事关国产EUV光刻机，ASML正式发话

事关国产EUV光刻机

在2019年华为事件发生后，高度国产化的半导体芯片产业链发展被提上了日程，也是从这一刻开始，外界逐渐清晰地了解到，芯片事业的发展是一个极为复杂的过程，其中更是被划分为芯片设计、芯片制造、芯片封装三大过程，其中芯片设计阶段又涵盖了芯片指令集架构以及指令集架构的生态建设，和芯片设计软件EDA软件的开发。

而芯片制造阶段则更为复杂，涵盖了芯片蚀刻、芯片光刻，其中又有蚀刻机、光刻机、半导体用光刻胶等硬件产品的参与。相比之下，芯片封装阶段则要简单很多。

如今在芯片指令集架构方面，龙芯中科已经开发出了100%纯国产的LoongArch架构，另外华为等公司还对开源指令集架构RISC-V有了突破，而EDA软件方面，通过国内多家上市公司的努力，EDA软件也是收获颇丰。

芯片制造阶段同样如此，蚀刻机我国已经做到了全球领先水平，半导体用光刻胶方面晶瑞股份等企业也有了诸多建树，唯一还存在短板的几乎可以说是只剩下了高精度EUV光刻机，这是目前唯一算是制约着我国芯片技术发展的机器了。

虽然说中科院和清华大学在EUV光刻机方面已经有了很大的突破性进展，但是短期内想要完全实现突破，难度还是很大的，而在这个阶段里，全球唯一一家有能力生产制造高精度EUV光刻机的企业ASML公司在近日正式发话了，而发话的内容也是事关我国国产EUV光刻机的突破。

语无伦次

根据路透社方面报道的内容显示，ASML首席执行官表示，ASML当下还没有获得向我国出口EUV光刻机的许可，同时他还表示，我国不太可能独立复制顶级光刻机技术，因为ASML依赖于“不懈创新”，并且一些组件只能从非中国供应商处获得。

这话一出，似乎是意味着ASML公司的首席执行官已经断定我国无法自主完成EUV光刻机技术的突破，但是偏偏这位CEO在后面又补了一句，“我不是说不能，因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远，他们一定会尝试的”。

面对他的这番说辞，国内网友也是纷纷表示，“语无伦次，一方面说我们不可能独立制造EUV光刻机，另一方面又说不是不可能，到底能表达个什么”。

不错，ASML首席执行官的这番言论的确是显得语无伦次，估计他自己心里也已经没底了，一方面我国在技术领域的突破是有目共睹的，我国正在不断创造一个又一个不可能的奇迹，另一方面他又害怕我国独立研制出EUV光刻机后，ASML公司的垄断地位不保。

但是，需要注意的是，不管ASML公司到底在担心什么，或者是到底在打什么主意，我国对于EUV光刻机的研发是绝对不会停止的，而这并不是ASML公司CEO所说的我们会尝试，而是我们一定会去努力突破，或者可以说是必须突破。

总结

至于ASML公司CEO所说的我们无法复制EUV光刻机的说法，网友也是给了回复的，因为当年我国在进行盾构机技术研发时，欧美企业也是信誓旦旦的告诉我们，我们不可能完成突破，结果我们不光完成了盾构机的突破，还做到了技术上对于欧美盾构机的超越。

虽然说EUV光刻机的工艺更加复杂，需要的供应链也更加庞杂，但是这并不会难倒我们，毕竟我国企业最善于创造奇迹。

你怎么看待ASML公司的说法呢？