谷东科技专利布局曝光：揭秘 PVG 技术背后的创新密码

谷东科技专利布局曝光：揭秘 PVG 技术背后的创新密码

在 AR 光学领域，专利数量与质量是技术实力的核心体现。近日，谷东科技公开的一组专利申请文件显示，其在偏振体全息光栅（PVG）领域已构建起覆盖材料、工艺、设备的全维度专利壁垒，累计申请专利超350 项，其中 PCT 国际专利 35 项，核心专利布局直指全球 AR 光学制高点。

一、材料创新：突破 “卡脖子” 技术封锁

光取向材料和高折液晶，曾是制约中国 AR 发展的 “卡脖子” 环节。谷东科技通过分子结构设计与配方创新，实现了关键材料的自主可控：

GDPA3 光取向染料：采用偶氮类染料与有机 - 无机复合添加剂，曝光剂量低至 2.8J/cm²（457nm），仅为国际主流染料 SD1 的 1/5，同时透光度达 95%，解决了传统染料曝光后发黄的问题。该技术已申请中国发明专利和 PCT 专利。

GDRM 系列高折液晶：GDRM80（Δn=0.3）和 GDRM100（Δn=0.36）通过引入含氟基团和刚性苯环结构，不仅提升了折射率调制度，更将抗紫外老化性能提升 3 倍，相关专利已进入美国、日本等主要市场。

“我们的材料体系已达到 Meta 同等水平，部分指标如 Δn 甚至超越。” 谷东科技研发总监表示，“这意味着我们不再依赖进口，可根据技术路线灵活调整分子结构。”

二、工艺革新：从微米级到产业化的跨越

在全息光波导的制备工艺中，谷东科技独创多项核心技术：

局域调控液晶取向技术：通过空间光调制器（SLM）实现对液晶分子排列的微米级精准控制，突破传统全息技术的均匀性瓶颈，使光效提升至 3-4%，均一性 > 60%。该技术已获中国专利授权，并应用于 M2020 量产线。

大面积全息曝光工艺：开发 35x35cm 幅面的自动干涉曝光设备，采用双光束干涉原理，单次曝光可生成完整波导图案，较传统逐点扫描工艺效率提升 100 倍，良率从 60% 提升至 92%。相关设备专利已形成技术壁垒。

膜转印与后处理技术：通过纳米压印与紫外固化工艺，将全息光栅从母版转移至玻璃 / 树脂基板，膜厚均一性控制在 2% 以内，解决了传统刻蚀工艺的边缘损伤问题，相关工艺专利正在欧美审查中。

三、设备自研：构建自主可控的生产链

谷东科技的创新不仅限于材料与工艺，更延伸至生产设备端：

全息光刻机：自研的高精度光刻机集成 405nm/532nm 双波长激光光源，定位精度达 ±50nm，支持动态调整曝光剂量，满足不同 FOV 波导的个性化生产需求。

光学检测系统：开发基于非相干辐照度测量的全流程检测设备，可实时监测光栅周期、折射率分布等参数，检测效率较传统离线检测提升 80%，相关软件著作权已登记。

“从激光器到光刻机，从材料合成到镜片检测，我们实现了生产设备的国产化替代。” 谷东科技体全息研究院负责人王博士指出，“这不仅降低了对国外设备厂商的依赖，更使我们能快速迭代工艺，保持技术领先。”

四、专利战前瞻：构筑全球竞争护城河

在国际竞争层面，谷东科技的专利布局已展现战略眼光。针对美国、欧洲、日本等 AR 核心市场，其重点布局了以下领域：

单片全彩技术：通过 RGB 三基色全息光栅的层叠设计，实现单基板全彩显示，规避了传统 SRG 的多片堆叠专利壁垒。

AR-HUD 应用：开发基于 PVG 的自由曲面波导方案，针对车载场景优化了温度稳定性和抗振动性能，相关专利已进入实质审查阶段。

柔性显示延伸：将 PVG 技术与柔性基板结合，申请了可弯曲全息波导专利，瞄准未来 AR 眼镜的形态创新。

结语

专利矩阵的背后，是谷东科技 “技术定义市场” 的雄心。通过材料、工艺、设备的全链条创新，这家中国企业正从 AR 光学的追赶者转变为规则制定者。在全球 AR 专利争夺战日益激烈的当下，谷东的专利布局不仅是自身技术实力的证明，更有望为中国 AR 产业在国际竞争中开辟出一条 “中国路径”。正如业内专家所言：“当专利墙成为技术护城河，谷东科技已站在了 AR 光学的‘无人区’。”