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中美“芯片战争”再度升级,我们或将面临哪些挑战?

此外也有消息称,美国正在收紧对中国获得先进芯片制造设备的限制,出口中国禁令覆盖的范围从最大10nm 提升至14nm。...对于美国将向中国提供芯片制造设备的限制从10nm 提高到14nm 的通知,ASML 公司表示并未收到消息,尼康则表示该规定对其中国业务没有影响。...03 国内光刻机发展现状 清华曾表示:目前我国用于 14nm 及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口。...但芯片制造最关键的设备之一光刻机却依然面临着难题。 如果说芯片是现代工业文明的结晶,那么光刻机就是站在现代工业文明结晶上的皇冠。...上海微电子有关工程师也带来了喜讯,称我国用于28nm 和14nm 芯片生产的光刻机都已成功获得突破,虽“成品率还有提升空间”,但这也意味着量产在稳步推进中。

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IC是什么

大陆最大的代工厂是中芯国际,还有上海华力微电子也还不错,但技术和规模都远不及中国台湾。 不过受制于中国台湾诡谲的社会现状,台积电开始布局大陆,落户南京。...大陆的中芯国际具备28nm工艺,14nm的生产线也在路上,可惜还没盈利。大家还是愿意把这活交给台积电,台积电几乎拿下了全球70%的28nm以下代工业务。...有意思的是,2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功(核心部件进口),2010年美帝允许90nm以上设备销售给中国。...2003年上海交通大学微电子学院院长陈进教授从美国买回芯片,磨掉原有标记,作为自主研发成果,骗取无数资金和荣誉,消耗大量社会资源,影响之恶劣可谓空前!...不能光折腾电子了,为了把微电子搞起来。

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光刻机能进口了!全球最大制造商ASML回应,卖给中国DUV光刻机无需美国许可

在此之前,ASML已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设了分支机构,为客户提供服务和咨询。其中,深圳是其在亚洲最大的软件研发中心。 ASML二度示好?...他表示,根据美国现行法规,从荷兰直接出口到中国的DUV光刻机不会受到影响。 似乎,光刻机这个源头问题得到了解决,但事情远没这么简单。...高兴为时过早,DUV不是EUV,顶尖光刻机仍是问题 然而,两位高管都强调了DUV光刻机的出口,却没有提及更先进的EUV(极端紫外线)光刻机。...有网友对此消息表示:「DUV光刻机是二等品,自然不用受限。」 前不久,中芯国际曾向ASML购买了一台EUV光刻机,但却因为美国资本的阻挠,至今未收到货。 DUV光刻机与EUV光刻机什么区别?...有微电子博士解析,就这一台,还是着眼于两三代技术节点之后的产品研发(14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm)。必须要用EUV的,是5nm以及以下,直到7nm,DUV都够用。

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中芯CIM国产化项目暂停?上扬软件:未停摆,改为远程开发!

8月8日消息,据新浪科技爆料称,中芯国际于北京新建的12英寸晶圆厂(中芯京城)的“CIM国产化项目”于近期被迫暂停,原因是该项目技术承包方——上扬软件(上海)有限公司(以下简称“上扬软件”)无法完成中芯国际的半导体...以中芯国际天津T3集成电路生产线项目为例对成熟制程12英寸产线为例,这条90nm制程的12英寸产线,每1万片产能所需的主要设备数量约为高温、氧化、退火设备22台,CVD 42台,涂胶/去胶设备15台,光刻机...根据应用材料的数据,45nm晶圆厂每年的数据量在50TB左右,而28nm晶圆厂年均数据量可以达到80TB,14nm晶圆厂每年的数据量则为141TB。...2000年,上扬软件依靠最初的12名员工,顺利完成了绍兴华越微电子五寸晶圆厂MES的开发,同年在华越上线使用,2001年这套系统被用于上海新进半导体六寸线,至今仍被客户使用,这也是中国本土自主研发的用于晶圆厂流程的第一套...吕凌志博士曾表示:“人们都说光刻机很重要,但是它如果停机,只影响某一道工艺的生产,如果我们的软件停线宕机,将影响整个生产线的运营,每小时可能损失上千万,所以我们这个团队压力很大,我们一定要把软件做得非常可靠

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俄罗斯首台国产光刻机已完成制造,可生产350nm制程芯片

早在2023年,Vasily Shpak在接受媒体采访时就曾表示,2024年俄罗斯将开始生产350nm光刻机,2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。...光刻机的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。...光刻机对于半导体的生产极为重要,当前全球只有荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国的上海微电子这四家公司能够生产光刻机,但是能够生产先进制程的光刻机只有ASML、尼康和佳能能够供应。...而现在俄罗斯已经掌握了使用国外国光刻机制造65nm芯片的技术,但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的光刻机,所以俄罗斯也正在积极开发自己的光刻机。...根据此前曝光的计划,2024年俄罗斯将拨款2,114亿卢布(约合人民币166.16亿元)用于国内电子产品的开发,其将包括可以生产350nm制程芯片的光刻机,2026年将启动用于生产130nm制程芯片的光刻机

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【每日要闻】孟晚舟升任华为轮值董事长;苹果新专利获授权:可在VR中编辑3D文档

6、特斯拉上海工厂推迟复工,产能损失约 1.5 万辆 据新浪科技报道,特斯拉进一步推迟上海工厂复工,将不会在4月2日恢复生产。...此前,特斯拉计划在3月28日起暂停其位于上海的超级工厂生产活动,原计划为停产4天(3月28日至4月1日)。 对此,特斯拉尚未透露4月2日之后是否会恢复生产。...本次制裁名单中包括俄罗斯最大的芯片制造商和微电子制造、出口商米克朗(Mikron)。 据悉,俄罗斯出口的微电子产品中,Mikron占比过半。...此外,X射线光刻机相比现在的EUV光刻机还有一个优势,那就是不需要光掩模版,可以直写光刻,这也节省了一大笔费用。...正因为有这么两个特点,俄罗斯要研发的X射线光刻机优势很大,甚至被当地的媒体宣传为全球都没有的光刻机,ASML也做不到。

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全球缺芯下的中国半导体能否发力走向一线咖位

2021年的3月初,中芯国际官方通告称公司与ASML阿斯麦公司签订购买协议:2021年2月1日,中芯国际与阿斯麦上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议,金额为12亿美元。...而此次中芯国际并没有透露签订的协议具体内容,不过12亿美元的总价值不低,而目前EUV光刻机也就是1.2亿美元,或许这次购买的数量将大于10台。...说明中芯国际还是有机会得到更高精度的光刻机的。 2020年和2021年注定是不平凡的两年,美国政府在芯片领域技术对中国的封锁依旧没有任何松动。...而在本月1日,有行业分析师也发微博称,中芯国际之前一直有申请一类关键设备(用于14nm),但一次没有通过,但这次已经获得通过。...这便意味着,中芯国际能从美国购买相应的关键设备,用于14nm以及成熟芯片的制造了。

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全球最大光刻机厂CEO:拜登恐难缓解中美半导体紧张局势

近期,全球最大光刻机制造商ASML的CEO表示,即使总统换届,两国在包括光刻机在内的半导体领域,仍将出现进一步的对抗。...光刻机不仅可以用来制造芯片,还能用来制造半导体材料,测试新技术等。 可以说,拥有了最顶尖的光刻机,半导体领域的绝大多数问题都能迎刃而解。...中芯国际或与ASML进行新谈判,EUV仍是关键问题 就在今年10月份,ASML传出消息可以向中国进口光刻机。 然而,这家荷兰公司强调了DUV光刻机,而非更先进的EUV(极端紫外线)光刻机。...有网友对此消息表示:「DUV光刻机是二等品,自然不用受限。」 DUV光刻机与EUV光刻机什么区别? 中低端与高端的区别。...有微电子博士解析,就这一台,还是着眼于两三代技术节点之后的产品研发(14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm)。必须要用EUV的,是5nm以及以下,直到7nm,DUV都够用。

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业界 | 中国芯片研发新突破:全球首台超分辨光刻装备研制成功

这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。...中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。...而芯片良品率取决于晶圆厂整体水平,但加工精度完全取决于核心设备,即“光刻机”。 之前,我国在这一领域相对落后。...光刻机生产商中,荷兰阿斯麦公司(ASML)工艺最强大,但是产量不高高,无论是台积电、三星,还是英特尔,谁先买到阿斯麦的光刻机,谁就能率先具备7nm工艺。...之前,2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功,后来中国开始攻关65nm光刻机,2015年美国允许65nm以上设备销售给中国。

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中芯国际证实遭美国出口限制,将建中央仓储「囤货过冬」

中芯现在实现了14nm的量产,但14nm工艺涉及到1700多道工序,整个工艺流程的设备自给率仍然不高,主要还是依靠欧美厂商。...短期技术突围可能性较低,中芯国际道阻且长 曾几何时,对于90nm的制程工艺,全球还有20多家公司可以掌握这项技术,而到了14nm制程,全球就只剩下5家公司。...各个工艺节点和工艺及光刻机光源类型关系图 在2019年底,中芯国际已经实现了14nm工艺的量产,并且为华为部分供货给了华为。截至今年5月底的时候,官方表示产能已经达到了6000晶圆/月。...除了14nm制程之外,中芯国际还有基于14nm工艺的12nm工艺改良版,改良版工艺比14nm晶体管的尺寸微微缩小,功率降低20%,性能提升10%,错误率降低20%。...卡脖子的不止芯片,还有光刻机 对芯片生产来说,光刻机是其中最重要的设备。荷兰的ASML公司是全球最先进的光刻机设备生产商。

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中科院造出最强紫外超分辨光刻机

换句话说,我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机光刻机,那可是芯片制造的核心装备。我国一直在芯片行业受制于人,在光刻机领域更是如此,时常遭遇国外掐脖子、禁售等种种制约。...中国光刻机制造落后现状 目前国际上生产光刻机的主要厂商有荷兰的ASML、日本的尼康、佳能。其中,数ASML技术最为先进。 国内也有生产光刻机的公司,比如上海微电子装备,但技术水平远远落后于ASML。...上海微电子装备目前生产的光刻机仅能加工90纳米工艺制程芯片,这已经是国产光刻机最高水平。而ASML已经量产7纳米制程EUV光刻机,至少存在着十几年的技术差距。...另外,长江存储今年也从ASML买入一台浸润式光刻机,售价高达7200万美元。 那么,所谓的光刻机到底是啥? 光刻机原理 光刻机,芯片制造的核心设备之一。...也就是说,这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。 这台光刻机,是谁研发出来的? 中科院光电所的7年探索 ? 这台光刻机背后的研究机构是中科院光电所。

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95后up主低成本DIY纳米级光刻机!一图纸一书桌研究半年,挑战芯片制造最难环节

贵、重要、技术难攻、ASML是围绕着光刻机的关键词,光刻机制造也因此被誉为工业上的皇冠。...目前在光刻机制造赛道,全球基本只有日本和荷兰两大玩家,因为近期的芯片卡脖子事件,光刻机正成为中国目前最需要克服的尖端技术,没有之一。...正因如此,有段时间网上还流传一个段子,疫情期间,某光刻机技术大国想买我国口罩,有人大胆献上一计:拿光刻机技术来换口罩! 虽然是个玩笑,但由此可见光刻机的技术之重要,制造之艰难。...有的网友劝毕业后直接去上海微电子应聘,评论区也有博世精密大佬邀请一起合作研发~ 光刻机技术目前属于尖端技术,那是因为我们还尚未突破,一旦突破了,就不是尖端了!...目前国内最为先进的技术在上海微电子的,国产光刻机精度大约是28纳米,中芯国际目前掌握的技术为14纳米,而华为目前所需的芯片精度为5纳米和7纳米。

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目前芯片上有上亿个晶体管,是否到达极限了?

第二点芯片的制造工艺,目前高端的芯片工艺是7nm技术,已经在台积电大规模的量产,但是由于美国从中作梗,在今年还是削减了很多华为的订单,所以中国大力发展自己的光刻机制造技术已经是刻不容缓的事情了。...好在中芯国际及时的把14nm技术给攻克了,这样在中低端性能有不错的销路,台积电为了进一步拓展苹果的产能已经把华为的订单20%削减了,虽然从商业的角度上考虑这属于很正常的范畴,但是在光刻机领域却有显得不平常...芯片未来的发展趋势进一步集成化,意味着对于技术难度的要求不断在提升,国内光刻机技术一直在徘徊,好在中芯国际突破了14nm的技术壁垒,这对于长期在低端芯片上转悠的光刻机厂家来讲无疑一股振奋剂,正是由于有了...14nm技术的突破,荷兰ASML才启动了新的预售方案,光刻机由于技术的特殊性,目前在全球范围内几乎都是垄断性质的存在,中国的科技的公司一直尝试着,在这个领域有所突破但此领域由于技术之复杂一直没有真正突破

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俄罗斯自研光刻机最新进展:成本不到37万元!

俄罗斯光刻机最新进展 圣彼得堡彼得大帝理工大学(SPbPU )的专家表示,俄罗斯已经开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置,这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。...该大学代表表示,该综合体由圣彼得堡理工大学领导开发,旨在创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。第一阶段目标是开发出使用X射线光刻机,第二阶段是开发出用于硅等离子化学蚀刻的设备。...根据当时的报道,位于下诺夫哥罗德的IPF RAS 正在开发俄罗斯第一台用于生产超小纳米微电子器件的光刻装置,截止2022年10月,RAS科学家已经创建了第一个设备演示样品。...Chkhalo指出,与微电子行业最大的光刻设备制造商 ASML 的光刻机相比,下诺夫哥罗德模型中的辐射源在运行中更加紧凑。据他介绍,后一种情况极大地影响了设备的成本、尺寸和复杂性。...自研光刻胶 同样是在 2023 年 3 月,CNews撰文称,俄罗斯工贸部下令开发和开发用于微电子生产的光刻材料,特别是光刻胶的生产。该部将为这项工作支付11亿卢布。

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国产芯片失落的十年

紫光在2013年7月至2015年6月,完成展讯通信、锐迪科微电子两起并购,并收购了惠普旗下新华三集团的51%股权;同时,长电科技、国有企业建广资产管理公司也陆续发起了芯片相关收并购。...如今,中芯国际仍然是中国市场上规模最大、制程最先进的芯片制造厂商,不过,如果以中芯近期传出将于2019年下半年量产14nm工艺制程的消息看,这仍比台积电正在试产5nm制程的水平落后2代。...以被称为“集成电路最关键领域”的光刻机为例,早在20年前,即不断传出中国自主研发光刻机的各类消息,但迄今为止,仍未能生产出拥有先进制程的光刻机。...如今,上海微电子装备研制生产的光刻机,是中国本土市场制程最先进的一款机器,该光刻机能够量产的最高水平为90nm。 4、最好的时代?...芯片产业的利好消息蜂拥而至,近两年来,北京、浙江、河南、广东、上海、深圳等地,均已出台促进集成电路发展的实施意见及规划。

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中国的芯片能力强在哪、制造是不能逾越的鸿沟吗

尽管在前一段时间里中科院的光刻机技术在5nm上取得进展,但很多人没有深入去了解清楚。 激光直写光刻机由于不需要掩模板,所以非常有利于实验室环境。...目前我国芯片技术最先进的还是上海微电子的90nm技术。...放眼观望,光刻机已经成为一个高度垄断的行业,荷兰的AMSL几乎垄断了所有的高端光刻机市场,台积电、三星、intel、海力士等与荷兰的ASML形成了利益共同体。...随着,我国在光刻机领域的深入研究,必定有更多的研究成果,同时,我国在碳基芯片领域也有所突破,有望代替现在的硅基芯片。 能否弯道超车,牵涉到原材料、基础设备等。希望中国的集成电路产业变得越来越好。

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2022年半导体材料行业研究报告

目前ASML的EUV光刻机工艺制程已达到7纳米及以下,波长为13.5纳米,而中国上海微电子装备股份有限公司最先进的光刻机工艺制程为90纳米,波长约193nm。...目前中国上海新昇半导体科技有限公司已具备12英寸硅片的生产能力,并通过了上海华力微电子有限公司和中芯国际集成电路制造有限公司的供应商验证。...中国上海华虹宏力半导体制造有限公司、华微电子上海先进半导体制造股份有限公司等晶圆代工厂商在制造工艺上与国外厂商仍有差距,中国晶圆代工厂负责中低端晶圆产品生产,而高端晶圆产品代工市场被台湾台积电路制造股份有限公司...大陆IDM厂商主要有:华润微电子、士兰微、扬杰科技、苏州固锝、上海贝岭等。...中国目前仅有北京科华微电子有限公司和苏州瑞红电子化学品有限公司两家光刻胶生产企业,其中苏州瑞红生产的i线光刻胶产品已通过行业下游厂商测试,可为下游厂商供货; ⑤ 在CMP抛光液方面,安集微电子科技(上海

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十年磨一剑,光谷企业宇微光学成功研发计算光刻EDA软件

“OPC是EDA(电子设计自动化)工业软件的一种,没有这种软件,即使有光刻机,也造不出芯片。从基础研究到产业化应用,我们团队整整走了十年。十年磨一剑,就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”...2002年,从英国访学归国后不久,刘世元在学院派遣下,作为最早的几个技术骨干之一,加盟上海微电子装备有限公司(SMEE),承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务,为总体组成员、控制学科负责人...通过3年多的奋斗,他组建了SMEE第一个控制工程实验室,解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。...计算光刻OPC原理图 2005年,从上海回到学校之后,刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位:面向IC制造需求,立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。

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