Kinko采用Beneq C2R技术，实现高性能AR波导规模化生产

近日，原始设计制造商Kinko Optical宣布选定采用Beneq公司的C2R等离子体增强空间原子层沉积（ALD）系统，助力合作伙伴大规模生产用于衍射波导的高折射率、低损耗间隙填充光学镀膜。

当下，XR行业正以迅猛之势蓬勃发展，其增长的强大动力源自消费者对沉浸式体验的迫切需求，像XR眼镜这类消费电子产品愈发受到市场青睐。近年来，全球众多顶尖科技公司和原始设备制造商纷纷在该领域重金投入，积极开展创新研发。

而XR眼镜的核心部件便是AR波导，为了达到最佳的使用效果，先进的表面浮雕光栅（SRG+）和纳米压印光刻（NIL）成为当前主流的技术平台，它们能够很好地满足消费级应用在性能、生产以及成本等方面的严格要求。

然而，这些主流技术所构建的复杂3D纳米结构，给传统的镀膜方法带来了巨大挑战。传统方法在应对这些复杂结构时，往往难以达到所需的性能标准。在此背景下，先进的光学镀膜显得至关重要，它不仅能够显著提高效率、亮度和耐用性，还能助力实现高性能的大规模制造。Beneq的C2R技术恰好满足了这些迫切需求，具备卓越的性能表现，可帮助制造商达到新一代AR设备的严苛标准。

C2R技术采用了创新的旋转式空间原子层沉积设计，巧妙地将前驱体在空间中分离，从而实现了比传统原子层沉积快100倍的沉积速率，最高可达2000 nm/h，同时还能保持出色的均匀性和精度。它支持多种高折射率材料，如Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂以及多层堆叠结构，其可调折射率最高能达到约2.61（以TiO₂在448 nm波长处为例），光学损耗低至约3 dB/cm。

此外，C2R技术还有其他诸多显著优势。它采用低温加工，温度低至100°C，能够很好地兼容聚合物基底；可以对复杂光栅进行共形间隙填充；还具备零应力涂层特性，应力控制范围在1000 MPa至-200 MPa之间。其原位宽带监测功能可确保实时优化，能够在不影响质量的前提下制造更厚的多层结构。

Kinko Optical表示：“我们很早就洞察到原子层沉积技术在镀膜质量、保形性以及提供高折射率、低损耗材料方面的巨大潜力。借助Beneq的C2R技术，我们成功实现了性能与品质的完美平衡。它将无与伦比的沉积速度与低温工艺相结合，真正实现了大规模生产，同时还能保持复杂结构的精度。这使得我们能够加速AR波导的商业化进程，为下一代XR眼镜带来沉浸式、无缝的体验。”