无畏制裁封锁，我国率先打破垄断突破光刻机技术，美国阴谋成泡影

近日据浙江媒体报道称，浙江西湖大学取得了一项重大科研突破。有专家表示，这项技术的突破不仅能够有助于提高西湖大学的知名度，而且最重要的是能够帮助国家民族企业华为实现对西方技术的弯道超车。华为近年来的快速发展，让美国颇为关注，为了减小华为的生存空间，美方采取了对华为的一系列制裁措施，目的只有一个，那就是遏制华为的快速发展。而切断芯片供应便是美国针对华为的第一步，而且美国在全球范围内下达“通缉令”，凡是使用了美国的半导体产品的国家，如果未经允许向华为出售芯片的话，美方将一视同仁对其进行制裁。

很多国家和欧洲一些芯片企业，因为美国的施压而选择放弃和华为合作。有数据表明，美国对华为的芯片禁令，导致华为的直接经济损失达到了100亿美元。给华为造成了巨大损失，也曾几度陷入困境。越是困难时越要冷静，华为很快就从困境中走了出来，他们没有沉沦，而是努力思考接下来的路该怎么走。华为清楚地认识到，要想实现独立自主，摆脱美国的限制，必须要有足够的底牌和美国博弈。那就是实现芯片自产化。华为创始人任正非和华为的高管们一同做出了一个重大决定，那就是企业必须加大力度进行芯片的研发。

但芯片属于高新技术产业，想一帆风顺就取得成功，这显然不现实，因此如何从困难中找到头绪，从失败中总结经验，是华为需要研究的第一个课题。想要实现芯片的国产化，摆在所有人面前的第一道关卡就是光刻机，因为没有光刻机，任凭怎么努力也无法实现芯片的自主研发。就在一筹莫展的时候，西湖大学的研究团队，另辟蹊径，用冰刻取代光刻，这一技术上的创新，让国产芯再一次看到了希望。从技术原理上来说，二者有相似之处，也有不同之处。

光刻比较有技术难度的是关于光刻胶的清理问题，如果没有清理干净就会影响到光刻机的高精度的研发，按照我国现有的技术水平，这个问题很难得到彻底解决。西湖大学的仇教授和他的研究团队索性就换了一个思路，用冰刻代替光刻，这个问题似乎就能迎刃而解了。冰刻的原理是，水蒸气在-130℃，会凝结成无定型冰。当电子束在做这层无定形冰上时，被电子束击中的冰就会消失。当温度升高时，残留在芯片表面的冰会自动消失。

仇院长和研究团队经过6年的努力研发，我国首台冰刻系统已经完成，然而这次西湖大学在原先的精度上再次做了新的升级，能够雕刻出精度更高的芯片。这项创举不仅能够帮助华为摆脱面临的困境，在ASML光刻机的技术上也不再依赖与人。美国曾花费如此大代价和精力想要实施封锁和遏制的美梦彻底成为泡影，感谢我国科研人员为之而付出的巨大努力。