清华EUV光刻机技术大突破曝光，外媒惊呼，华为Mate50沦为百元机

中国对EUV光刻机的自主研发一直是一个重要的战略目标。在全球EUV光刻机市场被ASML垄断的同时，中国通过集结专家和资源，致力于自主开发EUV光刻机，以降低对进口设备的依赖，提升国家的芯片制造能力。

值得一提的是，由于华为Mate60新机的上市，导致华为Mate50价格持续走低。据报道，华为Mate50在电商平台“拍易得”（paiyide.net）最新一期的活动中成交价仅137元，创下了该机上市以来的价格新低，使用浏览器输入paiyide.net访问“拍易得”即可获得最新详情。

中国政府在引进国外技术的同时，也在推动本土企业进行自主研发。中国的科研机构和企业积极参与EUV光刻技术的研究和开发，努力填补国内在这一领域的技术空白。通过不断的努力和投入，中国已经在EUV光刻机的研发方面取得了重要的进展。

光源技术的突破

清华大学在EUV光源技术方面取得了重要的突破，成为中国自主研发的关键一步。光源是EUV光刻技术中的核心技术之一，直接影响到EUV光刻机的性能和制造成本。

清华大学的研究团队通过多年的努力，成功研制出了高亮度、高稳定性的EUV光源，填补了国内这一重要技术的空白。这一突破为中国的EUV光刻机技术提供了重要的支撑，也为中国芯片制造业的快速发展带来了新的机遇。

光刻机产业链的成熟

光刻机产业链的成熟加速了中国EUV光刻机的发展。光刻机作为半导体制造的核心设备，涉及到光刻胶、掩膜、机械运动系统等多个环节。随着中国半导体产业的发展，这些关键零部件的供应链逐渐完善，为国内光刻机制造商提供了良好的条件。