报告原文——机器学习在CD测量方面的应用

编者按:Barak Bringoltz对机器学习技术应用于光学关键尺寸(CD)测量的工艺流程进行了讨论,并展示了其取得的相关成果。同时也集中展示了机器学习算法的组成,即这些算法能够自动地与大数据相结合,并且可以实现配方创建,配方监控与控制以及更新的自动化。这种自动化对半导体制造至关重要,因为工艺的稳定性难以实现,而且对半导体制造起着关键性的作用。另外,也讨论了利用机器学习与大数据系统相结合的算法来提高准确性和吞吐量。

报告原文下载地址

会议详情,请点下方链接

  • 发表于:
  • 原文链接https://kuaibao.qq.com/s/20181101B1ZNJI00?refer=cp_1026
  • 腾讯「云+社区」是腾讯内容开放平台帐号(企鹅号)传播渠道之一,根据《腾讯内容开放平台服务协议》转载发布内容。
  • 如有侵权,请联系 yunjia_community@tencent.com 删除。

扫码关注云+社区

领取腾讯云代金券