北大立功了，突破光子芯片重要研究，ASML也没料到

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现如今光子芯片已经成为一大话题焦点。荷兰已经打算进军光子芯片，而国内也传出好消息，北大突破了光子芯片的重要研究。

北大取得了怎样的突破呢？ASML作为传统工艺的光刻机厂商，在面对光子芯片的发展，可能会面临不定的市场局面。业内传出ASML新一代的NA EUV即将在明年亮相，能扭转局势吗？

北斗突破光子芯片重要研究

芯片产业遵循传统的硅基芯片发展，所有的产业链布局都是围绕硅基芯片展开的。用硅作为基础材料，延伸到后续的晶圆制造、硅片加工、封装测试等等都可以归纳为硅基产业链，但是硅基芯片并非唯一的芯片路径。

半导体行业根据不同的材料，探索出不一样的芯片发展方向。比如用石墨烯制造碳基芯片，用氮化镓制造功率半导体芯片。

哪怕是在同样的硅基材料上，也能挖掘出新型的光子芯片，开发出全新的集成芯片系统。荷兰已经打算投入11亿欧元用于光子芯片的研究，培育硅光子产业，加速发展。但是国内也对光子芯片展开深入研究，并且传来了好消息。

根据北大官网公开的消息，北大王兴军教授研究团队历时三年，成功取得了光子集成芯片和微系列领域的重大突破。

北大立功了，这是国内光子芯片领域研究的一大突破进展，而取得的突破意义也是重大的。在这些光子芯片研究成果的基础上，未来或可用于光计算、自动驾驶、数据中心等领域。

其实半导体行业对光子芯片的研究并不是一时兴起，仔细查阅可以发现过去几十年来都有类似的研究报告。但是直到这些年，与光子芯片的业内消息传得越来越频繁，这说明很多国家的研究机构都开始将光子芯片的位置给摆正了。

尽管光子芯片也是基于硅基材料，但由于光子的特性比电子更有优势，传输速度，数据处理能力和信息容量等等都极具前景。

只是由于光子芯片的研究难度不小，若使用别的材料未必能支持光子运转。而硅基材料又不具备发光的问题，但硅基材料毕竟有成熟的产业链支撑，可以给研究成果从理论走向实践提供更好的支持。

因此各国研究机构都陷入一个世界级性能，那就是如何让不发光的硅材料可以实现硅基激光器的突破，让光子芯片实现多路并行的硅基光源。这样的难题困扰了世界各大研究机构很多年，迟迟未能突破。

终于北大传来了好消息，王兴军教授带领团队最终实现了光子集成系统的高效并行，为国产硅基光子芯片的研究迈出了重要一步。

传ASML新一代NA EUV光刻机明年亮相，能扭转局势吗？

业内关注光子芯片的研究进展还有另一个侧重点，那就是光子芯片的出现，会不会打破ASML在传统芯片制造领域的优势地位。

如果光子芯片成为未来的主要发展方向，并且对高端光刻机没有太大的依赖，那ASML费力研究顶级EUV光刻机，又能发挥出怎样的作用？

如果光子芯片还是离不开顶级EUV光刻机的支持，那么传ASML新一代NA EUV光刻机明年亮相，能扭转局势吗？

相信这些问题是许多人感到好奇的，光子芯片能否打破ASML传统优势地位，还需不需要用上光刻机等等。

其实解释这些问题是有迹可循的。前面提到现有的产业链都是围绕硅基芯片进行的，在硅基材料的基础上建立出成熟发展的产业链。而光子芯片的本身也是采用硅基材料，这点在北大的突破报道中有明确提到。

既然也是硅材料，那生产制造光子芯片想必就离不开光刻机的使用。如此，也就无法打破ASML的传统优势地位。不过根据光子传输速度快于电子的表现来看，是否会用上顶级光刻机，就不好说了。

若普通的光子芯片也能实现高端硅基电子芯片的性能，怕是一般的国产光刻机也有望步入到全新的台阶。

而业内传出消息，ASML研发下一代的NA EUV光刻机会在2023年亮相，这台全新的NA EUV光刻机不仅采用高数值孔径系统设计而成，而且起步售价高达26亿人民币。如此先进的设备，能助力ASML扭转局势吗？

这就需要看ASML到时候掌握的NA EUV光刻机产能了，以及光子芯片产业是否步入到商用阶段。如果光子芯片形成全新的产业链，而且价值优于电子芯片，那ASML就得寻找更多的新一代光刻机客户了。

只有确保产出的光刻机都进入到市场，ASML才有可能维持现状。

总结

ASML也没料到中国光子芯片研究突破进展这么快，如果继续保持这种趋势，就算光子芯片离不开光刻机。但是以国产光刻机将来的进步水准，也有可能给光子芯片带来广阔的赛道空间，就让我们拭目以待。

对此，你有什么看法呢？

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