芯片制作的关键，高纯度的溅射靶材中国实现突破，光刻机还远么

芯片到底从何而来，除开光刻机，还有一个最重要的原材料那就是高纯度的靶材。

它是半导体制作中的关键材料，但是这块市场长期被日本，美国的少数几家公司所垄断。是困扰国内企业的关键技术。

所谓溅射就是制备薄膜材料的重要技术，通过离子对目标进行轰击，让靶材中的金属原子，以可控的能量溢出，从而在晶圆的表面上面沉积，形成金属薄膜，其中被轰击的固体就是溅射靶材。

芯片的制造对溅射靶材金属纯度的要求相当高，一般都需要达到99.999%的纯度。就指甲盖轻轻地一碰价值上万美金的材料就直接报废。

目前我国的集成电路的生产线的靶材，大量依赖进口。99%的金属靶材都依赖于进口。难溶金属靶材100%都依赖进口。

国内有些公司在研发但都没有通过验证，最核心的问题就是，没有可用的高纯度靶材原材料。

从2010年开始，亚芯半导体联合国内外相关院校，潜心攻关难溶金属提纯技术，和提纯生产设备的两项课题。成功实现了“钨”“钽”难溶金属的提纯。成功突破高纯度金属钨靶材的技术难关，彻底的打破国外垄断市场。

在这个关键的器件上再也不用依赖于国外进口。填补了国产化的空白。高纯度溅射靶材已经实现了突破，光刻机还会远么？