十年研发经费才6亿，却造出“国产”先进光刻机！每一步都不容易

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导读：十年研发经费才6亿，却造出“国产”先进光刻机！每一步都不容易！

众所周知，半导体集成电路芯片是现代科技领域发展的核心之一；现在我们所使用的大多数科技产品都需要有芯片的支持才行，中国作为全球第一大的生产制造基地，我国自然也就成为了全球最大的芯片消费市场；不过值得一提的是，我国虽然是全球第一大芯片消费国，但是我国在芯片领域的研发和生产却十分的落后，在华为被卡脖子发展以后，才让我们开始彻底的重视起半导体集成电路产业的发展！

目前困扰我们的主要是在芯片生产制造领域，因为我们缺乏先进的光刻机，所以也一直都无法生产出先进的芯片来，而光刻机是我们生产和制造芯片的关键机器，我们要想在芯片领域不被人卡脖子发展，那么就必须要先解决光刻机等卡脖子的技术难题才行；而在光刻机领域，几乎都被荷兰ASML公司所垄断，在西方国家的“瓦森纳”协议的限制之下，荷兰ASML公司生产的EUV光刻机也无法对我们自由出货！

打破光刻机的短板也已经成为了我们迫在眉睫的事情；在国内也有一些光刻机的头部玩家一直在不断地为此努力着；实际上，早在10年前，我国的科研团队就已经开始在光刻机领域进行研发和探索，尽管说相关的技术早已经被封锁，但是我们也还在在摸着石头过河，而且早年间，光刻机等产品并不是太被人所重视，所以国内科研团队的研发经费也并不充足，十年研发经费才6亿，但我们却造出了“国产”先进光刻机！每一步都不容易！

此前，我国在光刻机领域曾而接近过国际水平，但是随着国内科技产业快速发展起来以后，我们对芯片的需求也进一步加大，这时候国内开始响起了“造不如买”的声音，因为光刻机的研发又是“重资产”领域的投入，不仅需要大量的研发资金支持，而且投资周期长，见效也比较慢，所以很多科技企业都不愿意研发光刻机，直接选择从国外购买光刻机甚至是芯片，这样既省钱，又来的比较快，所以也就让我们在光刻机领域变得落后起来！

不过，在国内还是有一些企业一直在光刻机领域咬牙坚持，其中上海微电子在光刻机领域就研究多年，并研发出了制程工艺达90nm的国产先进光刻机；要知道，上海微电子在过去十年的时间里，研发经费只有6亿左右，与国外相比，差了很远，但是我们依靠着坚持不懈的努力，还是造出了“国产”先进光刻机，这其中每一步都走的很不容易，但是我们还是坚持了下来！

目前，全球最先进的是荷兰ASML公司所生产的EUV光刻机，这一光刻机产品可以生产7nm以下的芯片，而国内的先进光刻机制程工艺只有90nm，与ASML公司相比，我们依然还有一定的差距，但是在短短的时间里，没钱没技术，我们完全靠着摸石头过河取得这样的成绩，已经很了不起了；早在2002年的时候，国内就已经造出了第一台光刻机产品；虽然说这中间遭到了“造不如买”思想的影响，让我国在这一领域停滞不前，但是现在我们又开始重新觉醒，相信要不了多久，我们就能在这一领域取得突破，并打破西方国家的控制，未来的每一步仍然将很不容易，但只要敢于突破和创新，那么成功只是时间问题！