经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。
11月29日，中科院光电技术研究所宣布，其承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。
中国苦“芯”久矣！中国慕“光刻机”亦久矣！如果我们真的在核心技术领域取得了重大进展，那确实值得大书特书，大力报道；但如果夸大其实，自我高潮，那只能是误导群众，贻笑大方。
在日前的ICCAD 2021（计算机辅助设计国际会议）上，华中科技大学的学生团队首次参赛，就拿到了EDA布局布线算法的第一。可以说我们在EDA方面后备力量上已经开始有了一些可喜的进展。
之前我们说过很多关于芯片的问题，这个我们需要延伸到半导体行业来说。首先半导体行业分为三个部分(也有人定义四个，咱们就大致说一下)，芯片的设计制造要经过一个非常复杂的过程，可大体分为三个阶段：前端设计（逻辑代码设计）、后端设计（布线过程）、投片生产（制芯、测试与封装）。
“现在一定是国产芯片最好的时候，”孙超这样强调，“会有很多人跟你说，国产芯片产业有各种各样的问题，但我要告诉你，国产芯片被低估了。”
“OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”
在半导体这个领域，中国需要挑战的是，西方上百年积累起来的工业体系。中国半导体一直是在冒着敌人的炮火匍匐前进，如今，敌人的炮火越来越凶猛。围追堵截中，谁让我“芯”痛？
要做生意，最重要的一件事，就是紧跟大势。红利来了，傻子也能躺着赚钱。红利没了，神坛说塌也就塌了。而现在，网络视听内容行业即将迎来一波巨大的红利。在5G、4K、AI、AR等技术的拉动下，未来3~5年，它将有可能成为中国一条新的“黄金赛道”。
“不锈钢能不能不生锈？”这个有点黑色幽默的问题，几乎让中国航天科技集团六院发动机专家、长征五号运载火箭副总设计师陈建华落下心病。
近年来，随着半导体尖端制程工艺越来越逼近物理极限，荷兰光刻机大厂ASML生产的EUV光刻机已经成为了继续推动晶体管微缩的关键设备，而当制程工艺进入2nm以下的埃米时代，可能就需要用到售价高达3.5亿欧元的High NA EUV（0.55NA）光刻机。
还记得研究生时期，第一次玩全定制芯片版图设计，一个搞物理学的去研究芯片设计，也是摸着石头过河，熬夜学习Cadence，完成作业。没想到最近EDA也要进入大家挣的焦点了。
在近日举行的柏林国际电子消费品展览会（IFA）上，中兴正式公布了被解禁后的首款旗舰机型，并推出了最新的“5G设备解决方案”。
当地时间4月18日，英特尔公司宣布在俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地达成了先进半导体制造领域的一个重要里程碑，完成了业界首个商用High NA（高数值孔径）极紫外（EUV）光刻机的组装。
研究资料表明，柔性电路板具有质量轻、柔软性好以及可拉伸性强等优点，在医疗电子、可穿戴设备以及航空航天等领域具有广泛的应用；近来，对柔性电路板的加工工艺进行调研，主要的过程为：将覆铜箔作为基材，通过光刻成像或者丝网印刷等方式，形成抗腐蚀图层，后续基于化学蚀刻的方法得到导电线路；近期基于课题需求，对腐蚀法相关的工艺及设备进行了详细的调研、归纳与总结，具体如下所示：
中国制造业目前已取得了举世瞩目的成就，从落后挨打，到现在巨龙腾飞，中国制造人付出了巨大心血和努力。然而不可否认的是，中国目前许多产品仍然高度依赖进口，中国制造在这些领域的研发和生产依然存在难以攻破的技术难关。
3月31日消息，据路透社报道，日本政府于当地时间本周五宣布，计划限制23项半导体制造设备的出口。日本政府此举被认为是跟进美国去年10月出台的针对中国的半导体设备出口管制政策。
2021年11月3日，全球光刻机巨头ASML全球副总裁、中国区总裁沈波接受澎湃新闻记者专访时表示，这一轮芯片扩产周期对ASML光刻机交货有所影响，有的产品交付期较以往翻倍。 ASML全球副总裁、中国区总裁沈波 沈波表示，ASML已经在扩大产能，并运用公司的安全库存提升交货，但由于产业链太长，暂时还没有办法完全满足用户需求。“但我们平等对待全球每一个客户，即使在产能上涨的情况下，也没有涨价。” 沈波同时强调，公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，在法律法规框架下全力支持。目前ASML除了EUV光刻机无法
杨净 明敏 发自 凹非寺 量子位 | 公众号 QbitAI 被美国全方位芯片制裁后，俄罗斯竟然要开造先进制程光刻机了？！ 是的，就是那个芯片制造中最最最核心的设备（甚至没有之一），全球仅一家公司ASML有能力生产最先进EUV级别，一台能卖好几亿元、核心技术被美国垄断的光刻机。 而且，这次俄罗斯的计划，看起来有点像那么回事—— 有人、有钱、有目标。 人，项目由有着苏联硅谷中心之称、以微电子专业见长的俄罗斯莫斯科电子技术学院 （MIET）承接。 钱，首期投资6.7亿卢布资金。 目标，挑战当前最先进的EUV（极
但正是这种“昆虫”实实在在地控制着科技时代的纷纭万物：手机、电脑、家居电器、汽车机械、能救命的高科技医疗器械、飞机火箭，乃至无数军工产品，都离不开芯片。
2022年半导体大会正式开启，点击图片立刻参与！ 1、美国SEC再将理想汽车、贝壳、瑞幸等17家公司列入预摘牌名单 2、中科院已停用知网：仅能看摘要，不能看论文也不能下载 3、宁德时代：2021年净利润159.31亿元，同比增长185.34% 4、缺芯有多严重？阿斯麦CEO：已经有公司买洗衣机来拆芯片了 5、知乎正式登陆港交所：首日开盘破发跌超22%，市值81.35亿港元 6、拿到 465 亿美元融资承诺函，马斯克考虑对Twitter提出收购要约 7、NASA选择6家公司共同开发太空通信业务 8、马斯克回
机器之心报道 编辑：陈萍、杜伟 实现芯片制造本地化，对任何国家而言都至关重要。 随着俄乌冲突的继续进行，英特尔、AMD、台积电等科技巨头已经停止了对俄罗斯的芯片销售，对于其半导体产业而言无疑是灭顶打击。不过，俄罗斯没有选择坐以待毙，由于无法从往常的供应商那里购得芯片，所以正在制定计划重振陷入困境的本地半导体制造。 近日，据外媒报道，俄罗斯披露了一项全新的芯片开发战略，涉及到未来 8年的巨额投资，但实现目标似乎并不那么雄心勃勃。俄罗斯希望到2030年实现28nm本地芯片制造，与之相比，台积电计划在2026年
知情人士爆料，美国官员正在施压荷兰政府，将对华禁售的ASML光刻机从最先进的EUV扩展至相对成熟的DUV。光刻机是半导体制造的核心设备，研发难度较高，ASML目前是全球最大的光刻机供应商。如果荷兰政府同意该提议，这可能会对中芯国际和华虹半导体等中国芯片制造商造成不小的影响。旧款DUV光刻机，可生产7nm及以上制程工艺芯片，是制造汽车、手机、计算机乃至机器人所需的某些非先进芯片的最常用设备，在目前全球芯片短缺之际必不可少。
摩尔定律的终点是什么？随着5nm光刻技术的大规模生产和3nm的突破，摩尔定律的终结变得越来越难以捉摸。可以肯定的是，随着过程的进一步改进，其成本将成倍增加。
---- 新智元报道 编辑：David 【新智元导读】光刻机巨头ASML对华断供EUV已近3年，为何「少了张屠户，就吃带毛猪」，它究竟厉害在哪儿？ 最近，美国对华「断供EDA」的消息不断引发热议。 EDA，即电子设计自动化软件，涵盖逻辑设计、电路系统设计、系统仿真、性能分析到设计布线等一系列芯片设计自动化流程。可以说，EDA就是「芯片之母」，没有EDA，先进芯片设计就无从谈起。 实际上，在芯片设计上，西方国家对中国「卡脖子」还算是动手比较晚的，在同样关键的芯片制造上，同样的封禁政策已经持续了好几
在8月7日举行的中国信息化百人会2020峰会上，华为消费者业务CEO余承东发表了主题为「扎扎实实、赢取下一个时代」的演讲。
在这份依据过去10年中所发表研究论文的引用率而确定的最优秀的100名材料学家榜单中，共有15位华人科学家入选，其中榜单前6位均为华人，美国加州大学伯克利分校教授杨培东位居第一。
制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，加工精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外已经做到了十几纳米。
1、马斯克登顶美国富豪榜 2、贾跃亭回应与合伙人重获FF控制权 3、库克称没有AR将无法生活 4、罗永浩卸任锤子科技集团总经理，退出集团法人 5、美国造出0.7nm芯片，EUV光刻机都做不到 6、英特尔推出数据中心GPU：Ponte Vecchio将装备在Argonne实验室上 7、零跑汽车在港IPO发行价定为每股48港元 8、推特起诉马斯克一案将于10月17日开庭，双方证词是关键 9、消息称iPhone 14需求不及预期，苹果取消今年增产计划 10、SEMI预计2022全球晶圆厂设备支出将抵近千亿美元的历
芯片产业主要的关键技术一个芯片技术，一个是生产工艺也就是讲到的光刻机技术。所谓的芯片大国需要有强大的半导体技术支撑，向美国这样的超级大国国内芯片设计和芯片加工工艺的厂家非常多，已经形成了自己一个产业，所谓的某一领域的强国一定有了非常强的产业支撑，这点美国是具备的荷兰显然是达不到的，为什么不是芯片强国荷兰的光刻机技术这么强大。
4月8日，美国商务部宣称将7个中国超级计算机实体列入所谓管制”实体清单“。多轮的制裁让亿万中国人知道了光刻机的重要性，虽然大家对光刻机长啥样，为什么生产芯片需要它，没兴趣去了解，但一台1.2亿欧元很是吸睛，顺带着，唯一一家能生产这种顶级光刻机的公司 ASML 也由幕后推到聚光灯下。
据俄罗斯媒体cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻的机器成本约为500万卢布（约36.74万人民币），而外国同类产品的价值高达数十亿卢布。
10月14日，ASML的首席财务官Roger Dassen就向中国出口光刻机的问题发表了口头声明。他说，与中芯国际等中国客户的业务往来，表示一些情况下，出口DUV（深紫外）光刻机，无需美国许可。
万博 发自 凹非寺 量子位 | 公众号 QbitAI 国内自主芯片产业，刚刚迎来一个坏消息： 美国再次向荷兰施压，阻挠芯片光刻机生产商ASML向中国出口光刻机。 这一次还不只最先进的设备，还包括了上一代采用DUV技术的光刻机，其制造能力最高可以生产7nm制程的芯片。 而可以制造5nm及以下制程芯片的EUV光刻机，早在两年前，就因为美国的施压而无法进口。 美国又搞小动作？ 消息来自彭博社，据知情人士透露，美国正在游说荷兰政府，希望全球最大的光刻机制造商ASML，禁止向中国出口光刻机。 而这一次涉及的相关技术
对于存储器产业，我们的理解盲区无处不在。很多人都知道全球DRAM产业规模在1000亿美金级别，但是应该没多少了解在25年前和4年前这个产业的规模？
“我们害怕华为站起来后，举起世界的旗帜反垄断。” 多年前，时任微软总裁史蒂夫・鲍尔默、思科 CEO 约翰・钱伯斯在和华为创始人任正非聊天时都不无担忧。
激光芯片在光通信领域的应用很广，对于通信系统，光通信是采用光作为信号媒介传播，因此激光器的稳定性、波长、半峰值等都十分关键。
在过去川普任职期内，中美之间的贸易战让不少科技公司都卷入其中，总部位于荷兰的光刻机制造商ASML也是其中之一。
但是现在，一个非常规的替代方案正在酝酿中。位于日本筑波的高能加速器研究组织（KEK）的一组研究人员认为，如果利用粒子加速器的力量，EUV光源的获取可能会更便宜、更快、更高效。
12月16日，酝酿已久的中国《小芯片接口总线技术要求》团体标准，正式通过了工信部中国电子工业标准化技术协会的审定，并已在当天举办的“第二届中国互连技术与产业大会”上向世界发布。这对中国芯片产业而言，无疑是在近期激烈的全球竞争中，迎来的最重要的一项利好。
在20世纪70年代初，荷兰飞利浦研发实验室的工程师们制造了一台机器：一台试图像印钞票一样合法赚钱的机器。但他们当时并没有意识到自己创造了一个“怪物”，这台机器在未来的20年里除了吞噬金钱没有做任何事情。
时隔一年，美国再次打压华为，之后所有给华为生产芯片的代工厂只要涉及美国技术和设备，都必须经美国同意。并且，美国还在千方百计阻止“台积电”给华为供应7纳米芯片。
5月30日消息，光刻机大厂ASML在imec（比利时微电子研究中心）的ITF World 2024会议上宣布，其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录，超过了两个月前创下的记录。
---- 新智元报道 编辑：袁榭 好困 【新智元导读】在芯片即将断供的眼下，俄罗斯官方开始上马各种生产国产替代品的急就章计划与项目。 台积电：预计在2026年实现2nm量产。 俄罗斯：争取在2022年搞出90nm。 斥资近2500亿人民币，8年实现28nm 在设备与资金输入被大部切断、自身的经济技术实况也越发露底的当下，俄罗斯官方在计划上马新的国产替代来源项目。 最近，俄罗斯贸易和工业部的22个工作组共同参与起草了一份，目标雄心勃勃，但资金十分有限的半导体发展计划。该文件将于2022年4月22日
世界首屈一指的光刻机厂商－荷兰的ASML，在8、90年代时，还是寂寂无闻的小公司，那时风头正劲的公司是日本尼康，在193纳米制程上一家独大，把所有对手按地上摩擦，占据全球光刻机市场超 50%的份额。
荷兰的ASML公司在光刻机领域是当之无愧的老大，最新的极紫外光EUV光刻机能够生产7纳米的CPU，世界上只此一家别无分号，市场份额100%。
最近，“卡脖子”成了热门话题，它确实给我们的发展增添了麻烦，连中科院都抢先表态，要把卡脖子清单变成科学院的任务清单，并引来相关争议和讨论。讨论这些问题，也许首先需要弄清到底卡的是什么脖子。
---- 新智元报道 编辑：Aeneas 好困 【新智元导读】美国要禁的A100，对科研的影响可能比想象中还大。 看得出来，今年美国的小心思多得很，对我国科技的围剿，又加紧了一步。 荷兰的ASML一早就屈服于美国的压力，禁止了极紫外光刻机（EUV）的出口，而较老的深紫外光刻（DUV）系统也差点惨遭毒手。 7月，美国国会通过《芯片与科学法案》，撒出527亿美元巨款，谁同意不资助中国，美国就帮谁在美国本土建芯片厂。随后，又两度断供针对不同工艺水平的芯片设计自动化软件（EDA）。 而就在上周，英伟达的A
那时集成电路也刚刚发明不久，光刻工艺还在微米级别，工艺步骤也比现在简单很多美国是走在世界前列的。在那个对工艺要求并不高的年代，很多半导体公司通常自己用镜头设计光刻工具，光刻机在当时甚至不如照相机的结构复杂。
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