等离子清洗机技术要点讨论-1

等离子体表面处理技术

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等离子体按照传统分类方式可以分为低温和高温等离子体，其二者的区别主要在于等离子体的温度不同，等离子体的温度是依据电子和离子温度两者定义的。当二者相等时就是高温等离子体，反之是低温等离子体。相比于普通的化学反应，低温等离子体中的活性粒子活性更强种类更多，因此依赖于此活性粒子发生的化学反应会更加剧烈，更加充分。

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现有等离子清洗设备都是通过改变功率、增加清洗时间以及改变压强等方式以 影响清洗效果，针对不同的清洗设备和不同的基片，所采用的清洗工艺也存在着差别，同时在清洗过程中因为缺乏对放电腔体内部等离子特性的测量手段，所以不能定量的改变相关参数以达到最好的清洗效果。

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现有射频等离子体设备只能设定功率，并考察在一定放电功率下设备的清洗效果。而实际清洗效果是和等离子体密度，电子密度等参数直接相关的。

在现有研究手段中，因测试手段缺乏和系统理论尚存在不完善，目前还不能建立起等离子体参数与清洗效果的对应关系。在探究清洗工艺时通常需要做大量实验，对清洗之后的结果进行对比，才能得到适合自身样品合适的工艺参数。