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中国光刻机已突破7nm?荷兰垄断30年的技术,中国几年就攻破了

我想你们应该也听说了美国针对华为的芯片禁令的事情,因为华为的飞速发展,已经是惹得美国开始忌惮起华为了,毕竟华为在多个领域打破了美国的技术垄断,如今更是在美国的“基本盘”半导体芯片领域打破垄断,这就使得美国也是开始慌了。

所以美国才会迫不及待地想要打击中国华为,毕竟美国也不希望华为成长起来之后抢走了美国的市场份额。而芯片禁令最大的影响因素其实并不是在芯片上,而是在制造芯片的光刻机上。我国就是因为光刻机实力不行,所以华为受到压制,芯片供应被切断。

也正是因为美国的芯片禁令才一下子暴露出这个巨大的问题,使中国人重新认识了芯片并了解了光刻机。并且在芯片禁令的巨大压力之下,中国迅速反应过来,将光刻机技术的研发提上日程。如今,中国光刻机已突破7nm?荷兰垄断30年的技术,中国几年就攻破了!

中芯国际传来的好消息,中芯国际自行开发的N+1技术实现准7nm芯片制造。荷兰asml花费了近30年的时间才打造下如今的光刻机“帝国”,但是我们国家中芯国际只花费了几年的时间,就已经是突破到7nm制程。

而且这还是在美国等西方国家的打压制裁之中研发出来的技术,当然,我也承认,中芯国际的N+1工艺与荷兰ASML的EUV光刻机相比还有差距,但是也只是相差一代而已,路要一步一步走,我们这个时候也不能操之过急,反正肯定是能够追的上的。

如今更重要的应该是稳扎稳打,将光刻机技术完全本土化,这样就不会被美国他们个卡脖子了,只有自己掌握核心技术,才能够在和美国这些科技实力强大的西方国家的对抗中不弱下风,期待中国光刻机正式崛起的那一天。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20210124A07ZP300?refer=cp_1026
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