上海新阳：用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液已实现销售

集微网消息(文/吴嘉熙）3月8日，上海新阳在投资者互动平台表示，公司用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液为承担的国家科技项目原创产品。该产品已实现销售，为我国发展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。随着市场及客户需求的增加，上海新阳也将持续开发更高等级的蚀刻液产品。

上海新阳还在平台表示，公司ArF光刻胶尚在认证。EUV光刻胶尚在研发阶段。上海新阳与贺立氏集团的合作主要是光刻胶原材料开发等相关产品，通过双方各自在产品领域内的优势互补及早实现光刻胶产品国产化的自主可控。

据悉，上海新阳迄今承担国家02专项研发项目有：“65-45nm芯片铜互连超高纯电镀液及添加剂研发和产业化”、“20-14nm先导产品工艺开发”项目任务课题“高速自动电镀线研发与产业”项目、“铜互连电镀工艺技术及产品的研发”等。

资料显示，上海新阳目前主要从事两类业务：一类是集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研发、生产、销售和服务，并为客户提供整体化解决方案；另一类是环保型、功能性涂料的研发、生产及相关服务业务，并为客户提供专业的整体涂装业务解决方案。其主要产品是半导体晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂、半导体晶圆制造用清洗剂、半导体封装用电子化学材料、半导体制造用高端光刻胶产品、半导体配套设备产品。

（校对/Andy）