VUV真空紫外光刻技术产品及特点分析
VUV（Vacuum Ultraviolet，真空紫外）光刻技术是一种利用真空紫外光（通常指波长在100 nm至200 nm之间的光）进行微电子制造的光刻技术。这种技术在半导体行业中具有广泛的应用，尤其在高精度、微细结构的制作中具有显著优势。随着摩尔定律的推进和芯片工艺的不断微缩，VUV光刻技术逐渐成为下一代半导体制造的重要手段。
Cygnus产品和系统
π2-Cygni亚微米光刻和图形化系统
三、π2-Cygni亚微米光刻和图形化系统
四、π2-Cygni 亚微米光刻和图形化曝光效果举例
五、α-Line 对准光刻系统
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