美光解散上海DRAM设计团队，业内人士称可能是为防止技术外泄

鞭牛士 1月25日消息，据集微网报道，有业内有消息指出，美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心，并挑选了40多位核心研发人员提供技术移民美国的资格。

针对上述消息，在集微网向多位美光前员工与在职员工求证后获悉，美光此次并非解散整个上海研发中心，而是仅仅解散了DRAM设计部门，该部门总人数超过100人。除了该团队，美光上海研发中心还包括销售、测试等多个部门。

另外，美光目前在西安的工厂也不会发生其他异动，该厂主要开展集成电路装配与测试以及DRAM模块制造。

美光员工告诉集微网，上海的DRAM设计团队的解散将于今年内完成，公司提供技术移民美国资格的消息属实，部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国，目前仍无法确定有多少员工会选择移民。

据一位前美光员工透露，美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。

某半导体行业高管评论称，美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑，虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少，但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商，而且现有的DRAM企业也正求贤若渴，美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。

该行业高管还指出，美光对知识产权保护的重视程度由来已久，此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭。不过在2021年11月26日，美光与联电共同宣布达成全球和解协议，将各自撤回向对方提出的诉讼，联电将向美光一次支付金额保密的和解金，双方在声明中均称，期待未来达成共同的商业合作机会。

美光在该知识产权诉讼结束时就曾强调，知识产权保护是美光赖以保持竞争力的重要基石。

市场调研公司Counterpoint报告显示，三星以41.5%的市场份额居市场首位，SK海力士市占率29.3%排第二，美光则为23.4%居第三，前三大厂合计攻占DRAM市场94.2%。