5月25日消息，据俄罗斯塔斯社报道称，在CIPR 2024会议期间，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）告诉塔斯社记者，俄罗斯首台国产光刻机已经制造完成，并正在泽列诺格勒进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。
很多人知道IT男，码农。但是不知道IC是啥，IC就是做集成电路芯片的，蓦然回首本翁还是学IC出身的，IC的上一级学科叫微电子学，估计更多人不知道。以前上学的时候就好奇为啥中国的半导体行业牛人很多，比如编写半导体教科书的人很多，但是就是没啥产业，全是国外的。好一点的科研设备都是国外的，用国内的发不了论文。芯片重点缺失落后在两个方面：
1、华为高层大变动：孟晚舟升任轮值董事长，郭平卸任轮值董事转任监事会主席 2、苹果新专利获授权：可在VR中编辑3D文档 3、比亚迪半导体 IPO 审核再被“中止”，官方回应 4、vivo公开自动驾驶专利，华为以54项专利领先众手机品牌 5、蔚来汽车申请注册多个酒类商标，“NIO BAR”已注册成功 6、特斯拉上海工厂推迟复工，产能损失约 1.5 万辆 7、美国财政部将俄罗斯最大芯片制造商列入制裁名单 8、英特尔计划收购Granulate，预计今年二季度完成 9、俄罗斯计划投资5000多万，研发全新EUV光刻
11月29日，中科院光电技术研究所宣布，其承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。
据俄罗斯媒体cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻的机器成本约为500万卢布（约36.74万人民币），而外国同类产品的价值高达数十亿卢布。
经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。
时隔一年，美国再次打压华为，之后所有给华为生产芯片的代工厂只要涉及美国技术和设备，都必须经美国同意。并且，美国还在千方百计阻止“台积电”给华为供应7纳米芯片。
之前我们说过很多关于芯片的问题，这个我们需要延伸到半导体行业来说。首先半导体行业分为三个部分(也有人定义四个，咱们就大致说一下)，芯片的设计制造要经过一个非常复杂的过程，可大体分为三个阶段：前端设计（逻辑代码设计）、后端设计（布线过程）、投片生产（制芯、测试与封装）。
场景描述：据路透社消息，美国政府搞起了小动作，阻止荷兰向中国出售芯片制造技术。通过多次施压，荷兰政府不再续签 ASML 对中国出口光刻机的许可证。
杨净 明敏 发自 凹非寺 量子位 | 公众号 QbitAI 被美国全方位芯片制裁后，俄罗斯竟然要开造先进制程光刻机了？！ 是的，就是那个芯片制造中最最最核心的设备（甚至没有之一），全球仅一家公司ASML有能力生产最先进EUV级别，一台能卖好几亿元、核心技术被美国垄断的光刻机。 而且，这次俄罗斯的计划，看起来有点像那么回事—— 有人、有钱、有目标。 人，项目由有着苏联硅谷中心之称、以微电子专业见长的俄罗斯莫斯科电子技术学院 （MIET）承接。 钱，首期投资6.7亿卢布资金。 目标，挑战当前最先进的EUV（极
机器之心报道 编辑：陈萍、杜伟 实现芯片制造本地化，对任何国家而言都至关重要。 随着俄乌冲突的继续进行，英特尔、AMD、台积电等科技巨头已经停止了对俄罗斯的芯片销售，对于其半导体产业而言无疑是灭顶打击。不过，俄罗斯没有选择坐以待毙，由于无法从往常的供应商那里购得芯片，所以正在制定计划重振陷入困境的本地半导体制造。 近日，据外媒报道，俄罗斯披露了一项全新的芯片开发战略，涉及到未来 8年的巨额投资，但实现目标似乎并不那么雄心勃勃。俄罗斯希望到2030年实现28nm本地芯片制造，与之相比，台积电计划在2026年
前 言 / 2022.8.3 一波未平，一波又起，距美国众议院高票通过《芯片与科学法案》仅数日，美国就借机再度亮出了芯片这张“制裁王牌”，相关部门正在酝酿新一轮对中国芯片业的限制措施。 01 新一轮的“芯片战争” 据《联合早报》报道称，芯谋研究首席分析师顾文军表示：美国政府可能将限制从生产设备扩展到装机和维护领域，例如禁止供应商为已出口到中国的设备提供后续服务，加大设备维护和升级的难度。 此外也有消息称，美国正在收紧对中国获得先进芯片制造设备的限制，出口中国禁令覆盖的范围从最大10nm 提升至14nm。
“OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
10月14日，ASML的首席财务官Roger Dassen就向中国出口光刻机的问题发表了口头声明。他说，与中芯国际等中国客户的业务往来，表示一些情况下，出口DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。
5月30日消息，光刻机大厂ASML在imec（比利时微电子研究中心）的ITF World 2024会议上宣布，其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录，超过了两个月前创下的记录。
参加活动仪式的除了美国政府高官之外，很多业内大佬都来了。台积电创始人张忠谋之外，苹果公司CEO库克，英伟达黄仁勋，AMD苏姿丰，ASML CEO温彼得，应用材料、泛林、科磊和东京威力科创的CEO也都到场。
2019年的年底，国家给半导体设备商送了一份福利，凡是买国产半导体设备的全额返还16个点的增值税，堪称深圳房地产的双十一取消豪宅费一样，一下子便宜很多。哗啦啦的人民币，朋友圈里卖设备的大牛们奔走相告，买个炉子、光刻机、清洗槽吧。不得不承认，目前国内半导体设备的产线占有率还是很低，更多的上线靠的是价格，赔钱赚吆喝。
台积电是棋子，阿斯麦也是棋子。棋子在悲剧在于，为他人提供利用价值，自己的利益却没有人考虑。当没有利用价值的时候，就是成为弃子的时刻。这还不是最可悲的，最可悲的是，明明知道自己的价值在迅速消失，却无能为力。
3月8日消息，今日业内传出消息称，某日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求，对中国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶。
半导体材料是一类具备半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内），一般情况下导电率随温度的升高而提高。半导体材料具有热敏性、光敏性、掺杂性等特点，是用于晶圆制造和后道封装的重要材料，被广泛应用于汽车、照明、家用电器、消费电子、信息通讯等领域的集成电路或各类半导体器件中。
摩尔定律的终点是什么？随着5nm光刻技术的大规模生产和3nm的突破，摩尔定律的终结变得越来越难以捉摸。可以肯定的是，随着过程的进一步改进，其成本将成倍增加。
中国苦“芯”久矣！中国慕“光刻机”亦久矣！如果我们真的在核心技术领域取得了重大进展，那确实值得大书特书，大力报道；但如果夸大其实，自我高潮，那只能是误导群众，贻笑大方。
---- 新智元报道 编辑：袁榭 好困 【新智元导读】在芯片即将断供的眼下，俄罗斯官方开始上马各种生产国产替代品的急就章计划与项目。 台积电：预计在2026年实现2nm量产。 俄罗斯：争取在2022年搞出90nm。 斥资近2500亿人民币，8年实现28nm 在设备与资金输入被大部切断、自身的经济技术实况也越发露底的当下，俄罗斯官方在计划上马新的国产替代来源项目。 最近，俄罗斯贸易和工业部的22个工作组共同参与起草了一份，目标雄心勃勃，但资金十分有限的半导体发展计划。该文件将于2022年4月22日
3月31日消息，据路透社报道，日本政府于当地时间本周五宣布，计划限制23项半导体制造设备的出口。日本政府此举被认为是跟进美国去年10月出台的针对中国的半导体设备出口管制政策。
在过去川普任职期内，中美之间的贸易战让不少科技公司都卷入其中，总部位于荷兰的光刻机制造商ASML也是其中之一。
在半导体这个领域，中国需要挑战的是，西方上百年积累起来的工业体系。中国半导体一直是在冒着敌人的炮火匍匐前进，如今，敌人的炮火越来越凶猛。围追堵截中，谁让我“芯”痛？
“现在一定是国产芯片最好的时候，”孙超这样强调，“会有很多人跟你说，国产芯片产业有各种各样的问题，但我要告诉你，国产芯片被低估了。”
还记得研究生时期，第一次玩全定制芯片版图设计，一个搞物理学的去研究芯片设计，也是摸着石头过河，熬夜学习Cadence，完成作业。没想到最近EDA也要进入大家挣的焦点了。
2月26日，据imec（比利时微电子研究中心）官方消息，在“2024 年先进光刻 + 图案化会议上”，imec将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻而准备的计量学。imec报告了抗蚀剂和底层开发、掩模增强、光学邻近校正（OPC）开发、分辨率场拼接、减少随机故障以及改进计量和检测方面的主要成就。
中国大陆的封装技术和市场占有率还是挺高的，封装测试毕竟不需要光刻机，很多大芯片厂也会找大陆企业测试封装，毕竟成本低。
2022年12月17日，据国产半导体设备厂商芯源微电子官方微信消息，在芯源微成立满二十周年之际，其通过线上直播的方式，正式发布了前道浸没式高产能涂胶显影机新品FT（III）300。芯源微前道设计部总监、浸没式机台主设计师程虎先生详细介绍了该款机台的技术性能及客户端验证情况，公司董事长兼总裁宗润福先生等公司领导作为交流嘉宾参与了线上互动。
近年来，随着半导体尖端制程工艺越来越逼近物理极限，荷兰光刻机大厂ASML生产的EUV光刻机已经成为了继续推动晶体管微缩的关键设备，而当制程工艺进入2nm以下的埃米时代，可能就需要用到售价高达3.5亿欧元的High NA EUV（0.55NA）光刻机。
---- 新智元报道 编辑：snailnj David 【新智元导读】疫情之下，晶圆厂「造芯」受阻怎么办？别急，让光刻胶「飞一会儿」！ 全球疫情持续不退，半导体供应链产能压力都很紧张。 据华尔街日报报道，全球最大的芯片代工商台积电表示，全球芯片短缺的情况可能会持续。 台积电总裁魏哲家近日在季度业绩电话会议上说，在最近的一系列事件扰乱了全球供应链之后，台积电预计制造商将比往常更多地囤积芯片和其他零部件。 台积电表示，目前各供应商正在努力应对疫情给劳动力、零部件、原材料和芯片供应带来的限制。 的确
光刻--Photolithography；又叫图像转移，就是把工程师设计的mask图案转移到wafer上去。光刻－将掩模版上的图形转移到光刻胶上。刻蚀－将光刻胶上的图形转移到硅片上。
2月25日据媒体消息，台当局“外事部门”发表紧急声明称：台湾地区作为国际社会的民主阵营成员，对俄罗斯恃强凌弱采取军事手段解决乌克兰问题的做法表示非常遗憾，将坚定捍卫普世价值观；为此，台湾地区决定参与国际社会对俄罗斯的经济制裁，协助乌克兰局势早日恢复和平。
晶圆代工龙头台积电已经向美国政府递交意见书，希望在美国针对华为禁令的120天的宽限期之后，能够继续为华为代工芯片。另外据悉，高通也已经向美国政府递交了继续向华为供货的申请。
航空发动机一直被誉为人类顶尖工业皇冠上的明珠。但最近十年，不断挑战物理学极限的半导体光刻机，大有挑战明珠之王的趋势。
12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。
但正是这种“昆虫”实实在在地控制着科技时代的纷纭万物：手机、电脑、家居电器、汽车机械、能救命的高科技医疗器械、飞机火箭，乃至无数军工产品，都离不开芯片。
知情人士爆料，美国官员正在施压荷兰政府，将对华禁售的ASML光刻机从最先进的EUV扩展至相对成熟的DUV。光刻机是半导体制造的核心设备，研发难度较高，ASML目前是全球最大的光刻机供应商。如果荷兰政府同意该提议，这可能会对中芯国际和华虹半导体等中国芯片制造商造成不小的影响。旧款DUV光刻机，可生产7nm及以上制程工艺芯片，是制造汽车、手机、计算机乃至机器人所需的某些非先进芯片的最常用设备，在目前全球芯片短缺之际必不可少。
萧箫 鱼羊 发自 凹非寺 量子位 | 公众号 QbitAI 没想到，疫情之下本就脆弱的半导体供应链，这回因为俄乌开火雪上加霜了。 不是美日等要制裁俄罗斯，限制半导体出口的问题，而是—— 原材料恐将断供，价格危险了。 关键词是氖气。 这种惰性气体，对于半导体光刻环节至关重要，是大部分主流光刻机“光源”不可或缺的原料之一。 而乌克兰，正是全球最大的氖气出口国，其出口的氖气约占全球市场的70%。 据《科创板日报》报道，国内光刻气体标杆厂商凯美特气表示，氖气目前已涨价： 现在两三天一个价格，价格波动很大。我们通过
2022年9月14日，中共上海市委外宣办举行“奋进新征程建功新时代”党委专题系列新闻发布会首场新闻发布会。首场发布会以“强化高端产业引领，构建新型产业体系”为主题。
---- 新智元报道 编辑：David 【新智元导读】光刻机巨头ASML对华断供EUV已近3年，为何「少了张屠户，就吃带毛猪」，它究竟厉害在哪儿？ 最近，美国对华「断供EDA」的消息不断引发热议。 EDA，即电子设计自动化软件，涵盖逻辑设计、电路系统设计、系统仿真、性能分析到设计布线等一系列芯片设计自动化流程。可以说，EDA就是「芯片之母」，没有EDA，先进芯片设计就无从谈起。 实际上，在芯片设计上，西方国家对中国「卡脖子」还算是动手比较晚的，在同样关键的芯片制造上，同样的封禁政策已经持续了好几
4月8日，美国商务部宣称将7个中国超级计算机实体列入所谓管制”实体清单“。多轮的制裁让亿万中国人知道了光刻机的重要性，虽然大家对光刻机长啥样，为什么生产芯片需要它，没兴趣去了解，但一台1.2亿欧元很是吸睛，顺带着，唯一一家能生产这种顶级光刻机的公司 ASML 也由幕后推到聚光灯下。
8月8日消息，据新浪科技爆料称，中芯国际于北京新建的12英寸晶圆厂（中芯京城）的“CIM国产化项目”于近期被迫暂停，原因是该项目技术承包方——上扬软件（上海）有限公司（以下简称“上扬软件”）无法完成中芯国际的半导体CIM软件国产化需求，最终导致项目暂停。对此，上扬软件相关负责人予以了否认。
全球缺芯的大环境下，半导体领域的商战正在愈演愈烈。据外媒最新消息，韩国贸易工业与能源部（MOTIE）对当地媒体表示，全球光刻机龙头企业——阿斯麦尔（ASML）已计划在韩国办厂并打造培训中心。
从企查查可知，哈勃投资由华为投资控股有限公司全资控股，而自成立以来，哈勃投资对外的每一笔投资，都是用的华为自有资金。
中国工程院院士倪光南表示，中国完全有可能通过努力，在一个新的时期内尽快赶上，把短板弥补。“我们面临一个任务，就是要建立自己的信息技术体系，因为这个信息领域不是单项产品、单项技术，主要是要确立自己的技术体系和生态系统”，他强调，关键信息技术是要不来、买不来、讨不来的，一定要通过创新进行突破。倪光南还建议，芯片发展应利用我国的超大规模的市场优势。
这几天关于国产光刻机的报道刷爆了朋友圈，大概内容是中国院一研究组成功研制了基于表面等离子体技术（surface plama）的光刻机，其使用365nm的光源实现了20nm分辨率的光刻技术，突破了光学衍射极限。这篇笔记主要介绍下相关的技术。
众所周知，目前5nm及以下的尖端半导体制程必须要用到价格极其高昂的EUV光刻机，ASML是全球唯一的供应商。而更为尖端2nm制程的则需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻机，售价或高达4亿美元。英特尔正计划利用新一代0.55 NA EUV光刻机来开发其Intel 20A（2nm）及18A（1.8nm）制程。但是，要想实现1nm以下的更先进的制程，即便是ASML新一代0.55 NA EUV光刻机也束手无策。
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