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和线

如果有一个,在上有很多数学上的点,这些点足够多。那么将这些点拿出来,而不是很表示一段有趣的序列 在空间有两个上面有很多线,线的两段分别连接两个。...将会相互嵌套,从中间上升或下降,上升的会变大,下降的变小,在上升到一定高度,从上升转下降,同时下降的下降到一定高度转上升,此时下降的将会套住上升的 ?...连接两个的线将会在两个再次套住的时候,绕两个一圈,于是拿到新的坐标 将会记录每次两个套住的时候所有线所在的坐标,将这些重新定义为线连接的点,记录这些点,这里的点不使用数字表示,而是通过表达式表示...在上升或下降都会在两个套住的时候计算完成距离,通过圆里面的线绕过的点确定 在上升过程中,每个线都会移动,移动根据当前上升的距离和当前线和连接的点计算 就这样两个将会不断上升下降,然后不断嵌套...通过圆里面的点和当前上升的距离算出的变大趋势。

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OpenCV 检测

method 定义检测图像中的方法。目前唯一实现是cv2.HOUGH_GRADIENT dp:累加器分辨率与图像分辨率的反比。dp取值越大,累加器数组越小。...minDist:检测到的各个的中心坐标之间的最小距离(以像素为单位)。如果过小,可能检测到多个相邻的。反之,过大则可能导致很多检测不到。 param1:用于处理边缘检测的梯度值方法。...阈值越小,能检测到的越多。 minRadius:半径的最小值(以像素为单位)。 maxRadius:半径的最大值(以像素为单位)。 下面以这张气球串的照片为例进行讲解。 ?...最后进行检测: #HoughCircles(image, method, dp, minDist[, circles[, param1[, param2[, minRadius[, maxRadius...圆心坐标和半径的数据: ?

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div 环形排列_三个div如何并排

当这段弧长正好等于的半径时,两条射线的夹角的弧度为1)。...三、需求分析: 3.1 让这些黄色的DIV ,在同一个的圆周上排列 3.2 排列的方式是平均分布 四、原理分析: 要让DIV的排列,形成一个圆形,实质就是设置每个DIV的left值 和 TOP值 之间的关系...上图中的每个黄色DIV左上角的红色点的坐标,就是left 和 TOP值 ,要让这个红色的点,正好分布在这个圆周上面,那么Left 和 top 必然要和这个PI关联起来。有PI才有。...  余统公式 cos(X) = 邻边/斜边 X变大,斜边不变(半径),那么邻边(上图中ON线段) 是会变小的;   270度的正统值,是负1;   180的余弦值是,是负1; 5.1 先设定一个...  半径:200px; 5.2 平均这个的圆周   假设我们有8个DIV 要平均分布在这个半径为200PX的圆周上面。

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HTML5绘画与拖放事件

HTML5绘画 在html5中出现了许多新的特性,绘画功能就是其中之一。由于html5新增的这些新特性,所以也在逐渐取代Flash,毕竟Flash比较占用内存,也经常性奔溃。...html5不仅能制作2d的绘画还能做3d的绘画,但是要注意的是这两者使用的函数不一样但都基于canvas。在网络上我们可以搜索到一些使用html5制作的2D或3D的效果图,例如: ? ? ?...绘制圆形: 通过规定尺寸、颜色和位置,来绘制一个: 代码示例: ? 运行结果: ? 绘制渐变颜色: 使用指定的颜色来绘制渐变背景: 代码示例: ? 运行结果: ?...设置元素为可拖动: 为了使元素可拖动,需要把元素中的 draggable 属性设置为 true ,img元素是默认可拖动的,例如我把div设置为可拖动: ? 运行结果,可以看到能够将div拖动: ?...结合以上几个知识点,可以实现将img元素,来回拖放到不同的div元素中,代码示例: ? 运行结果: ? ? ?

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键合技术

二、晶键合设备 1.晶键合工艺   先将晶装载到FOUP中,并由中央机械手臂对晶逐片检测——(FOUP是指front-opening Unified Pod,即前开腔体)   表面预处理   ...酸蒸汽清洗——衬底暴露于一种还原性的酸蒸汽中以去除表面氧化层 (2)表面预处理——湿法化学处理   硅硅键合或熔融键合中常用——亲水性处理:经过亲水性处理后,晶表面吸附的【OH】基会与其他晶表面的悬挂键进行结合...,这些基会吸附晶表面水分子形成角水基,当两个经亲水性处理的晶的距离接近角水基中存在的偶极矩的作用范围时,两晶会在范德华力作用下相互接触并键合到一起。...环形波纹产生的过程为:首先,两晶相互悬浮直至形成点接触,启动键合并穿透表面的静电斥力,在后续键合过程中,接触面附近的空气呈环形波纹被挤压排除;当晶在范德华力作用下完全接触后,室温下晶接触界面处就会形成环四聚物的环形物质...酸蒸汽处理可以避免晶浸没在液体中,可以将试剂对叠层晶上的钝化层、键合层、绝缘层受到的刻蚀影响降到最低甚至是完全避免。

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