中国距自主生产EUV光刻机仅一步之遥，全球芯片产业将迎来新格局

光刻机是芯片制造的核心设备，也是中国芯片产业的最大短板。

目前，全球只有荷兰的ASML公司能够生产最先进的EUV光刻机，而美国对中国的技术封锁使得中国无法从ASML购买EUV光刻机。这对中国芯片产业的发展造成了巨大的阻碍。

然而，中国并没有放弃自主研发光刻机的努力。近日，有消息称，中国已经攻克了光刻机的最后一个技术难关——高数值孔径（NA）投影镜头。这意味着中国距离实现EUV光刻机的自主生产只差一步之遥。

据悉，高NA投影镜头是EUV光刻机的核心部件之一，它决定了光刻机的分辨率和产能。目前，全球只有德国的蔡司公司能够为ASML提供高NA投影镜头。

而中国的上海微电子装备有限公司（SMEE）在与中科院合作下，成功研发出了高NA投影镜头，并通过了国际标准的测试。

这一消息引起了西方媒体和业界的广泛关注。有分析认为，中国在光刻机领域的突破表明了中国芯片产业的强大韧性和创新能力，也给西方施加了更大的压力。一些西方媒体甚至担心，中国在未来可能会对西方形成技术反超和市场威胁。

与此同时，ASML公司也对中国市场表现出了更加积极的态度。ASML首席执行官彼得·温尼克斯在接受采访时表示，ASML愿意向中国出售EUV光刻机，只要能够获得荷兰政府的出口许可证。