以etch process为例，在develop一只recipe的时候，首先要知道这只recipe的目的，是etch什么材料，是etch介质 or Si or metal，是etch什么形状，是etch...via or trench or line，需要etch出的图形需要满足哪些条件，比如depth，cd，space，angle等等，这是最基本的sense，根据这些需求首先要选定etch机台，因为不同的...etch机台有不同的hardware，不同的hardware是针对不同的etch需求而设计的，比如你需要etch metal，那就不能选用于etch 介质或者Si的etch机台，反之依然。...，就拿gas来讲，etch介质的反应gas也就几种，比如c3f6，cf4，c4f8等等(非etch出身，如有错误欢迎指正)，但这些gas的配比，流量稍微变动一下，最后etch出的图形就可能发生很大的变化...，包括etch rate，etch uniformity，甚至etch之后的图形缺陷(defect)等等都可能发生很大的变化。
1、打开PCB文件，进入 Setup–User Preferences–Display–Shape_fill，设置 no_etch_shape_display或no_shape_fill，勾选就是不显示覆铜...这是勾选 no_etch_shape_display或no_shape_fill 后： ? 这是未勾选 no_etch_shape_display或no_shape_fill： ?
Length比TX+_GP0的Total Etch Length短了38.4mil。...就是指Total Etch Length； 那么，Total Etch Length是指什么呢？...下图中显示了TX-_GP0网络的Total Etch Length = 2953.4mil，就对应上图TX-_GP0的Length。...下图中显示TX+_GP0网络的Total Etch Length = 2991.7mil，就对应上上图TX+_GP0的Length。 2....Etch Length就是整个网络的长度，就是你只在Find界面勾选Nets时点击该网络得到的长度。
结合我的需求，我定下的方案是 Vercel+Hugo+Etch+Waline，一套下来，一分钱不花哦。 静态网站方案 静态网站生成器我选择了 Hugo，因为是 Go 写的，理由无它。...Hugo 主题选择 对于主题风格，我个人喜欢简洁至上，我选择的是 Etch[2] ，要更改主题，首先把你的 Hugo 站点代码 clone 到本地，然后将 Etch 代码下载到 themes 文件夹，如下...（我把默认的主题删除了，并对 Etch 进行了一些魔改）： 随后更改 config.toml 内的主题为 theme = "etch" ，其他更多的配置参考 Hugo 文档[3] 。...我这里讲讲我是如何将客户端集成到 Hugo+Etch 的。...参考资料 [1] Vercel 网站: https://vercel.com/ [2] Etch: https://github.com/LukasJoswiak/etch [3] Hugo 文档: https
Code name debian archive里真正的distribution目录用的是code name，比如sarge、etch，其他名字的distribution目录如stable/testing...用code name的好处是可以一致地指定一个distribution，而不管该distribution release的状态，譬如当前处于testing的etch distribtuion在release...后仍然可以用etch来引用它。...命名为下一个要release的code name，并成为新的testing，以前的stable被改名为oldstable，于是对应released的code name的版本号(如sarge对应3.1，etch
name}如果还没有创建 git 项目，可以 init 一个git init修改为一个比较简约的主题git submodule add https://github.com/LukasJoswiak/etch.git...themes/etchecho "theme = 'etch'" >> hugo.toml添加内容如果单纯新增内容，可以用 hugo create content 命令，会在 content 文件夹新建文章
6.Mask：光罩 7.Laser：激光 8.LD： laser diode激光二极管 9.N-type：N型 10.P-type：P型 11.CMP:化学-机械抛光 12.Alloy：合金 13.Etch...BOE：Buffered Oxide Etch，是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1BOE蚀刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（体积比）的成分混合而成。可腐蚀人体骨骼。
The wet etch recipe used for this test was: 1(36.5% HCl): 4 (30% H2O2): 40 (DI), with an etch rate of
FPGA源码： /* Module name: binary_image_etch.v Description: binary image etch */ `timescale 1ns/1ps module...binary_image_etch( input clk, //pixel clk input rst_n, input
Dry Etch The removal of material from a substrate by using a gases in a plasma....ESD see Static Erosion Etch A process to remove unwanted chrome....Print AU see Scaled Write Address Process The steps (develop, etch, strip) following the exposure of...Wet Etch To remove material from a substrate by using liquid chemicals....ZEP-7000 A dry-etch ebeam resist.
env_reset取消掉对PATH变量的重置，然后在.bashrc或/etch/profile中最后添加alias sudo='sudo env PATH=$PATH'，这样sudo执行命令时所搜寻的路径就是系统的
被淘汰的稳定版 Debian 6.0（"squeeze"） — 被淘汰的稳定版 Debian GNU/Linux 5.0（"lenny"） — 被淘汰的稳定版 Debian GNU/Linux 4.0（"etch
XWiki On OpenShift (Platform-as-a-Service) XWiki On Windows (French) XWiki On Debian 4 (Etch) - Tomcat...- PostgreSQL (or MySQL) (English) XWiki On Debian 4 (Etch) - Tomcat - PostgreSQL (or MySQL) (German)
也有可能是另一个问题： 在本本装上Debian后，用apt-get update更新软件源时，出现以下warning： GPG error: http://debian.linux.org.tw etch
RIE、ECR、ICP是常用的dry-Etch的方法。据报道，150V偏压下使用Cl2 、H2混合气体获得700A/min的刻蚀速率。离子束刻蚀IBE，低能量电子增强刻蚀LE。
fprintf(bg_log "pin_definition: %s\n" pin_definition) if(SelBga->isMirrored then pinLayer = "Etch.../BOTTOM" else pinLayer = "Etch/TOP" );end if ;Compute the Symbol wether is Bga and the
v=kceJASDK-2E 插件 1. etch 用于 简化Flutter 的 CustomPaint 的实现 2. auto_update 这个 Flutter 插件用于处理处理原生应用更新。
这种工艺被称为 spacer assisted litho-etch litho-etch（SALELE），它依赖于极紫外光刻的双重帮助。
（即把输入的内容直接导到内存中） One day Jeff Dean grabbed his Etch-a-Sketch instead of his laptop on his way out the...On his way back home to get his real laptop, he programmed the Etch-a-Sketch to play Tetris.
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