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PDF怎么添加水印?怎么给PDF文件添加图片水印

PDF怎么添加水印?...水印分为文字水印与文件水印,这个文件水印也可以是图片水印,给文件添加上水印一方面是为了安全,另一方面是告诉大家这个文件出自哪里,水印的使用还是很方便的,那么怎么给PDF文件添加图片水印呢?...3:在弹出的窗口中添加水印,输入需要添加的水印样式;我们需要添加图片水印,就在类型里面选择文件,然后选择准备好的图片水印文件就可以;除此之外还可以选择水印的外观、布局以及添加的页面范围,根据自己的需要来选择...4:这时候水印已经添加成功了,如果觉得水印的位置或者大小不满意,可以重新进行调整哦。 还有一种在线添加水印的方法: 1:在迅捷PDF转换器的导航栏中找到文档处理中的PDF添加水印。...4:最后点击【开始处理】按钮等待一会就可以添加完成啦。 ​ 你还在纠结PDF怎么添加水印嘛?上面的方法可以帮助你解决疑惑!如果你有添加图片水印的需要,按照上面的步骤去操作,可以轻松搞定!

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Linux添加路由_linux添加临时路由命令

Linux系统的route命令用于显示和操作IP路由表(show / manipulate the IP routing table)。...在Linux系统中,设置路由通常是为了解决以下问题:该Linux系统在一个局域网中,局域网中有一个网关,能够让机器访问Internet,那么就需要将这台机器的IP地址设置为Linux机器的默认路由。...要注意的是,直接在命令行下执行route命令来添加路由,不会永久保存,当网卡重启或者机器重启之后,该路由就失效了;可以在/etc/rc.local中添加route命令来保证该路由设置永久有效。...add:添加一条新路由。 del:删除一条路由。 -net:目标地址是一个网络。 -host:目标地址是一个主机。 netmask:当添加一个网络路由时,需要使用网络掩码。 gw:路由数据包通过网关。...表示此路由当前为关闭状态 备注: route -n (-n 表示不解析名字,列出速度会比route 快) 实例2:添加网关/设置网关 命令: route add -net 224.0.0.0 netmask

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idea 添加Tomcat_懂车帝怎么添加

使用 IDEA 编辑器开发项目十分便捷,这里介绍使用 IDEA 编辑器添加 Tomcat 1、新建 web 工程 这里有一个已经创建好的 web 项目 2、配置 tomcat 配置 tomcat...前,先确保本地已经下载并安装完成了 tomcat 如果不清楚如何安装 tomcat,请参考:安装tomcat 点击 Run,Edit Configurations… 点击 + 号,添加服务配置 找到...Tomcat Server,选择 Local 自定义 Name,这里是 Tomcat8.5 点击 Configuare,添加本地 Tomcat 路径,这里是 E:\tomcat\apache-tomcat...-8.5.38 点击 Deployment,添加项目 点击 + 号 选择需要添加 tomcat 的项目;右侧 Application content,可以设置访问路径名,这里使用 / (即没有路径名...),读者可自行设置 设置完成后,点击右下角 Apply 返回 Server,点击 OK 可以看到编辑器左侧,出现了添加的 Tomcat 选择项目,点击运行 默认启动 ie 浏览器,可以看到 index

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堡垒机怎么添加linux服务器?具体步骤是什么?

不过很多员工在使用堡垒机的过程中,因为操作不够熟练或者了解不够深入,以至于出现很多操作难题,而在众多操作难题当中,堡垒机怎么添加linux服务器这个难题是很让新手朋友苦恼的,那么该如何添加呢?...堡垒机添加linux服务器的方法 堡垒机怎么添加linux服务器?添加步骤是非常简单的,首先是要获得堡垒机管理员权限,以管理员的身份来登录堡垒机控制平台。...有了连接隧道可以选择新建站点,然后将服务器的IP地址和端口号输入进去,点击添加代理服务器,就可以完成服务器的添加了。 服务器添加注意事项 堡垒机怎么添加linux服务器?...相信大家已经了解了具体步骤了,关于服务器添加还有一些注意事项希望大家知道,比如说端口开放,协议等方面需要大家弄清楚,不要把端口开放错了,可能会导致服务器添加失败。...关于堡垒机怎么添加linux服务器的操作步骤已经为大家做了解答,如果大家对操作还有疑问或者问题的话,可以关注其他相关文章,也可以找专业人士帮忙。

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匹配那些事儿...

版图匹配中: N型硅电阻水平或垂直(X轴或Y轴)摆放,可以使它们的应力灵敏度最小化; P型硅电阻与X轴或Y轴成45度摆放,可以使它们的应力灵敏度最小化; Tips:不同工艺的规格书中会明确说明制作晶圆方向...2.1.2 工艺偏差 硅片上生产出来的图形不会和版图数据的尺寸完全匹配,因为在光刻、蚀刻、离子注入等过程中图形会收缩或扩张。导致版图数据的尺寸和实际生产测量的尺寸之间存在偏差,简称:工艺偏差。...2.1.3 互连寄生 版图中的走线和过孔等,会带来寄生电容和寄生电阻。 2.1.4 刻蚀速率 在一定程度上,刻蚀速率取决于多晶硅开口形状。大的开口可以进去更多刻蚀剂,会比小的开口刻蚀速度快。...3.4 添加虚拟器件(Dummy devices) 增加虚拟器件可以使器件本体避免过度刻蚀(Over Etching) 不管是mos管还是其他器件,增加的虚拟器件和被保护的器件间距需要保证一致。...(仅供参考) 4.5 放置器件尽可能远离功率器件 4.6 匹配的器件版图尽可能紧凑 4.7 采用较大尺寸的器件来匹配 4.8 注意制造中二级效应对匹配的影响(点击蓝色字体查看) 先进工艺中几种二级效应解释

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BGP电路详解(上)

/OD space/Poly space一致) 2.保持器件相同方向 3.器件分段连接,每段尺寸大小相同,选择中等值为一段 4.增加虚拟器件(Dummy) 5.共质心 6.器件采用指状交叉布线方式 Bandgap...Bandgap版图预布局 Bandgap版图详解 拆分电路后:先对Bandgap整个模块进行预Floorplan 所谓Floorplan就是在设计模块版图之前,就把整体版图的形状、面积,大致的规划好,这就好比建一座城市...例如我做了两个版本的预Floorplan(箭头标识预走线方向):  FloorPlan Note:  优先考虑匹配器件, 单独完成每小部分版图 考虑电源、地、CLK等重要信号线 考虑信号流走向 和前端工程师一起...Review布局 Bandgap版图详细设计 PMOS自衬阱电位的差分对匹配和注意事项: 自衬阱电位(Hot Nwell) PMOS的衬底正常情况下接到最高电位(AVDD)上,如图所示器件M29/M30...版图工程师在画设计版图时,差分管是最先设计的。

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Linux添加与删除内核

添加内核 添加内核一般来说并不需要,当然也不是完全不需要。安装新内核大体有以下几种需求: 尝鲜新功能 原来的内核比较臃肿 和硬件兼容特殊需求 笔者安装新内核就是处于***特殊需求***。...笔者所做的工作是需要用到Linux自带的分析工具——***ftrace1***该工具中的一些专门性的工具(姑且叫插件吧)在发行版本中并没有编译到内核中去,所以笔者需要重新编译内核将这些插件勾选上,并安装到自己的系统中...比如,笔者最开始是不想在自己的机器上直接安装新内核的,毕竟有些环境是笔者肥了九牛二虎之力才部署好的,在加上对添加新内核也是大姑娘出嫁——头一回,万一搞不好就废了。...# apt-get remove linux-image-****-generic 4....比如,笔者本人就遇到这样的奇葩问题:在安装内核后,通过 # dpkg --get-selections|grep linux 命令就找不到刚才安装的内核。

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Linux添加虚拟网卡

Linux下如何添加虚拟网卡?使用虚拟网卡可以使一台服务器设置多个ip,而不用添加多块网卡,下面为大家分享一下Linux添加虚拟网卡具体方法。...我们向eth0中添加一块虚拟网卡: 第一种方法:快递创建\删除虚拟网卡 sudo ifconfig eth0:0 192.168.10.10 up以上的命令就可以在eth0网卡上创建一个叫eth0:0的虚拟网卡...---- 在linux中虚拟网卡的方法 第三种方法:创建tap 前两种方法都有一个特点,创建的网卡可有不同的ip地址,但是Mac地址相同。无法用来创建虚拟机。...添加虚拟网卡taptunctl -b 附上相关命令简介:显示网桥信息 brctl show   添加网桥brctl addbr virbr0激活网桥ip link set virbr0 up添加虚拟网卡...eth6brctl addif virbr1 eth6       总结 至此关于Linux添加虚拟网卡的教程分享结束,大家如果还有疑问可以通过评论区将问题提交给我们。

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先进工艺中几种二级效应解释(1)

阱邻近效应 1、阱邻近效应(Well Proximity Effect,WPE) 是指在先进工艺技术下,靠近阱边缘的器件的电特性会受到器件沟道区域到阱边界距离的影响。...4、版图中减小WPE影响的几种方法 4.1 优化减少阱个数,如:同一电位的器件放在一个阱里面; 4.2 对于一些关键匹配的器件(如差分对、电流镜等),远离阱放置,特别注意在远离的同时,需要注意匹配器件SC...4.3 在有限的空间内,添加Dummy器件,这样可以使器件远离阱边缘,即增大SC距离值; Tips:不仅仅阱(NW/PW)影响WPE效应,而且OD2(高压部分,tsmc中名称叫:OD2)也会影响WPE效应...(TSMC 40nm工艺,其他工艺请参考规格书) 3、版图中减小PSE效应的几种方法 3.1 根据相关规格书的描述,控制s1和s2距离满足规格书要求; 3.2 增加dummy PO,一般利用工艺自带撒dummy...的rule来添加;满足PO密度要求的同时,也可以减小PSE效应的影响。

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