阿斯麦尔突破，中国将迎来首台EVU光刻机？蒋尚义：一切有可能

科技改变人类，人类创造科技，在二十一世纪的如今，没有人会忽视科技的重要性，而近些年来，全球都在大力发展半导体行业，我们日常使用的电子设备基本也都离不开半导体，而一些顶尖半导体芯片制造就必须要用到光刻机的制造。

如今这个世界上最顶级光刻机制造商是阿斯麦尔（ASML），他们生产的光刻机几乎不可替代，恰好中国就是缺乏这方面的制造技术，目前而言只能靠着进口光刻机来完成相应的芯片制造，但是又碍于美国的瓦森纳会议无法进口到顶级的光刻机。

不过近期也有好消息传来，阿斯麦尔突破，中国或将迎来首台EVU光刻机？蒋尚义：一切皆有可能，我们中国最顶级的芯片巨头之一中芯国际，近些年不断做出突破，将芯片的工艺提升到了7nm的程度，然而再往后的5nm与3那么等也都需要用到顶尖光刻机来制造。

在蒋尚义上任中芯国际董事之后就不断的向阿斯麦尔发布合作的请求，直到阿斯麦尔的突破，中芯国际所需要的EVU光刻机可能能进口到中国，因为阿斯麦尔为了接下来的2nm甚至是1nm芯片，更往着高层次的光刻机技术进发。

随着而来的就是最辛苦最顶级的NA EUV光刻机出现，造价更高制造更难，但是可以生产3nm芯片，一般阿斯麦尔在突破了新一代之后就可以将低级一点的光刻机出口出去，而此次的EUV光刻机已经成为了“低等级”，所以来到中国的几率很高。

所以说一切皆有可能，就像是现在阿斯麦尔已经可以向我们进口DUV光刻机一样，不过说到底，这一切都是自身实力不足的原因，也希望在未来的时间里，中国能够自主研制出更高等级的光刻机，那样的话就不用怕被限制了，对此各位读者有什么不同的看法？欢迎评论区留言。