麒麟1020新芯片的尺寸在5纳米级，将比我国的北斗卫星芯片还要小（北斗芯片为22nm）。而且该芯片其成本将介于苹果A14CPU和Apple ARM CPU 之间，当然在大小上也是在两者之间。...尽管在前一段时间里中科院的光刻机技术在5nm上取得进展，但很多人没有深入去了解清楚。 激光直写光刻机由于不需要掩模板，所以非常有利于实验室环境。...目前我国芯片技术最先进的还是上海微电子的90nm技术。...放眼观望，光刻机已经成为一个高度垄断的行业，荷兰的AMSL几乎垄断了所有的高端光刻机市场，台积电、三星、intel、海力士等与荷兰的ASML形成了利益共同体。...随着，我国在光刻机领域的深入研究，必定有更多的研究成果，同时，我国在碳基芯片领域也有所突破，有望代替现在的硅基芯片。 能否弯道超车，牵涉到原材料、基础设备等。希望中国的集成电路产业变得越来越好。
03 国内光刻机发展现状 清华曾表示：目前我国用于 14nm 及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口。...但芯片制造最关键的设备之一光刻机却依然面临着难题。 如果说芯片是现代工业文明的结晶，那么光刻机就是站在现代工业文明结晶上的皇冠。...此前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm 制程的芯片，而现在享誉世界的北斗全球定位导航卫星中使用的三号芯片已经成功打破了22nm 的上限。...上海微电子有关工程师也带来了喜讯，称我国用于28nm 和14nm 芯片生产的光刻机都已成功获得突破，虽“成品率还有提升空间”，但这也意味着量产在稳步推进中。
6、特斯拉上海工厂推迟复工，产能损失约 1.5 万辆 据新浪科技报道，特斯拉进一步推迟上海工厂复工，将不会在4月2日恢复生产。...此前，特斯拉计划在3月28日起暂停其位于上海的超级工厂生产活动，原计划为停产4天（3月28日至4月1日）。 对此，特斯拉尚未透露4月2日之后是否会恢复生产。...本次制裁名单中包括俄罗斯最大的芯片制造商和微电子制造、出口商米克朗（Mikron）。 据悉，俄罗斯出口的微电子产品中，Mikron占比过半。...此外，X射线光刻机相比现在的EUV光刻机还有一个优势，那就是不需要光掩模版，可以直写光刻，这也节省了一大笔费用。...正因为有这么两个特点，俄罗斯要研发的X射线光刻机优势很大，甚至被当地的媒体宣传为全球都没有的光刻机，ASML也做不到。
但是不知道IC是啥，IC就是做集成电路芯片的，蓦然回首本翁还是学IC出身的，IC的上一级学科叫微电子学，估计更多人不知道。...大陆最大的代工厂是中芯国际，还有上海华力微电子也还不错，但技术和规模都远不及中国台湾。 不过受制于中国台湾诡谲的社会现状，台积电开始布局大陆，落户南京。...有意思的是，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功(核心部件进口)，2010年美帝允许90nm以上设备销售给中国。...2003年上海交通大学微电子学院院长陈进教授从美国买回芯片，磨掉原有标记，作为自主研发成果，骗取无数资金和荣誉，消耗大量社会资源，影响之恶劣可谓空前！...不能光折腾电子了，为了把微电子搞起来。
这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。...中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。...而芯片良品率取决于晶圆厂整体水平，但加工精度完全取决于核心设备，即“光刻机”。 之前，我国在这一领域相对落后。...光刻机生产商中，荷兰阿斯麦公司(ASML)工艺最强大，但是产量不高高，无论是台积电、三星，还是英特尔，谁先买到阿斯麦的光刻机，谁就能率先具备7nm工艺。...之前，2009年上海微电子的90纳米光刻机研制成功，后来中国开始攻关65nm光刻机，2015年美国允许65nm以上设备销售给中国。
换句话说，我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。 光刻机，那可是芯片制造的核心装备。我国一直在芯片行业受制于人，在光刻机领域更是如此，时常遭遇国外掐脖子、禁售等种种制约。...中国光刻机制造落后现状 目前国际上生产光刻机的主要厂商有荷兰的ASML、日本的尼康、佳能。其中，数ASML技术最为先进。 国内也有生产光刻机的公司，比如上海微电子装备，但技术水平远远落后于ASML。...上海微电子装备目前生产的光刻机仅能加工90纳米工艺制程芯片，这已经是国产光刻机最高水平。而ASML已经量产7纳米制程EUV光刻机，至少存在着十几年的技术差距。...另外，长江存储今年也从ASML买入一台浸润式光刻机，售价高达7200万美元。 那么，所谓的光刻机到底是啥？ 光刻机原理 光刻机，芯片制造的核心设备之一。...也就是说，这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。 这台光刻机，是谁研发出来的？ 中科院光电所的7年探索 ? 这台光刻机背后的研究机构是中科院光电所。
贵、重要、技术难攻、ASML是围绕着光刻机的关键词，光刻机制造也因此被誉为工业上的皇冠。...目前在光刻机制造赛道，全球基本只有日本和荷兰两大玩家，因为近期的芯片卡脖子事件，光刻机正成为中国目前最需要克服的尖端技术，没有之一。...正因如此，有段时间网上还流传一个段子，疫情期间，某光刻机技术大国想买我国口罩，有人大胆献上一计：拿光刻机技术来换口罩！ 虽然是个玩笑，但由此可见光刻机的技术之重要，制造之艰难。...有的网友劝毕业后直接去上海微电子应聘，评论区也有博世精密大佬邀请一起合作研发~ 光刻机技术目前属于尖端技术，那是因为我们还尚未突破，一旦突破了，就不是尖端了！...目前国内最为先进的技术在上海微电子的，国产光刻机精度大约是28纳米，中芯国际目前掌握的技术为14纳米，而华为目前所需的芯片精度为5纳米和7纳米。
哗啦啦的人民币，朋友圈里卖设备的大牛们奔走相告，买个炉子、光刻机、清洗槽吧。不得不承认，目前国内半导体设备的产线占有率还是很低，更多的上线靠的是价格，赔钱赚吆喝。...根据工艺我们对比看下设备厂商分布： 说到主要设备刻蚀设备，我最早认识的是北方微电子，做刻蚀机，对标SPTS，不过后面和做炉子、CVD的七星电子合并成北方华创，股票也是一路高歌猛进，作为在北京皇城脚下的标志性半导体设备商很是夺目...光刻机和MOCVD就不得不说说上海微电子和中微半导体了。
俄罗斯光刻机最新进展 圣彼得堡彼得大帝理工大学（SPbPU ）的专家表示，俄罗斯已经开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置，这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。...该大学代表表示，该综合体由圣彼得堡理工大学领导开发，旨在创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。第一阶段目标是开发出使用X射线光刻机，第二阶段是开发出用于硅等离子化学蚀刻的设备。...根据当时的报道，位于下诺夫哥罗德的IPF RAS 正在开发俄罗斯第一台用于生产超小纳米微电子器件的光刻装置，截止2022年10月，RAS科学家已经创建了第一个设备演示样品。...Chkhalo指出，与微电子行业最大的光刻设备制造商 ASML 的光刻机相比，下诺夫哥罗德模型中的辐射源在运行中更加紧凑。据他介绍，后一种情况极大地影响了设备的成本、尺寸和复杂性。...自研光刻胶 同样是在 2023 年 3 月，CNews撰文称，俄罗斯工贸部下令开发和开发用于微电子生产的光刻材料，特别是光刻胶的生产。该部将为这项工作支付11亿卢布。
中国有自己的光刻机技术，但是距离世界顶尖水平差距还是非常明显。...做光刻机最厉害的企业属于荷兰的ASML公司，几乎全球顶端的光刻机都是他们一家来供给的，而且最高端的还不卖给中国，单单一台的价格就价值1亿美金，在全球范围内有钱都买不到的地位，这也是国内光刻机努力的对象，...说到光刻机早期中国只是在90nm上有突破，近些年中国利用紫光光源成功突破了22nm的技术壁垒，发现中国已经在这方面有了突破于是荷兰的ASML也开始答应给中国提供设备，即使同意供给肯定不是最先进的，同时也是为了抑制中国光刻机的发展...说到光刻机的最顶尖还是荷兰的ASML公司，一个光刻机只是零件就需要3万多个，而且想要购买ASML的设备，必须先要入股这家企业，这是非常独特的一种营销方式，像三星台积电都是ASML的主要客户，台积电是全球最大的芯片光刻机代工厂...如果中国拥有了真正的高端的光刻机，欧美等国家也只能拿出最新的光刻机出售给我们，并且在价位上要比之前低很多，中国改革开放以来在基础工业上有了很大的进步，但是很多稀缺行业还是处于非常落后的位置，特别是像光刻机这种高精密的仪器
“OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”...2002年，从英国访学归国后不久，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司(SMEE)，承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人...通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。...计算光刻OPC原理图 2005年，从上海回到学校之后，刘世元在摸索中逐渐找准了自己的学术定位：面向IC制造需求，立足先进光刻与纳米测量基础理论及学术前沿开展研究。
目前ASML的EUV光刻机工艺制程已达到7纳米及以下，波长为13.5纳米，而中国上海微电子装备股份有限公司最先进的光刻机工艺制程为90纳米，波长约193nm。...目前中国上海新昇半导体科技有限公司已具备12英寸硅片的生产能力，并通过了上海华力微电子有限公司和中芯国际集成电路制造有限公司的供应商验证。...中国上海华虹宏力半导体制造有限公司、华微电子、上海先进半导体制造股份有限公司等晶圆代工厂商在制造工艺上与国外厂商仍有差距，中国晶圆代工厂负责中低端晶圆产品生产，而高端晶圆产品代工市场被台湾台积电路制造股份有限公司...大陆IDM厂商主要有：华润微电子、士兰微、扬杰科技、苏州固锝、上海贝岭等。...中国目前仅有北京科华微电子有限公司和苏州瑞红电子化学品有限公司两家光刻胶生产企业，其中苏州瑞红生产的i线光刻胶产品已通过行业下游厂商测试，可为下游厂商供货； ⑤ 在CMP抛光液方面，安集微电子科技（上海
通过多次施压，荷兰政府不再续签 ASML 对中国出口光刻机的许可证。 关键词：ASML EUV 光刻机 据路透社消息，美国搞起了小动作，阻止荷兰向中国出售芯片制造技术。 美国为此进行了大量工作。...随后 EUV 光刻机的交付时间，便顺延到了 2020 年年中交付。...光刻机的稀缺与昂贵，是由于制造难度非常高。一台光刻机包含数万的零配件和多项顶尖技术，这决定了光刻机是一个需要全球合作才能成功的工业产品。 ?...光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源，ASML 的顶尖设备， 使用波长短的极紫外光，光学系统极复杂 目前，世界上几个比较大型的光刻机生产厂商，除了荷兰阿斯麦 ASML，还有日本的尼康和佳能，以及中国的上海微电子...，做的其实都是光刻机的组装工作。
如果这一计划在15年前启动，或许俄罗斯现在不会面临如此大的微电子技术威胁了。...Mikron，俄罗斯最大的芯片制造商、微电子制造商和出口商。而这也就意味着，俄罗斯芯片厂目前几乎已被全线制裁。 因此现在宣布这项光刻机计划，一方面是给俄罗斯国内注入一场强心剂。...当时，微电子技术并在热火朝天的发展。苏联国家技术委员会意识到建设微电子产业的必要性，开始大举组织研究所和工厂。 NIME就是其中之一。...在整个半导体行业中，苏联的微电子技术在全球排名第三，仅次于美国和日本。可以说，这时候的Mikron乘着时代之风快速前进。...在2012年才正式启动90nm微电子产品的生产。 自此，俄罗斯成为全球第八个拥有该技术的国家。相较于西方，已经远远落后了。 这时候，俄政府开始意识到了微电子产业的重要性。
在此之前，ASML已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设了分支机构，为客户提供服务和咨询。其中，深圳是其在亚洲最大的软件研发中心。 ASML二度示好？...他表示，根据美国现行法规，从荷兰直接出口到中国的DUV光刻机不会受到影响。 似乎，光刻机这个源头问题得到了解决，但事情远没这么简单。...高兴为时过早，DUV不是EUV，顶尖光刻机仍是问题 然而，两位高管都强调了DUV光刻机的出口，却没有提及更先进的EUV(极端紫外线)光刻机。...有网友对此消息表示：「DUV光刻机是二等品，自然不用受限。」 前不久，中芯国际曾向ASML购买了一台EUV光刻机，但却因为美国资本的阻挠，至今未收到货。 DUV光刻机与EUV光刻机什么区别？...有微电子博士解析，就这一台，还是着眼于两三代技术节点之后的产品研发（14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm）。必须要用EUV的，是5nm以及以下，直到7nm，DUV都够用。
上周，美国再次要求其“忠实的盟友”荷兰政府继续阻止阿斯麦向中国出口最先进的光刻机。这个“忠实”体现了美国高人一等的心态。对荷兰用上这个词，就知道美国只是把荷兰当做了自己的仆人或者宠物。...预计明年国产光刻机将会交付，精度足以生产28nm级别的芯片，经过多次曝光，甚至足以生产7nm级别的芯片。...台积电当年首次量产7nm就是使用的DUV光刻机经过多次曝光实现，而后来的n7+工艺，则通过引入EUV降低成本和改善良率。...这对于国产半导体设备制造商例如上海微电子不能不说是个好消息。 ? 一直以来，国产制造设备的发展差强人意，主要问题是技术刚刚实现了一点点突破，竞争对手就疯狂轻倾销，使得国内厂家叫苦不迭。...央视最新报道，EUV光刻机三大核心组件：双工件台系统、EUV光源系统、EUV光学镜头已获重大突破。不知阿斯麦还能静观其变否？
来源：Arm 目前，俄罗斯政府已经制定全新微电子开发计划的初步版本，预计到2030年投资3.19万亿卢布（约合384.3亿美元）。...俄罗斯的微电子开发计划看似包含了很多项目并设定了一些目标，但应注意到，将相当一部分重要的芯片制造完成本地化绝非易事。...俄罗斯决定从头开始造光刻机 在更早的新闻中，俄罗斯在被美国全方位芯片卡脖子后，决定从头开始造光刻机 。...据Zelenograd报道，俄罗斯政府将投资 6.7 亿卢布（约合5100万元人民币）以促进对 X 射线光刻机的研究，并号称该款光刻机工艺可以达到EUV级别。...俄罗斯关于光刻机技术的研究可追溯到1980年代中期，俄罗斯开始研发同步加速器X射线辐射源。这项技术显然是由有远见的科学家为满足微电子处理的需要而开发的，但计划并未得到实施。
最近，华为一个专利显示华为已经入局光刻机行业，并且目标直指EUV光刻机。专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，编号是CN115343915A。...另外光刻机领域除了华为，上海微电子，应该还有多家公司以及研究部门所组合的团队对于重要难点进行攻关，以加快技术脱贫的速度。而这些我们绝大多数人可能一无所知。...虽然国产光刻机的研发进度我们可能无法了解细节，但是，ASML的态度的变化，我们其实可以了解个大概。 ASML CEO曾表示，即便直接给我们图纸，我们也造不出先进光刻机。...而同样是这个彼得，近期表示如果断供中国光刻机，3年内中国将会得到这个技术。作为行业的老大，他显然会比普通人更了解竞争对手的技术水平已经到了何种地步。...事实表明，荷兰已经决定不顾美国反对，执意将DUV光刻机卖给中国。因为，如果这几年不买，以后就没有机会了。 台积电这个迁机仪式，看似每个人春风满面，背后却是美国人的霸道和台积电的无奈。
由于目前光刻机曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生...至于EUV光刻胶，由于美国的阻挠，国内目前无法进口EUV光刻机，因此国产EUV光刻胶的开发自然也无从谈起。...彤程新材 资料显示，彤程新材旗下北京科华微电子材料有限公司半导体光刻胶等业务2021年1-9月份实现业务订单销售9,375.85万元，同比增长51.6%，半导体用G/I线光刻胶产品销售额较上年同期增长61.78%...值得一提的是，在2021年11月8日，北京科华微电子材料有限公司宣布与光刻胶大厂杜邦电子与工业事业部开展一项合作计划，为中国集成电路芯片制造商提供高性能光刻材料。...上海新阳 2021年6月30日晚间，上海新阳发布公告，宣布公司自主研发的KrF （248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。
中国大陆的封装技术和市场占有率还是挺高的，封装测试毕竟不需要光刻机，很多大芯片厂也会找大陆企业测试封装，毕竟成本低。...通富微电： 通富微电专业从事集成电路封装测试，总部位于江苏南通，拥有崇川总部工厂、南通通富微电子有限公司（南通通富）、合肥通富微电子有限公司（合肥通富）、厦门通富微电子有限公司（厦门通富）、苏州通富超威半导体有限公司
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