关于国产光刻机，两位专家发表了截然相反看法，谁是谁非引发争议

对华为的芯片禁令，让我们认识到了国内芯片产业链的重要性，而这其中最为重要的一环就是光刻机。虽然在我们的认识中，国内光刻机比较落后，但值得庆幸的是，我国是全球三个能够制造光刻机的国家之一，这可以说是相当了不起！

国产光刻机：错失了发展好时机

我国的上海微电子目前只能生产90nm低端光刻机，荷兰ASML能够生产EUV高端光刻机和DUV中端光刻机，日本的尼康、佳能只能生产中低端光刻机。

除了这三个国家，即使在半导体领域占有较大份额的老美也生产不了光刻机，但却能够控制生产光刻机的荷兰ASML。主要是因为：一方面老美通过资本控制，另一方面还掌握光刻机最关键的一个核心元件，也就是高端激光光源的生产。

其实，关于光刻机技术的起源，我国并不晚，甚至当时处于世界第一梯队。我国的某知名大学精密仪表系，早在1971年就成功研制出了“激光干涉定位自动分步重复照相机”，这就是前道步进光刻机原型，当时荷兰ASML还没有成立。

日本的公司还在琢磨如何提高胶卷技术，可以说我国当时的光刻技术非常先进，因为当时国内的激光技术已经是世界一流。然而遗憾的是，这些重大新发明没有向应用领域发展，接着“造不如买”的思潮兴起，导致国产光刻机错失了发展良机。

北大教授：三年国内突破光刻机

虽然错失了发展的好时机，但我们也早就醒悟，也一直在不断努力。像国内的光刻机生产企业上海微电子，目前已经拥有2400多项专利技术。在国内中高端封装光刻机及LED光刻机市场，上海微电子已经占据了80%的市场份额。

然而，在生产芯片用的IC前道光刻机方面，跟荷兰ASML差距还相当大，目前我们只达到90nm。但据说，近期上海微电子将推出更加先进的国产光刻机。

就在这个时候，我们的北大教授林毅夫就光刻机发表了看法，说荷兰的ASML曾说过，如果不把光刻机卖给中国，我们大概三年就会掌握这门技术。还表示，一旦我们掌握了，那么生产光刻机的成本就会低于国外，荷兰ASML就只能退出了。

这话说的倒是很提气，但笔者专门查了下这位教授，人家是经济学方面的，对半导体应该了解不多。因为之前荷兰ASML总裁说的是，差不多15年我们才会造出高端光刻机。就EUV光刻机的复杂程度来讲，我们可以看下吴汉明院士的看法。

工程院院士：突破光刻机不现实

吴汉明，中国工程院院士，微电子工艺技术专家，任过中芯国际的技术研发副总裁，还曾被选为中国国际半导体技术年会大会主席，这才是真正的芯片专家。不过，最近他关于光刻机的看法，却引发了不少争议，认为他打击了国产光刻机的信心。

吴汉明院士最近在一次会议上谈到芯片制造，说一台高端EUV光刻机价格大概是1亿多美元，内部包含有10万多个零部件，涉及的全球超过5000家的供应商，是全球化的技术结晶，让一个国家或者一个地区做一个光刻机是不现实的。

关于EUV光刻机的制造复杂性，吴汉明院士说得没错。一台EUV光刻机重达180吨，需要40个集装箱运输，仅安装调试就需要一年左右。其中，美国光源占27%，德国光学系统占14%，日本材料占27%，荷兰腔体和英国真空占32%！

虽然EUV光刻机复杂，但就我们目前面临的现实情况来看，EUV光刻机只有通过自研突破才可以，因为人家根本不会卖给我们。在这个时候，吴院士再说让一个国家去做光刻机是不现实的，就不太合时宜了，因此才会受到网友们的非议。

对于国产EUV光刻机，就目前情况看来，既不会像北大林毅夫教授说的那么快突破，也不会像吴汉明院士说的那样不太现实。因为我们不是才开始想要突破EUV光刻机，而是多年前就已经开始布局，并且在多个方面已经有所突破，具体哪些咱们就不说那么清了，以免被人惦记，再给找事。相信在我们科学家的努力下，终会突破！