关键设备获突破！中电科搞定28纳米离子技术，荷兰光刻机彻底慌了

据俄塔斯社3月18日报道，17日中电科发布消息称，他们在例子注入机这个关键设备上获得突破。目前中电科已经可以提供全谱系的例子注入机，工艺覆盖28nm的产品，为国产半导体设备补上重要一块。随着半导体加工设备不断取得突破，距离我们实现芯片70%自给率的目标又前进了一部。如果我们在EUV光刻机领域在取得突破，荷兰的ASML公司估计就该慌了。

中电科在例子注入机上取得技术突破。目前中电科可以提供一系列的国产设备，包括不同要求的半导体离子注入机，最先进的工艺达到28nm。28nm的产品虽然距离7nm还有一定的距离，但是对于绝大多数的半导体产品，28nm的芯片已经足够使用，虽然不够先进，但是解决了有无的问题。接来下就是不断的改进，生产出14nm和7nm的设备。目前中电科的例子注入机已经在中芯国际等很多芯片企业投入使用，效果很不错。随着大规模投入商业应用，相信其产品的技术会越来越完善。

半导体生产设备种类非常多，目前几乎所有的领域都有企业涉足。最被外界熟知的EUV光刻机设备国内也有企业开发，上海微电子计划于今年交付首台28nmEUV光刻机。虽然在技术上与ASML有较大的差距，但已经解决了很大的问题。此外蚀刻机、光刻胶、酸洗设备、封装设备、测试设备等都有企业在开发，有些已经有成果，并投入使用中。半导体生产设备数量多并且很复杂，想要在短时间内解决所有的困境并不容易，好在这些年国家在这方面投入很大，各难点正在一个个突破中，相信慢慢会摆脱对外国设备的依赖。

目前西方国家还可以凭借技术优势对我们进行限制，但是如果技术突破，慌得就应该是他们了。国内企业有一个特点，只要实现技术突破，就能够不断的推陈出新，提高技术水平，并且还能够将产品价格白菜化。比如碳纤维领域，之前国内企业没有高端碳纤维产品，西方国家还对我们限购，这些年国内碳纤维的产量越来越高，西方国家开始主动降价，并取消限制。半导体生产设备相信也一样，目前ASML公司受到美方的限制，不想国内企业提供可以生产7nm芯片的光刻机，一旦国内企业实现突破，他们的产品估计也很难再进入国内市场。

我国对芯片的依赖很严重，之前石油是我国最大的进口商品，但近些年芯片的进口额已经超过石油。统计显示2019年国家进口石油金额2400亿美元，进口芯片达到3000亿美元左右。美方挑起贸易摩擦后，我国的芯片领域的安全也受到威胁，解决芯片自产问题已经是关系国家安全的大问题。国家提出到2025年实现芯片自给率70%的目标，就是为了解决芯片卡脖子的问题，目前很多企业和科研机构都在为整个目标努力。