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突发!ASML德国工厂起火,损失程度仍不清楚

荷兰半导体公司阿斯麦尔(ASML)周一表示,其位于德国柏林市的一家工厂发生火灾,没有人员受伤,目前要评估对营运的影响还太早。

其位于柏林市东部的工厂遭遇火灾,厂房部分区域受损,自动清洗设备喷洒了约200平方公尺的厂房。

据柏林市消防单位指称,一个自动火警系统触发了警报,消防队到达时,该栋建筑物已经清理完毕,约有80名工作人员参与灭火工作。

消防部门说,生产设备目前不可用,火灾原因和损失程度仍不清楚。

该柏林工厂名为Berliner Glas,为阿斯麦尔的光刻机系统的零件制造和供应工厂。光刻机(微影机)是用来制造IC芯片的大型机器。Berliner Glas是光学、机械及电子系统解决方案的开发商,生产的零组件包括晶圆固定工作台、光罩吸盘、反射镜。

阿斯麦尔在声明中表示,该事件是否会对今年的产出计划造成任何影响,在这个时间点上发表任何声明都为时尚早。阿斯麦尔补充说,评估损失仍要几天时间,将会尽快地公布

早前ASML CEO曾指出,疫情持续加速数字化转型,为解决芯片缺货问题,IDM厂、晶圆代工厂、存储器厂均扩大投资提高产能,且投资项目聚集在先进制程产能,进一步推动逻辑IC及DRAM的EUV设备强劲需求。ASML今年EUV设备产能约达45~50台且供不应求,明年预期将提高至55台,且都将用于生产效率提升15%的新一代NXE: 3600D曝光机,新机台在客户晶圆厂每小时曝光产量(throughput)已达160片。

根据ASML召开分析师会议中资料,随着逻辑IC制程明年跨入3纳米世代,DRAM制程微缩至14纳米以下,单片晶圆EUV曝光光罩层数正在快速提升,ASML预估先进逻辑制程晶圆2021年EUV曝光层数平均已逾10层,至2023年将增加到逾20层,EUV光刻机未来几年都会供不应求,ASML的EUV光刻机订单一路满到2025年

随着EUV光刻技术变得越来越重要,ASML的优势也越发明显。

不过,光刻机供货商除阿斯麦之外,还有日本厂商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US),这两家在深紫外线(DUV,光源波长比EUV长)的光刻技术上能与ASML竞争但ASML作为企业龙头,在DUV光刻领域,也拥有62%的市场份额

但是在EUV领域,只有ASML一家能生产。

有分析师表示,大火可能会限制ASML产量(至少在短期内),从而阻碍计划中的晶圆代工生产。

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20220104A03VNQ00?refer=cp_1026
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