南大光电193nm光刻胶通过客户验证，打破日美垄断，量产筹备中

众所周知，光刻机是芯片制造的关键设备，没有它很难制造出高端芯片。但是，在芯片制造环节当中，除了光刻机设备之外，先进的材料也很关键。比如，光刻胶就是一个重要的先进辅材，它可以决定着芯片的良品率和性能表现。

以往，日美企业垄断了超过80%的光刻胶市场，而中企也饱受了卡脖子之痛。如今，南大光电193nm Arf光刻胶已通过两家客户验证，这有何重大意义？

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南大光电Arf光刻胶通过客户验证

近日，网上传出一条信息称，南大光电的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证，目前多款产品正在多家客户同时进行认证。

11月26日，笔者在南大光电官网公开的信息中证实，其研发的193nm ArF光刻胶已通过存储、逻辑两家芯片制造企业验证，成为国内首个通过验证的ArF光刻胶产品。并且，南大光电还表示称，193nm ArF光刻胶量产筹备中。

其实，南大光电早已在布局该领域，前不久，南大光电还获得了小批量的ArF光刻胶订单，另外还建成了两条生产线，总计产能达到了25吨。如今，又进一步证实193nm ArF光刻胶产品得到了客户验证，说明其自研的光刻胶得到了市场认可。

这有什么重大意义？

首先，我们来了解一下193nm ArF光刻胶，它能干什么。

光刻胶是半导体图形化工艺的关键材料，在半导体产业制造中成本占比约为12%，其重要性不言而喻。而193nm ArF光刻胶则是属于高端光刻胶范畴，这里的193nm是波长，而不是芯片工艺。

193nm ArF光刻胶适用IC制程技术节点：65-130nm（干法）和45nm/32nm（浸润法），经过多次曝光，可以用于一代7nm芯片制程。因此，如果南大光电193nm ArF光刻胶实现量产，对28nm以下的先进制程的生产，是有足够的帮助。

​其次，此光刻胶的验证成功，有利于打破日美企业的垄断。

据数据显示，2021年全球光刻胶市场份额中，日企（东京应化、JSR、住友化学及富士胶片等）市占率合计达到 60%，美国陶氏化学市占率 17%。而ArF光刻胶几乎是日企占据了主导地位。

在国内的ArF光刻胶没研发出来时，国内科企几乎要进口，有被日美企卡脖子的可能。如今，南大光电的193nm ArF光刻胶得以验证，可以减轻对日美企业的依赖，甚至打破日美企业的垄断地位。

​最后，市场前景广泛，ArF光刻胶的研发成功也有利于产业发展。

据Reportlinker 数据，全球光刻胶市场预计2019-2026年平均年增速有望达到 6.3%，到2026年全球市场规模有望超过120 亿美元。

这么大的市场规模，如果南大光电的193nm ArF光刻胶参与进来，会得到不错的营收效益。而且，光刻胶暂无潜在替代产品，对光引发剂、树脂、溶剂等原材料质量要求高，下游厂商需求也大，ArF光刻胶能量产对促进产业链的发展十分有利。

如果再看半导体产业规律，光刻胶已提前做好了技术铺垫，那么后续所对应的光刻机的出现也就不远了。未来28nm光刻设备也会逐一突破，而事实上，国内对于该设备的研发进度也相当不错了。

​结束语

南大光电的​193nm ArF光刻胶得以验证，是国企在该领域里从0到1的重大突破，也是高端光刻胶国产化重要一步。并且，它不仅可以打破日美企业的垄断，也有利于产业链的良好发展。

未来，国内科企只要持续坚持自主研发，半导体行业核心技术都会一一攻关，那时候我们将拥有更多主动权。

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