龙鼎投资为高端设备领域赋能，战略投资理想晶延

集微网消息，1月16日，龙鼎投资宣布完成对理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司的战略投资，资金将用于理想晶延高端装备产品的研发及扩产，扩产项目新建海宁生产基地，实现年产高效太阳能电池镀膜设备超300台，预计年产能规模达15亿元以上。

理想晶延创立于2013年5月，是一家以化学气相沉积技术为核心，覆盖半导体及泛半导体领域的高端设备供应商，十余年致力于真空镀膜技术的研发和积累，助力高端装备国产化。理想晶延创始团队来自于美国知名半导体设备公司，并以海内外专家为核心，积极引入和培养一批经验丰富的电气、工艺、机械、软件等领域工程师，形成了跨专业、多层次的人才梯队，为公司的持续研发创新奠定了人才保障基础。

“碳达峰 碳中和”背景之下，光伏产业的发展愈发蓬勃，各项新型光伏电池技术备受关注。工信部等五部门印发《加快电力装备绿色低碳创新发展行动计划》，明确提出“推动TOPCon、HJT、IBC等晶体硅太阳能电池技术和钙钛矿、叠层电池组件技术产业化，开展新型高效低成本光伏电池技术研究和应用，开展智能光伏试点示范和行业应用“。当前，较为主流的技术路径为PERC，TOPCon、HJT、钙钛矿等下一代光伏电池技术崛起，支持政策的落地有望推动产业化进程进一步提速。

同时，光伏电池技术的更新迭代也为设备领域带来了更多机遇。

长期以来，理想晶延立足光伏新能源产业，聚焦PERC、TOPCon等电池前沿技术，成功推出系列电池生产装备，已在国内外主流光伏电池生产商处批量使用。该公司自主研制的国产首台空间型板式ALD镀膜设备，具有镀膜质量高、钝化效果好等显著特点。iALD-IV新产品完美兼容高效TOPCON电池工艺，2022年取得超过80GW电池订单，稳居市场领先地位。iALD-IV设备配套管式PECVD镀膜设备、PE-Poly Si设备、低压扩散设备等系列新产品，单双面镀膜工艺、热处理方式以及突出的设备产能，为高效TOPCon电池大规模产业化增添强劲动力。同时，理想晶延还针对钙钛矿电池叠层成功开发镀膜设备，顺利获得市场化应用。

此外，理想晶延积极布局半导体、新型显示及新材料领域高端装备，基于化学气相沉积技术，在Mini-LED显示产业、石墨烯新材料领域的应用研究也顺利推进，多元化产品布局未来可期，潜力巨大。

投资中国科技未来是龙鼎投资的核心原则，理想晶延是龙鼎投资挖掘的优质标的。龙鼎投资姚鹏认为，随着新一代光伏面板的大规模排产，在TOPcon和钙钛矿技术路径指引下，ALD薄膜沉积设备会逐步成为光伏面板生产的必备设备。奚博士所带领的团队曾主导开发了MOCVD、MCVD、ALD、PVD、EBT 等多种世界领先覆膜设备，有着卓越的产品开发实力。理想晶延产品更是涵盖了ALD、PECVD、扩散、氧化等设备，其拥有的完全自主知识产权的平板式ALD设备作为行业顶尖的技术设备，赢得了业内众多光伏面板厂的订单，包括天合、隆基、东方日升、东磁、晶澳和阿斯特等。相信在光伏行业高速发展的进程中，理想晶延凭借其ALD设备的高效率和高稳定性，会继续为客户实现增效降本，发展成为行业顶尖的高端装备研制企业。

未来，龙鼎投资将持续陪伴理想晶延成长。