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    一行代码解决重复点击问题

    “我的一个页面中有一个查询按钮,点击就会发出网络请求,等待返回结果后更新数据。” “这不挺好的嘛!有啥问题啊?”...“对,我也觉得没问题,但测试不按套路出牌啊,测试那边的网络不太好,她点击按钮之后由于网络比较慢就快速多点击了几下,然后。。。” “然后怎么了?ANR了吧?” “你咋知道的大哥?”...(注释的那一行代码就是禁止用户点击的),当请求完成之后再将对话框关闭。...具体操作就是定义两个变量,一个为上次点击时间,一个为点击的间隔时间。...= 1500; 在点击时进行判断就可以了,来看一下代码吧: public void btnInter(View view) { if (System.currentTimeMillis() -

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    等离子清洗机中射频等离子体的工作机理

    在现代科技的推动下,等离子体技术在各个领域中扮演着重要角色。而PLUTO-T型等离子清洗机作为其中的一员,其独特的工作机理使其成为清洗领域的一颗璀璨明星。...PLUTO-T型等离子清洗机采用射频等离子体来进行清洗工作。射频等离子体是一种高能离子化的气体,具有高温、高能的特点。其工作原理基于电离和化学反应的相互作用,通过释放大量能量来清洗物体表面。...具体来说,PLUTO-T型等离子清洗机中的射频等离子体是通过一个射频发生器产生的。该发生器会产生高频电场,将气体离子化并加热,形成高温高能的等离子体。...这些等离子体被喷射到待清洗的物体表面,通过碰撞和化学反应来去除表面的污垢和污染物。射频等离子体清洗的过程中,有两个主要的作用机制。...其工作机理的独特性使其能够应对不同类型的物体和污染物,具备广泛的适应性和应用前景。总而言之,PLUTO-T型等离子清洗机中射频等离子体通过离子轰击和化学反应的双重

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    WPF 动画实战 点击时显示圆圈淡出效果

    本文告诉大家一个有趣的动画,在鼠标点击的时候,在点击所在的点显示一个圆圈,然后这个圆圈做动画变大,但是颜色变淡的效果。...就是点击的时候,看命中到哪个元素,如果容器没有设置背景,那么这个容器就不能接收命中测试,也就是点击的时候不会判断点击到这个容器 在后台代码添加鼠标点击的代码 如何在 WPF 中显示一个圆圈?...假设此时的鼠标点击屏幕坐标是 (100,100) 而应用窗口坐标是 (10,10) 那么窗口里面的 x 元素想要知道此时鼠标点击在哪,难道还需要 x 控件自己去拿到当前窗口坐标在哪,然后换算出鼠标点击到...这样的做法太渣了,所以 WPF 框架就提供了 GetPosition 拿到相对于某个元素的鼠标点击 在拿到鼠标点击到 Canvas 的坐标时如何设置刚才创建的圆圈的坐标,可以通过 TranslateTransform...,在使用 DoubleAnimation 时将会从对应属性的当前值修改到指定值,修改的速度可以通过速度函数设置,默认使用匀速动画。

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    编码时的"五行代码"原则

    在编写高效代码时要遵循的最重要的原则之一是五行代码原则。 什么是五行代码原则? 五行代码原则是一种编程最佳实践,它强调保持函数简短的重要性。这个想法是一个函数不应超过五行代码,理想情况下甚至更短。...该原则基于以下观察:较短的函数比较长的函数更容易理解、调试和修改。通过将复杂的任务分解为一系列更短的函数,程序员可以创建更加模块化和可维护的代码。 为什么是五行代码?...,五行代码原则的主要好处 您可能想知道为什么五行代码是一个方法的良好限制。为什么不是四个、六个或十个?答案是五行代码不是一个神奇的数字,而是一个鼓励良好编码实践和习惯的指南。...以下是帮助您编写五行代码的一些技巧: 了解您的语言: 熟悉您正在使用的编程语言、它的语法、内置函数和库。这些知识可以帮助您利用语言的功能并编写高效的代码。...第 1 步:确定一个超过 5 行的函数。

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    离子注入工艺的设计与计算

    介绍工艺之前,我们先聊一下昨天一个朋友提到的日本日新的离子注入设备。日本日新是全球3大离子注入设备商之一。 1973年的时候,该公司就开始做离子注入的工艺设备。 目前的主要业务设备如上表。...详细的可以去它主页了解。 重点介绍激光领域用到的一款设备: 主要是注入H离子用的,可以达到400KeV的H+离子注入。...日新株式会社将在扬州经济技术开发区投资兴建离子注入机设备生产厂。 离子注入工艺参数 00 离子注入就像上图一样,把离子砸到晶圆中。涉及到使用的力度、数量、角度,砸进去的深度等。...因此在一锅Plasma中,一价的离子是最多的。 一般的离子注入机都有电荷的能力,原理大家可以想象高中学的什么库仑作用力吧,带的电荷不同,电磁场中获得的动量不同。...如果我们只知道需要掺杂的剂量,和离子能量,如何计算注入离子在靶材中的浓度和深度 例如一个140KeV的B+离子,注入150mm的6寸硅片上,注入剂量Q=5*1014/cm2,衬底浓度2*1016

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    WPF 点击按钮时更改按钮样式界面效果的 XAML 实现方法

    按钮样式生效,因此我将这个样式放在需要使用的容器里面,这样才不会干扰其他容器内的元素 的一个,而优先级是这样排序的 属性系统强制 活动动画或具有 Hold 行为的动画 本地值 TemplatedParent 模板属性...我特别推荐小伙伴入门的时候看 微软技术教程 - 哔哩哔哩 ( ゜- ゜)つロ 乾杯~ Bilibili 的免费教程视频,包含了这些细节 ---- 本文会经常更新,请阅读原文: https...,同时有更好的阅读体验。...欢迎转载、使用、重新发布,但务必保留文章署名林德熙(包含链接: https://blog.lindexi.com ),不得用于商业目的,基于本文修改后的作品务必以相同的许可发布。

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    等离子清洗机中氧等离子体刻蚀对石墨涂层的性能研究

    在氧等离子体轰击石墨涂层的过程中,基本的反应就是,氧等离子和石墨涂层中的表层C原子发生氧化反应,不论是生成了CO2或者CO,在等离子清洗机的反应腔内,是属于一种真空状态,所以反应的气体就会被抽离真空反应腔...,而相反各项异性水平刻蚀机制是指的是在同时刻蚀缺陷的情况下,氧等离子体刻蚀会优先寻找下层的缺陷在上层石墨涂层的缺陷被刻蚀的同时氧等离子体会优先寻找下层石墨涂层的缺陷,对于整体的石墨涂层陷刻蚀速率远大于非缺陷处的刻蚀速率...结论氧等离子刻蚀石墨涂层会使得上层石墨涂层的缺陷扩大,边界分离,粗糙度降低,还在一定程度上会给顶层的石墨涂层引入新的缺陷,这些结构变化会对石墨涂层的其他性能产生一定程度的影响,同时一定程度上证明了氧等离子刻蚀石墨涂层的刻蚀机制是一种各向异性的垂直刻蚀机制...,在这种刻蚀机制的刻蚀下,石墨涂层的氧等离子刻蚀是属于层-层-层的刻蚀,而且在接近单层刻蚀的时候,刻蚀速率降低,石墨涂层底层的缺陷也不会扩大会得到很有效的控制和保证石墨涂层的完整性,从理论上说经过可控的等离子射频功率...,等离子体的流量,一定程度上可以制备出可控缺陷的石墨涂层。

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    聊聊一行读研时最成功的投资

    大家好,我是一行 今天给大家聊聊一行在读研里最成功的投资,那必然是键盘边上的每一本技术书啦 毕竟股票、基金这种投资即使赚了钱,过段时间就得还回去,非常的神奇 但是读过的每一本技术书籍,都内化在手指上了...一行用爬虫爬取了知乎里150000字的python学习攻略 并统计分析了这些年入百万的python大佬所推荐的Python书单,按频次进行排序如下 这样在学习python的时候就不用成为一名收藏家了,...这里一行也把计算机系统相关知识放在下面,供大家学习 4Linux网络编程 记得以前在学习的编程的时候,有一门课程是从linux开始学起的 当时分享给别人的时候,总有人说我要学的是xxx语言,不要学linux...技术问答很简单,就是那些常见的编程知识和计算机系统知识,学习书籍都放在上面了 但实际上面试跟应试教育相似,少不了的就是那些常考题目,这里一行把面试Python、Java、C++的面经总结在一起,你就会发现各个语言的面试是如此的相似...90%的算法面试题 6最后 小伙伴可以在「一行玩Python」公众号后台回复「pdf」获取

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