得进展。

所以说，现在华为和国内最缺的不是芯片和高端光刻机，而是时间，因为只要给予国内平稳的发展时间，将来一定能突破所有被“卡脖子”的技术难点。但美国对此肯定不会坐视不理，在这种形势下，国产光刻机的研发工作必须要加快。

而就在这个关键时刻，国内的西湖大学另辟蹊径，没有光刻机还有“冰刻机”，或有重大突破。也许大部分人都不知道“冰刻机”是什么玩意，但我们只要清楚西湖大学的突破，对于国产光刻机而言是一个好消息就足够了。

其实冰刻机的工作原理和光刻机差不了多少，只是采用的方式不同而已。顾名思义，冰刻机是将光刻机的光刻过程换成了冰刻过程，虽然难度有所降低，但是效果却大同小异。据了解，由西湖大学研究出来的冰刻技术已经能达到和光刻机一样的效果了。

要知道，光刻机的光刻过程需要顶尖的光源技术和非常精密的操作才能完成，而这两方面恰好是国内的短板，所以国产光刻机才迟迟无法突破，而西湖大学的研究团队却找到了用冰刻代替光刻的方法，另辟蹊径攻克了冰刻机技术，有望突破光刻机的瓶颈。

虽然目前冰刻技术还只存在于实验室阶段，无法应用于实际，但是有突破就是好事，证明了国内从未停下进步的脚步。而且在国内越发坚定的支持力量下，将来西湖大学一定能再次传来好消息，说不定到时候真正的冰刻机已经问世了！

写在最后

不管怎样，西湖大学的另辟蹊径都给国内提供了一种新的思路，既然无法掌握光刻技术，那么何不用其它的技术代替呢？只要国内继续保持这种不断创新的钻研精神，将来国产光刻机一定能大放异彩，让全世界为之瞩目！

对此，你们怎么看呢？欢迎留言和转发。