国内光刻市场全面开花，ASML的改口很现实

由于起步晚、长期依赖进口等多种原因，此前我国芯片产业的自给率大约只有16%左右，这导致华为等中企被老美切断代工渠道之时，国内市场无法给予有效的帮助，只能默默忍受着“卡脖子”之痛。

光刻机作为芯片制造的核心设备，是我们最大的短板。而全球能生产EUV设备的，只有荷兰光刻巨头ASML。在我国决定自主造芯的关键时刻，ASML若是能倒向我们，那一切就都容易多了。

不过很可惜，产线上含有约20%美系技术的ASML，最终选择遵守老美所谓的出口管制规则，不向国内市场出口EUV。

没办法，我们若想实现芯片国产化，就必须先跨过“光刻藩篱”。令人气愤的是，不能给我们提供帮助的ASML，居然在此时泼来冷水，表示即便把图纸给我们，也造不出光刻机。

这显然是在打击国内市场自主研发光刻机的信心。庆幸的是，中科院、清北高校等国内科研机构并没有因此退缩，而是本着缺什么就造什么的原则，义无反顾的投入到了关键技术设备的攻关之中。

正如王传福所说，再尖端的产品也是人造的，而非神造的。既然海外能做到，那么我们就没有理由做不到，且一定要做得更好。

果然，经过一段时间的沉淀，国内市场在光刻领域开始突飞猛进、全面开花！

在高端光刻设备方面，唐传祥带领的清华科研团队突破了EUV最核心的光源技术；中科院旗下的上海“光机所”在高端光刻设备的分辨率领域，提出了具有变革性的OPC技术。

在中低端光刻设备方面，上海微电子从90nm一路研发到了28nm，且完成了技术检测与认证，预计年底前就将下线商用。值得强调的是，这款不含美系技术的光刻机，其曝光精度与ASML的DUV光刻机在同一范畴内。

我们在光刻领域所取得的研发成果，让荷兰ASML始料未及，此前泼冷水的它估计怎么也想不到，打脸居然来得这么快。

更让人始料未及的是，不看好我们能自研光刻机的ASML一改此前“看热闹”的态度，开始示好我国市场，并表示要加大投资布局，保持与中企的密切合作。

这很符合海外企业的特点，当有求于他们之时，要么打死不卖、要么哄抬物价；在我们即将量产之时，就立刻放低姿态，开始讲合作的重要性，甚至是低价倾销。

事实也的确如此，仅今年的第一季度，ASML就往国内销售了11台光刻机，而近日更是表态，要卖给我们大批光刻机，而且还是降价交易。

ASML不仅改口改得很现实，而且所做出的举动更现实。因为在我们自主可控的光刻机即将落地之时，它明白，现在如果还端着，以后可能就真的就没机会卖给我们了。

更重要的是，它想抢占国内光刻市场，从而挤压我们国产光刻企业的发展空间，以保证它在光刻领域的地位和唯一性。要知道，我国是全球最大的半导体消费市场，一旦在光刻领域实现了崛起，即便是ASML，也很难与我们抗衡。

在国内光刻市场突破瓶颈的关键时刻，ASML的转变，对国内芯片企业来说将是会是一个定力的考验。

因为与即将下线的国产光刻机相比，ASML在同一技术领域有着明显的成熟度和价格优势，芯片制造属于重资产领域，在过去，几乎多有的芯片代工巨头都是宁可花高价去买那些海外已有知名度的产品，也不愿意去冒风险去买新制造的。

因此，对于必须要用到光刻国产芯片企业来说，此时该是选好的、还是选对的呢？这是一个相当纠结的问题。

对此，若是你们，会怎么选？