新启航半导体有限公司

文章/答案/技术大牛

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LV0

发表了文章 11小时前2025-09-03 11:46:59

【新启航】碳化硅衬底 TTV 厚度测量技术的最新发展趋势与未来展望

本文聚焦碳化硅衬底晶圆总厚度变化（TTV）厚度测量技术，剖析其在精度提升、设备小型化及智能化测量等方面的最新发展趋势，并对未来在新兴应用领域的拓展及推动半导体产...

新启航半导体有限公司 11小时前2025-09-03 11:46:59

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发表了文章 2天前2025-09-01 12:07:43

碳化硅衬底 TTV 厚度测量技术的最新发展趋势与未来展望

新启航半导体有限公司 2天前2025-09-01 12:07:43

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发表了文章 8天前2025-08-26 17:02:13

碳化硅衬底 TTV 厚度测量中边缘效应的抑制方法研究

本文针对碳化硅衬底 TTV 厚度测量中存在的边缘效应问题，深入分析其产生原因，从样品处理、测量技术改进及数据处理等多维度研究抑制方法，旨在提高 TTV 测量准确...

新启航半导体有限公司 8天前2025-08-26 17:02:13

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发表了文章 9天前2025-08-25 14:15:33

如何利用 AI 算法优化碳化硅衬底 TTV 厚度测量数据处理

本文聚焦碳化硅衬底 TTV 厚度测量数据处理环节，针对传统方法的局限性，探讨 AI 算法在数据降噪、误差校正、特征提取等方面的应用，为提升数据处理效率与测量准确...

新启航半导体有限公司 9天前2025-08-25 14:15:33

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发表了文章 14天前2025-08-20 13:23:39

【新启航】探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪的操作规范与技巧

本文围绕探针式碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪，系统阐述其操作规范与实用技巧，通过规范测量流程、分享操作要点，旨在提高测量准确性与效率，为半导体制造过程中碳化硅衬...

新启航半导体有限公司 14天前2025-08-20 13:23:39

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发表了文章 16天前2025-08-18 14:52:06

【新启航】碳化硅衬底 TTV 厚度测量中表面粗糙度对结果的影响研究

本文聚焦碳化硅衬底 TTV 厚度测量过程，深入探究表面粗糙度对测量结果的影响机制，通过理论分析与实验验证，揭示表面粗糙度与测量误差的关联，为优化碳化硅衬底 TT...

新启航半导体有限公司 16天前2025-08-18 14:52:06

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发表了文章 19天前2025-08-15 12:07:27

【新启航】国产 VS 进口碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪的性价比分析

本文通过对比国产与进口碳化硅衬底 TTV 厚度测量仪在性能、价格、维护成本等方面的差异，深入分析两者的性价比，旨在为半导体制造企业及科研机构选购测量设备提供科学...

新启航半导体有限公司 19天前2025-08-15 12:07:27

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发表了文章 21天前2025-08-13 13:20:32

【新启航】《碳化硅衬底超薄化（<100μm）TTV 测量：挑战与解决方案》

我将从碳化硅衬底超薄化趋势及 TTV 测量重要性引入，分析超薄化（<100μm）带来的如衬底易变形、测量信号弱等技术挑战，再针对这些挑战提出包括改进测量方法、优...

新启航半导体有限公司 21天前2025-08-13 13:20:32

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发表了文章 22天前2025-08-12 13:31:46

激光干涉法在碳化硅衬底 TTV 厚度测量中的精度提升策略

本文针对激光干涉法在碳化硅衬底 TTV 厚度测量中存在的精度问题，深入分析影响测量精度的因素，从设备优化、环境控制、数据处理等多个维度提出精度提升策略，旨在为提...

新启航半导体有限公司 22天前2025-08-12 13:31:46

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发表了文章 23天前2025-08-11 11:30:47

【新启航】碳化硅衬底 TTV 厚度测量设备的日常维护与故障排查

本文针对碳化硅衬底 TTV 厚度测量设备，详细探讨其日常维护要点与故障排查方法，旨在通过科学的维护管理和高效的故障处理，保障测量设备的稳定性与测量结果的准确性，...

新启航半导体有限公司 23天前2025-08-11 11:30:47

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发表了文章 25天前2025-08-09 11:43:08

碳化硅衬底 TTV 厚度测量方法的优劣势对比评测

本文对碳化硅衬底 TTV 厚度测量的多种方法进行系统性研究，深入对比分析原子力显微镜测量法、光学测量法、X 射线衍射测量法等在测量精度、效率、成本等方面的优势与...

新启航半导体有限公司 25天前2025-08-09 11:43:08

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发表了文章 26天前2025-08-08 11:49:17

【新启航】如何解决碳化硅衬底 TTV 厚度测量中的各向异性干扰问题

本文针对碳化硅衬底 TTV 厚度测量中各向异性带来的干扰问题展开研究，深入分析干扰产生的机理，提出多种解决策略，旨在提高碳化硅衬底 TTV 厚度测量的准确性与可...

新启航半导体有限公司 26天前2025-08-08 11:49:17

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发表了文章 28天前2025-08-06 11:45:32

《聚氨酯垫性能优化在超薄晶圆研磨中对 TTV 的保障技术》

我将从超薄晶圆研磨面临的挑战出发，点明聚氨酯垫性能对晶圆 TTV 的关键影响，引出研究意义。接着分析聚氨酯垫性能与 TTV 的关联，阐述性能优化方向及 TTV ...

新启航半导体有限公司 28天前2025-08-06 11:45:32

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发表了文章 29天前2025-08-05 10:25:43

聚氨酯研磨垫磨损状态与晶圆 TTV 均匀性的退化机理及预警

本文围绕半导体晶圆研磨工艺，深入剖析聚氨酯研磨垫磨损状态与晶圆 TTV 均匀性的退化关系，探究其退化机理，并提出相应的预警方法，为保障晶圆研磨质量、优化研磨工艺...

新启航半导体有限公司 29天前2025-08-05 10:25:43

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发表了文章 30天前2025-08-04 10:38:00

梯度结构聚氨酯研磨垫的制备及其对晶圆 TTV 均匀性的提升

本文聚焦半导体晶圆研磨工艺，介绍梯度结构聚氨酯研磨垫的制备方法，深入探究其对晶圆总厚度变化（TTV）均匀性的提升作用，为提高晶圆研磨质量提供新的技术思路与理论依...

新启航半导体有限公司 30天前2025-08-04 10:38:00

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发表了文章 2025-07-312025-07-31 10:39:08

切割液性能智能调控系统与晶圆 TTV 预测模型的协同构建

本论文围绕超薄晶圆切割工艺，探讨切割液性能智能调控系统与晶圆 TTV 预测模型的协同构建，阐述两者协同在保障晶圆切割质量、提升 TTV 均匀性方面的重要意义，为...

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发表了文章 2025-07-302025-07-30 10:49:11

《超薄晶圆切割液性能优化与 TTV 均匀性保障技术探究》

我将围绕超薄晶圆切割液性能优化与 TTV 均匀性保障技术展开，从切割液对 TTV 影响、现有问题及优化技术等方面撰写论文。

新启航半导体有限公司 2025-07-302025-07-30 10:49:11

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发表了文章 2025-07-292025-07-29 10:50:15

切割液性能 - 切削区多物理场耦合对晶圆 TTV 均匀性的影响及调控

摘要：本文针对晶圆切割过程，研究切割液性能与切削区多物理场耦合作用对晶圆 TTV 均匀性的影响机制，并探索相应调控策略。通过分析切割液性能在热、力、流等物理场中...

新启航半导体有限公司 2025-07-292025-07-29 10:50:15

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发表了文章 2025-07-252025-07-25 10:22:22

基于纳米流体强化的切割液性能提升与晶圆 TTV 均匀性控制

摘要：本文围绕基于纳米流体强化的切割液性能提升及对晶圆 TTV 均匀性的控制展开研究。探讨纳米流体强化切割液在冷却、润滑、排屑等性能方面的提升机制，分析其对晶圆...

新启航半导体有限公司 2025-07-252025-07-25 10:22:22

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发表了文章 2025-07-242025-07-24 10:39:42

切割液多性能协同优化对晶圆 TTV 厚度均匀性的影响机制与参数设计

摘要：本文聚焦切割液多性能协同优化对晶圆 TTV 厚度均匀性的影响。深入剖析切割液冷却、润滑、排屑等性能影响晶圆 TTV 的内在机制，探索实现多性能协同优化的参...

新启航半导体有限公司 2025-07-242025-07-24 10:39:42

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