首台上海微电子光刻机搬入

光刻机之所以非常重要，主要是因为光刻工艺约占整个芯片制造成本的三分之一，耗时约占整个芯片制造时间的二分之一。因此，光刻机是芯片制造必不可少的设备。

然而，全球能够生产光刻机的企业并不多，除了荷兰ASML、日本的尼康和佳能外，就是我国的上海微电子了。近日，中企传出消息！首台上海微电子光刻机顺利搬入。

中国已有365nm光源的光刻机，多重曝光可生产22nm的芯片；195nm光源尚不稳定；长光所已攻克13.5nm的光源，将来可生产5nm以下的芯片。现在极紫外光刻机的主要部件大部分在技术上都可实现，接下去主要是整机组合和精度调整。

对世界高科技的尖端从无到有，从零开始，想象就知道有多难。在中国人的前面，真正难的只有“时间”。不就“蚂蚁啃骨头”吗？只要我们一直在“啃”，大口的“啃”，还有断不了的“骨头”吗？

懂得了芯片生产中主要有三个过程，即设计，制造，封测！这篇报道说我国在封测方面(后道工艺)有较大突破！前道工艺是关键，难度大，但我国正在多方协作攻关，加进研发突破，争取早日成功！

我国产的封测光刻机“非常领先”，“全球市场占40%”，“国产封测”在全球处于“领先地位”，问题是：价格每台1800万元人民币。而ASML“领先地位”的光刻机，竟然卖出去上亿美元的价格！是“前道”与“后道”的差别巨大？还是中国的技术没有达到“垄断”？还是中国又在卖“白菜价”？

没有压力就没有动力，老美限制中国的光刻机进口，对中国自己的光刻机研发制造创造了极好的条件，本来90nm国产光刻机国内芯片厂不愿意使用，现在是用也得用，不用也得用了，只有用了国产设备才会对国内厂商的最大支持。

国外光刻机60年代就开始研发了，咱们还在建立工业经济，代差不是那么好追的，何况还有专利制约着，没人不承认有差距呀，网友们就别装大聪明了，现在也没那么吹的，就是希望赶超asml，这有什么值得喷吗，一点一点的在追赶，每天都有新气象不好吗？绕专利很难，

微细工程产品从技术突破到工艺成熟，再到稳定量产，没有几代工程应用机的反复打磨，很难修成正果，不过如若采取联合攻关，适当并行作业，则可以大大加快研发进度，中国从来不怕封锁，中国的军工就是从封锁中成长起来的

后道光刻机的要求比较低，涂点尺寸比较大，至少是微米量级，比nm量级相对容易。上海微电子90nm光刻机能不能稳定？产能能不能有保证？光突破是远远不够的，进入产线、规模验证之后才能进一步提高！光刻机不是靠一两家公司就能做起来的，实际上是拼的是一个国家的材料、微细加工、精密机械、精密光学、软件、电子技术等的综合实力，路还很长，得抓紧快追！看看日本的单反技术，再看看国内。

中国光刻机制造厂家是否可以重组，取长补短联合攻关一起研制光刻机，去掉一些大家曾经重复研究的工艺，择优采用先进工艺，集中优势“兵力”共同闯关，爭取更短时问研究出更好的光刻机。