中国芯片转机来了？芯片制造新技术迎来突破，或能取代光刻机

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新技术

在芯片的研究上，世界各国都投入了巨大的生产力量，要么是在设计上，要么是在芯片制造领域，还有一些国家企业专门负责光刻机设备的研发。可以发现，没有哪一个国家可以独立完成所有的生产环节。

就算是国内有这些环节范畴的企业，想要将整个产业链提升到世界顶尖的水准，也还有很长一段路要走。

所以我们需要与世界接轨，购买对方的光刻机，采购国外的芯片和使用国外的技术等等。但由于外部条件的变化诡谲，不能一直依赖对方，关键时刻还得看自己。自研，自强才是最好的出路。

就拿芯片制造的环节来看，对光刻机的需求是非常大的。别人掌握了EUV光刻机的制造水平，而我们芯片制造新技术也迎来突破，区别于传统的工艺，我们采用了冰刻技术。

据悉，西湖大学成功实现在光纤末端做出复杂的微纳米级“冰雕”，用独特的三维微纳加工技术，可以在头发八分之一粗细的末端上进行“冰刻”。这种技术加工的设备可理解为冰刻机。

因为传统的工艺是需要光刻胶材料在晶圆上均匀涂抹，进而在后续的加工中用化学试剂被光刻胶清洗干净。但过程之繁琐，材料之珍贵一旦出现失误，可能就会导致晶圆受损。

但三维微纳加工冰刻技术就没有这样的问题，不仅简化加工过程，而且效率也提升了。

能否取代光刻机？

这是我国在芯片制造领域的又一项新技术，并且进入到2.0时代。用2.0系统的冰刻技术，能够对处理目标任意塑造自己想要的形状，而且同时对上百个物品进行雕刻都不是问题。

那么冰刻机的出现能够替代光刻机呢？从狭义的某个流程角度来看，或能取代光刻机，因为它实现了光刻机在相同流程中同样的工作，而且随着技术的不断突破，相信还能做得更好。

但从广义的角度来讲，高端光刻机涉及10万个以上的零部件，上千家上游技术，设备和零部件等供应商，不是一项技术突破就能全面取代的。毕竟用三维微纳加工冰刻技术，也只能解决在芯片制造某个环节流程的难题。

但不可否认的是，冰刻机确实有很大的重要突破意义。先进的冰刻技术利用低温下产生的水蒸气，可以更加均匀涂抹在样品上。而利用光刻胶的话，万一涂抹不均匀，就会导致样品破裂。可见，冰刻机是能够提高芯片制造效率的。

转机来了？

国产芯片已经处在高速发展的阶段，国内很多的半导体企业正加大的芯片产业的投资。再加上西湖大学的新技术突破，让中国芯片转机来了。

在整个的半导体产业链当中，每一次的突破都意味着对产业链进行提升，量变引起质变。

一项技术突破可能无关紧要，但如果产业链企业都取得巨大进展，让国产芯片迈入全新的阶段，在全球芯片行业必将占据一席之地。

国内还有海思、紫光、龙芯、长江存储等众多优秀半导体企业，有他们在，任何困难的技术都会被逐一攻克。使中国芯片彻底迎来转机，这一天一定会到来。

总结

国外有光刻机，光刻胶，而国内有冰刻机。一旦大规模实现量产，应用在实际中，可有可能提升国产芯片制造水平的。要知道就算是国外也是从无到有的过程，任何技术的领先都是靠一点一滴的积累。

我国已经定下提升芯片自产率的目标，也注重对人才培养，企业扶持的力度。期待中国芯片能取得更大的突破，不只是制造，同时也包括设计，封装等等。

对冰刻技术你有什么看法呢？

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