高频科技先进超纯工艺，满足半导体芯片、材料、封测等行业用水需求

半导体行业作为现代电子工业的核心产业之一,随着科技的不断发展,其应用领域不断扩大。超纯水作为半导体行业高效生产的基石之一,对提升生产效率、产品质量和良率,以及探索降本增效路径等都至关重要。高频科技作为本土超纯水领域的引领企业,始终坚持创新驱动,不断提升工艺技术水平,以满足半导体芯片、材料、封测等行业的用水需求,助力行业高质量发展。

超纯水在半导体行业扮演关键角色

超纯水作为半导体行业不可或缺的一部分,始终密切参与并影响到整个半导体行业的发展进程。在芯片生产时,任何一个微小的杂质和颗粒都可能对产品的质量造成不可逆转的影响。而超纯水具有极高的纯度,可以有效地清除芯片表面和内部的微小颗粒和杂质,保障器件性能。可以说,高品质的超纯水是芯片质量和成品率的重要前提。

在半导体材料行业中,超纯水在高纯度原材料的制备中扮演着举足轻重的角色。例如,在半导体材料制备过程中,需要使用硅、锗等高纯度原材料,而这些原材料的纯度要求非常高,需要使用超纯水进行清洗和制备。此外,超纯水还可以作为稀释剂和溶剂,制备出高纯度的化学试剂和溶液,进一步促进半导体材料制备过程中的质量控制和产量提升。同时,在半导体封测行业中,超纯水起到了清洁、制备、冷却和加工等多种重要的应用作用。

超纯水在半导体行业中扮演着至关重要的角色,其质量要求也异常严格。半导体行业对超纯水的电阻率、离子含量以及TOC(有机碳)、Si(硅)等指标有着明确且严苛的限制。例如,美国ASTM超纯水标准规定超纯水电阻率必须达到18.2 MΩ,同时溶解硅的含量不得高于1微克/升,总有机碳的含量不得高于5微克/升,硼的含量则不得高于0.05微克/升。

这些高标准的背后代表着极为复杂的工艺和技术。目前国内只有极少数的公司能够达到这一标准。高频科技就是其中的一员,其超纯水水质达到了以下标准:电导率无限接近18.24MΩ的理论极限值,溶解硅的含量低于0.3微克/升,总有机碳的含量低于0.5微克/升,硼的含量则低于0.005微克/升。这一标准的达到离不开高频科技在超纯水工艺和技术方面的持续创新和精进,同时也为国内超纯水企业带去示范和引领。

立足先进超纯工艺,满足半导体行业用水需求

作为一家在超纯工艺技术领域具备深厚实力的工业级技术服务商,高频科技致力于提供先进的超纯水与循环再生解决方案及装备。这些产品及技术广泛应用于芯片生产、封装测试、显示电子等半导体领域,满足了半导体行业不断提升的用水需求,并助力行业向前发展。

高频科技致力于探索超纯水的绝对纯度,通过研发创新和丰富的工艺经验,不断突破自我。其超纯水系统极为复杂,涵盖了多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除等18项专业处理工艺环节,并采用电渗析、超滤、钠滤、真空脱气塔、膜脱气等技术,不断提升超纯水系统的应用效率。在超纯水杂质浓度解决方案方面,高频科技取得了突破性进展,产水水质无限接近18.24MΩ的理论极限值,纯度可达99.9999999999%,满足半导体行业日益提高的用水需求,为行业提档升级提供了助力。

为了助力半导体企业提升经济和社会效益,高频科技倾力打造了废水循环再生系统。该系统涵盖了公司研发交付的超过30种可选回用水工艺技术,确保水制程回收率高达75%~90%。通过采用这一系统,半导体企业能有效减少废水量、减少用水量、减少能耗、减少化学品使用以及减少设备使用损耗,同时还能实现微量元素回收利用,满足节能降本增效及可持续化发展方面的需求。

此外,高频科技专注于关键工艺产品及化学药剂的研发、推广和应用,以满足半导体行业的需求。通过不断优化半导体行业专用的反渗透膜元件、树脂、膜脱气装置、紫外线装置,以及阻垢剂、非氧化杀菌剂和清洗剂等水处理药剂,为客户提供可靠而经济的水处理解决方案,以确保水质的高效处理。

半导体行业的发展,不仅需要关注自身的技术研发,也需要将视线投向更广阔的领域。优秀的供应商不仅可以为企业提供高质量的产品,还可以带来更多创新性的解决方案,帮助半导体企业挖掘更多增长潜力,开拓更广阔的市场空间。高频科技凭借其深厚的超纯工艺技术实力,为半导体企业提供先进的超纯水与循环再生解决方案及装备,助力企业的可持续发展,同时为半导体行业的升级发展做出重要贡献。