国内能造光刻机？半导体行业或将迎来新发展、大突破

说到光刻机，想必大家很陌生，它是生产大规模集成电路的核心设备，是制造和维护光学和电子工业的基础。光刻机原理是把高精密底片底版投射到晶原片上，对于这么尖端的技术，按理来说那些芯片强国应该是光刻机的制造强国才对，但让大家感到意外的是，目前世界上最好的光刻机不是来自美国，而是来自荷兰。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。

高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。目前能制造高端光刻机的只有荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售，正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

光刻机应用最广泛的领域就是半导体领域了，众所周知，半导体产业象征一个国家的软实力，放眼全球只要是经济强国基本都在半导体领域上有着一席之地，而近年来我国也一直在发展半导体产业，只不过以往在制造方面总是依赖于进口外国的光刻机，但现在中国也有能力生产自己的光刻机了，这家能生产光刻机的公司叫福建安芯半导体科技有限公司，凭借多年积累成为二手光刻机翻新领域的国内第一大企业，并逐步替代NIKON光刻机的核心单元，开始自主研发全新步进式光刻机。

我们中国虽为全球最大芯片市场，因芯片工艺不先进，被迫长期对外进口，随着我国芯片行业自产意识的增强、不断加大研发，我们国家芯片技术也在不断的增强。我国通过减免税来支持相关企业的发展，目前中国的AI芯片市场每年成长50%，中国各地实施的大型半导体项目多达50个，总投资金额达到了2430亿美元，与此同时，我国的芯片设计企业数量已经达到近2000家。如今我们国家能生产自己的光刻机了，半导体行业或将迎来新发展、大突破。