上海微电子90nm光刻机至今已经停留13年，华为五年内做出光刻机不可能

很多人一听说华为招光刻机工程师，就以为华为立刻能研发出光刻机，但实际上，华为5年内估计也难研发出光刻机。这是因为光刻机技术难度太大了，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机。当时国内已经知道分步投影光刻技术的显著优点，但是苦于国内生产工艺尚不成熟，所以很难实现。为何呢？因为你能研发出光刻机，没用，没有产业化，咱们国家的光刻机研发一直是国有科研单位下面的上海微电子在研发，与市场脱节。那时流行的是自己做不如买，自己研发不如进口。所以有人总结说，中国的光刻机研发一直有亮点，但始终被甩在后面。

而且，国内对自己研发的光刻机的自我评价还一直比较高，1985年电子45所研制出了分步光刻机样机，通过技术鉴定时，还认为达到美国4800DSW的水平。当时认为，按照这个时间节点算，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年(美国是1978年)。可实际呢？比美国相比落后7年并不是指落后于全球7年，因为美国的光刻机技术当时并不是全球最先进的，全球最好的光刻机当时是日本的尼康、佳能等。

所以，即便华为来研发光刻机也需要有清醒的认识，荷兰ASML公司花了好大的力气才研发出EUV光刻机，单台EUIV设备里超过十万个零件、4万个螺栓，以及3000多条线路。仅仅软管加起来，就有两公里长，这么一台庞大的设备，重量足足有180吨。而且里面还要大量的高端化学材料。这些高端化学材料又掌握在日本企业手里，如果日本企业不肯卖那就糟了，相当于线索中断了。

目前国产最先进的光刻机就是上海微电子的90nm工艺，但这是十三年前突破的，至今依旧没有做出新工艺的光刻机。所以对华为研发光刻机也不可盲目乐观，只能说华为有决心是好事。