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睐芯科技LightSense

深圳睐芯科技有限公司学习记录

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光谱分析仪器分类及研究现状

光谱分析仪器(简称“光谱仪”)主要用于科学研究和生产过程中的目标光谱成分检测分析，其产品种类多、用途范围广。国外的光谱仪厂商主要有日本的横河公司、安立公司、岛津公司，美国的VIAVI公司、安捷伦公司、赛默飞公司,加拿大EXFO公司以及德国布鲁克公司等。国内的研发生产公司主要有北京北分瑞利公司、北京普析通用仪器公司、天津港东科技公司和中电科仪器仪表有限公司等。

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2024-07-24

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光电探测器的工作特性之响应度和响应时间

大年初四，翻了书架上的这本书，分享书内两张图片——关于光电探测器的工作特性之响应度和响应时间。

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2024-07-24

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半导体的化学机械研磨抛光CMP技术

CMP 设备通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。目前集成电路组件普遍采用多层立体布线，集成电路制造的工艺环节要进行多次循环，每完成一层布线都需要对晶圆表面进行全局平坦化和除杂，从而进行下一层布线。CMP 设备在晶圆完成每层布线后实现全局纳米级平坦化与表面多余材料的高效去除，保证光刻工艺套刻精度和多层金属互联的高质量实现。

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2024-07-24

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分布式反馈（DFB）激光器

DFB激光器Distributed Feedback (DFB) Lasers,为克服FP激光器Fabry-Perot Laser的缺点而生。

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2024-07-24

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关于半导体检测量测行业的一些想法

长期关注我们的朋友已经发现了，小编比较喜欢研究半导体检测量测相关的，特别是与光学相关的知识。但公司没有马上投入很多资源去研发和推广。

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2024-07-24

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半导体器件为什么需要“外延层”

在完美的结晶基础层上构建集成电路或半导体器件是理想的。半导体制造中的外延（Epitaxy）工艺旨在在单晶衬底上生长通常约0.5至20微米的单晶精细层外延层(epilayer)。外延工艺是半导体器件制造中的重要步骤，尤其是在硅晶片制造中。

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2024-07-24

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成像光学、非成像光学和光学拓展量简介

成像光学的主要研究内容就是研究怎样的透镜（或成像系统）使像与物的一致性最高，这里一致性包含拓扑结构、几何比例和光色等方面的一致性。成像光学的根本任务是利用成像系统实现不失真或尽可能少失真的信息变换或传输。

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2024-07-24

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传统的研磨抛光工艺

上图很直观说明为什么光学透镜大多都是圆弧的：曲率中心确定，摆动半径就确定了，透镜表面的曲率半径就定了。

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2024-07-24

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简单易懂的造镜者公式

使用了许多理想化、简化和近似来完成推导，但结果是紧凑的，并且对于大多数目的来说足够准确。

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2024-07-24

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移相干涉测量的抗振技术

移相干涉术是一种高灵敏度的非接触式光学测量方法。该方法在光学表面测量、形变测量等许多方面被广泛应用。然而环境振动对该方法的测量结果可能产生不可忽视的影响，包括造成条纹抖动、干涉图模糊等现象。为了解决这个问题，提高移相干涉测量结果的稳定性，干涉测量中的抗振技术应运而生。按照抗振方式不同可将移相干涉测量中的抗振方法分为主动与被动两大类，其中被动抗振包含的方法种类较多，又可分为时域移相、单帧处理与空域移相三类，主动抗振技术旨在削弱环境振动的传播，因此主要使用气浮平台、隔罩等外部设备进行抗振。如图 1 所示。

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2024-07-24

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芯片类型与技术节点

不同类型的芯片，用到的不一样的节点技术。除了逻辑芯片外，基本用不到小于28nm的技术。

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2024-07-24

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光学玻璃之光学特性

每个牌号的光学玻璃均按下表所列的光谱线给出折射率，所记载的折射率依据(4)项的色散曲线方程式计算得出。

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2024-07-24

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什么是去离子水DI water？

这几天，小编在别家的公众上学习了半导体制造所需要的空气洁净度的文章。今天拓展学习了一个半导体制造相关的知识：去离子水(Deionized water)。

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2024-07-24

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晶体缺陷crystal defects

这些缺陷会影响到晶圆制作，继而影响到集成电路与元件制作的质量。晶体缺陷常遇到的有：

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2024-07-24

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图解~高斯光速的平行和聚焦

(a)所示为束腰位于透镜焦平面的激光光束,通过透镜传播后,光束呈平行。平行光束的束腰位于透镜的另一个焦平面上。

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2024-07-24

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三种超精密光学结构表面形貌测量方法

共聚焦显微扫描技术发展于上世纪80 年代，其测量原理如图所示，激光由光源发出，经分光镜和显微物镜投射在待测品表面上，待测品表面反射回的光束沿着光路结构到达共聚焦针孔滤光片。此时，只有在待测品的表面刚好处于聚焦平面时，反射光才能穿过共聚焦针孔滤光片，被光强倍增管感应到，否则，当待测品表面处于离焦的位置时，反射光会被滤光片吸收。测量物体时，PZT 驱动物镜改变物距，调节待测品表面与焦平面的距离，越靠近焦平面，光电倍增管感应到的光信号越强。当光信号感应到达峰值时，表示待测品表面到达焦平面位置，投射在测量表面上的激光汇聚成一点，根据仪器与该测量点的数学关系可以计算该点的高度信息。对待测品上的各个点依次测量，就可以获求取待测品的整个形貌高度。

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2024-07-24

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共聚焦显微的基本原理

共聚焦显微(或共聚焦成像)，第一步，将“光源针孔”成像在表面的聚焦点上，第二步，将该聚焦点成像在“辨别针孔”上。下图阐述了共聚焦显微镜的光学原理：

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2024-07-24

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激光准直器

大多数激光器输出的激光光束都属于基模高斯光束，其在轴向的振幅遵从高斯分布，如图1-37所示。

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2024-07-24

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已经消失的光盘技术之一：蓝光~

蓝光光盘(Blu-ray Disc，也被称为 BD)系统是由Sony(索尼)公司领衔的一组公司开发的。第一份蓝光光盘技术规范于 2002年2月发布。 2003年4月在日本发布第一台蓝光光盘刻录机，2006年6月发售第一台标准蓝光播放机和光盘。

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2024-07-24

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阿贝成像原理和空间滤波

第一个步骤是通过物的衍射在物镜后焦面上形成一个初级干涉图(频谱面)；第二个步骤则把物镜后焦面上的初级干涉图复合为像。

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2024-07-24

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