ASML没想到！30年所依赖的关键，北大实现突破还更加先进

芯片的重要性不用再说，一直被称为“现代工业的粮食”。而芯片制造却离不开光刻机，因为芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤“光刻”需要光刻机来完成。

光刻机又被称为“现代光学工业之花”，可见其制造难度有多大。目前，全球也仅有三个国家、四家公司能够制造，而ASML一家就占据了光刻机市场80%的份额。

不过，ASML没想到的是，30年所依赖的关键，北大却实现突破，还更加先进！

日本的尼康和佳能曾经非常领先，但后来被ASML给超越，现在只能生产中低端的光刻机。还有我国的上海微电子，封测光刻机做得不错，但前道光刻机还有差距。

荷兰ASML能够成为光刻机领域霸主，主要还是因为独家能够生产EUV光刻机。

光刻机仅有这四家公司能够制造，主要还是因为科技含量高、制造够复杂。仅ASML一款EUV光刻机就需要10万多个元器件，来自全球35个国家5000多家企业。

可见，制造EUV光刻机有多么不容易，但也别被吓到了，其实只有三大核心组件最为关键，就是双工件台、极紫外光源和镜头。解决了这三个，制造EUV问题就不大了。

双工件台是精密仪器制造技术，之前是ASML独家掌握的技术，但清华旗下的华卓精科已经实现了突破，成为全球第二家掌握此项技术的公司，并已供货上海微电子。

极紫外光源是顶级的光源，ASML2012年通过收购美企Cymer，才掌握了此项技术。

最重要的就是镜头需要高精度，这个被德国蔡司垄断，ASML也要从它家购买。其实，EUV光刻机这三大核心组件，国内都已经有所突破，只是精度上面还有些差距。

而对于ASML来说，三大核心组件已经自己掌握了两种，镜头还要依赖德国蔡司，并且这还是EUV光刻机中的关键。问题是，30多年来，ASML的依赖越来越严重。

ASML从做光刻机开始，就只能从蔡司购买镜头，因为也只有他家能够做出来。

除了蔡司，就是只有日本的佳能、尼康能够做，并且只有蔡司的水平最高。但蔡司也很牛，起初ASML想要定制，被蔡司拒绝了，只能使用人家制作的非定制的镜头。

因为得不到合适镜头，ASML还差点倒闭，在资本输血下才延续下来。后来，ASML的CEO亲自去蔡司沟通，但蔡司当时也做不出定制的，不过最终还是交付了镜头。

这之后，两家才开始友好合作，ASML也开始崛起，但也更加依赖蔡司的镜头。

如今，ASML想要研发更先进的EUV光刻机，就需要更大数值孔径的镜头。当然，这还是要依赖蔡司，但这对蔡司来说也是个挑战，毕竟数值越大制作难度就越大。

EUV光学镜头由于技术壁垒高、突破难度大，目前也只有德国蔡司一家掌握。然而，因为都是欧洲企业，ASML可以依赖，我们却不能，还是因为《瓦森纳协议》。

那么，我们对此就没有办法了吗？当然不是，近日，北京大学传来了好消息。

据了解，北京大学电子显微镜实验室高鹏研究员的研究组，已经成功掌握了扫描透射电子显微镜技术，还被《半导体学报》列为2021年度中国半导体十大研究进展。

北大掌握的扫描透射电子显微镜技术，是基于扫描电子显微镜发展的四维电子能量损失谱技术，与传统的谱学手段相比，准确性、灵活性更高，未来的发展空间更大。

简单说吧，这项突破给实现国产EUV光刻机提供了更大可能，多了一个选择。

德国蔡司是人工打磨，属于传统谱学制成的EUV光镜。而EUV光镜决定着EUV光刻机的制程上限，即使是非常厉害的蔡司，向更高精度发展，也会越来越难以保证。

而北大掌握的电镜技术，就可以规避传统光谱镜头的局限性，能向更高精度发展。

再加上长春光机所突破的极紫外光源技术、清华助力华卓精科的双工件台技术等等，围绕EUV光刻机的相关技术正在陆续突破，接下就是提高精度，实现合围了。

国内光刻机技术的陆续突破，主要源于我们早就布局，并不是近年来才起步。其实，这跟我们的芯片产业链一样，各项技术环节都在攻坚，相信一定能够实现突破。

这也是为什么最近ASML不淡定了，还表示大陆会尝试，并不是完全不可能！