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韩媒:韩国芯片制造商将减少对EUV工艺的核心溶剂进口

集微网消息,据韩媒The Korea Economic Daily Global Edition报道,韩国芯片制造商预计将减少对EUV工艺核心溶剂的进口,因为当地公司已成功大规模生产该材料。

Jaewon Industrial工厂

图源:The Korea Economic Daily Global Edition

据行业内消息人士称,石化和电子材料制造商Jaewon Industrial Co.实现了丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)的商业化,PGMEA是半导体行业常用的一种溶剂,用于在硅晶圆上应用表面粘合剂。

Jaewon表示,该公司是第一家大规模生产PGMEA的韩国公司,尽管一些公司已经成功开发了这种溶剂。

PGMEA由半导体用稀释剂制成,在EUV曝光过程中清洗没有EUV光敏反应的部件上的光刻胶。当在曝光过程之前将其应用于晶圆时,该溶剂还有助于以较少的量均匀分布感光材料。

通过EUV工艺制造的半导体具有非常精细的电路,因此非常小的杂质就会降低产量。EUV工艺需要纯度为99.999%或更高的PGMEA。

日本制造商如大赛璐(Daicel Corp.)一直在生产这种纯PGMEA方面占主导地位,而韩国公司以前拥有的技术只是提高PGMEA的纯度,而不是将丙二醇单甲醚(PGME)合成为PGMEA。

Jaewon于2018年开发了自己的PGMEA合成技术。该公司去年将PGMEA产能扩大到3万吨以进行大规模生产。

该公司预计韩国芯片制造商将在上半年开始将其PGMEA用于EUV工艺,从而每年减少约1000亿韩元(8370万美元)的溶剂进口。

一位公司消息人士称,成立于1987年的Jaewon将考虑在美国生产PGMEA,并将在美国建立电池材料工厂。

(校对/Ukyan)

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  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20220221A054RV00?refer=cp_1026
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