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等离子清洗机中射频等离子体的工作机理

在现代科技的推动下,等离子体技术在各个领域中扮演着重要角色。而PLUTO-T型等离子清洗机作为其中的一员,其独特的工作机理使其成为清洗领域的一颗璀璨明星。...PLUTO-T型等离子清洗机采用射频等离子体来进行清洗工作。射频等离子体是一种高能离子化的气体,具有高温、高能的特点。其工作原理基于电离和化学反应的相互作用,通过释放大量能量来清洗物体表面。...具体来说,PLUTO-T型等离子清洗机中的射频等离子体是通过一个射频发生器产生的。该发生器会产生高频电场,将气体离子化并加热,形成高温高能的等离子体。...这些等离子体被喷射到待清洗的物体表面,通过碰撞和化学反应来去除表面的污垢和污染物。射频等离子体清洗的过程中,有两个主要的作用机制。...其工作机理的独特性使其能够应对不同类型的物体和污染物,具备广泛的适应性和应用前景。总而言之,PLUTO-T型等离子清洗机中射频等离子体通过离子轰击和化学反应的双重

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离子注入工艺的设计与计算

介绍工艺之前,我们先聊一下昨天一个朋友提到的日本日新的离子注入设备。日本日新是全球3大离子注入设备商之一。 1973年的时候,该公司就开始做离子注入的工艺设备。 目前的主要业务设备如上表。...详细的可以去它主页了解。 重点介绍激光领域用到的一款设备: 主要是注入H离子用的,可以达到400KeV的H+离子注入。...日新株式会社将在扬州经济技术开发区投资兴建离子注入机设备生产厂。 离子注入工艺参数 00 离子注入就像上图一样,把离子砸到晶圆中。涉及到使用的力度、数量、角度,砸进去的深度等。...因此在一锅Plasma中,一价的离子是最多的。 一般的离子注入机都有电荷的能力,原理大家可以想象高中学的什么库仑作用力吧,带的电荷不同,电磁场中获得的动量不同。...如果我们只知道需要掺杂的剂量,和离子能量,如何计算注入离子在靶材中的浓度和深度 例如一个140KeV的B+离子,注入150mm的6寸硅片上,注入剂量Q=5*1014/cm2,衬底浓度2*1016

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    等离子清洗机中氧等离子体刻蚀对石墨涂层的性能研究

    在氧等离子体轰击石墨涂层的过程中,基本的反应就是,氧等离子和石墨涂层中的表层C原子发生氧化反应,不论是生成了CO2或者CO,在等离子清洗机的反应腔内,是属于一种真空状态,所以反应的气体就会被抽离真空反应腔...,而相反各项异性水平刻蚀机制是指的是在同时刻蚀缺陷的情况下,氧等离子体刻蚀会优先寻找下层的缺陷在上层石墨涂层的缺陷被刻蚀的同时氧等离子体会优先寻找下层石墨涂层的缺陷,对于整体的石墨涂层陷刻蚀速率远大于非缺陷处的刻蚀速率...结论氧等离子刻蚀石墨涂层会使得上层石墨涂层的缺陷扩大,边界分离,粗糙度降低,还在一定程度上会给顶层的石墨涂层引入新的缺陷,这些结构变化会对石墨涂层的其他性能产生一定程度的影响,同时一定程度上证明了氧等离子刻蚀石墨涂层的刻蚀机制是一种各向异性的垂直刻蚀机制...,在这种刻蚀机制的刻蚀下,石墨涂层的氧等离子刻蚀是属于层-层-层的刻蚀,而且在接近单层刻蚀的时候,刻蚀速率降低,石墨涂层底层的缺陷也不会扩大会得到很有效的控制和保证石墨涂层的完整性,从理论上说经过可控的等离子射频功率...,等离子体的流量,一定程度上可以制备出可控缺陷的石墨涂层。

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    锂离子带给动力电池的「爱与恨」

    目前各国科学家及研发机构也在寻找克服锂离子电池缺陷的解决方法,改善使用痛点。 短路的元凶究竟是谁? 锂离子电池最早由索尼在1991年推出,其原理是依靠离子在电极间运动产生能量。...与其优点比起来,锂离子电池的缺点很少,但是每个缺点都十分致命。 这其中严重的,就是锂离子电池内部的枝晶。电动汽车由于电池自燃引发的事故比比皆是,而自燃的主要原因,就是电池内短路。...不过与锂相比,钠更重,制成的钠离子电池储能能力也不如锂离子电池。 换种方式,继续使用锂 除了锂离子电池,现在也有研究机构在研发锂金属电池。...与锂离子电池不相同的是,锂金属电池采用金属锂作为负极,依靠金属锂的氧化反应产生电能;而锂离子电池使用石墨作为负极,以含锂化合物作为正极,依靠锂离子不断获得、失去电子来实现电能传输。...与锂离子电池不同,锂金属电池中的锂离子获得电子后,直接以金属锂颗粒的形式,附着在负极上,从而形成枝晶状图案。

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    离子纠缠会是量子计算机的未来吗?

    NIST量子计算实验中使用的离子陷阱(Ion trap),通过用两种不同种类离子形成的量子比特进行逻辑运算。...由于离子带有正电荷,它们可以被一种称为保罗陷阱(Paul trap)的交叉电磁场所俘获。...保罗陷阱被置于一个大型的1立方米的真空空间中,以此来最小化周遭空气中的分子带来的影响——空气中的分子可能会破坏被俘获离子的纠缠状态,Ting Rei Tan这样解释道,他是NIST参与这项研究的物理学家之一...离子在“x”中被俘获了。 一旦离子被俘获,科学家们就用激光脉冲(laser pulse)同时轰击它们——这会令它们能够保持足够长时间的纠缠态来进行实验——其中一道脉冲也用来侦测这对纠缠离子的量子状态。...由于是不同种离子的纠缠,所以不同的离子会对不同波长的光有反应,那么它们就能被分开来单独侦测;也就是说,一个离子对于某种脉冲产生反应时,另一个是不会受到脉冲影响的。

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    材料本质与等离子体作用的奥秘

    为什么同样的等离子体环境,对不同的材料会产生截然不同的效果? 答案深植于材料本身的根本属性——它们的材料类型(金属、聚合物、陶瓷、玻璃、复合材料)决定了它们如何与等离子体“互动”。...关键差异:材料的“基因”不同类型的材料,在以下基本特性上存在根本区别,这些特性直接影响了它们对等离子体的响应:导电/导热性: 材料传导电流和热量的能力。...不同材料的等离子体响应:本质决定命运等离子体技术利用高能粒子环境改变材料表面,但其效果并非“一刀切”。材料本身的根本属性——导电导热性、化学键强度和热稳定性——才是决定其如何响应等离子体的关键。...陶瓷/玻璃:稳定堡垒的攻坚核心属性: 极高稳定性(强离子/共价键)、高熔点、高硬度、绝缘性。等离子体作用:强大的化学键使其对常规等离子体高度惰性,刻蚀极其缓慢。...核心启示:理解材料是驾驭等离子体的关键等离子体技术并非“万能钥匙”,其效果高度依赖于被处理材料的内在属性。

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    等离子清洗技术在DCDC混合电路中的应用

    2.去除厚膜基板导带上的有机沾污选择氩气/氧气混合气作为清洗气体,清洗功率200~300W,清洗时间300~400s,气体流量500sccm, 可以有效去除金导体厚膜基板导带上的有机沾污3.去除外壳表面氧化层通过氩气或氢气作为清洗气体的射频等离子清洗...由于等离子体在清洗舱内分布较为均匀,可以实现复杂结构及狭小部位的清洗,选择氢气作为清洗气体时,清洗功率200~300W,清洗时间400~600s,气体流量200sccm,经过射频等离子清洗后, 焊料在管壳上浸润性良好...,即硅铝丝外围突起的金属圈,表明硅铝丝与芯片焊盘上的铝相互扩散、接触良好,而没有经过清洗的芯片,采用同样的键合参数,硅铝丝在芯片焊盘上基本没有扩散结论射频等离子清洗技术在DC/DC混合电路生产的多个环节中起到关键作用...:(1)射频等离子清洗可以去除背银芯片硫化物、金属外壳表面氧化物及厚膜基片上的有机沾污,提升焊接及粘接的可靠性;(2)射频等离子清洗可以提高金属盖表面活性,提升油墨在金属盖板上的浸润性;(3)射频等离子清洗可以提升芯片表...而不当的射频等离子清洗带来的陶瓷厚膜基板渗胶问题可通过静置或高温烘烤以降低厚膜基板表面 活性来解决,MOS器件损伤问题可通过降低清洗功率及清洗时间或采用微波等离子清洗来解决。

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    不同材料对等离子体设备的影响机制

    它们的根本差异——导电性、导热性、化学键类型与热稳定性——决定了其内在"性格",也预设了当它们遭遇等离子体时,将上演怎样截然不同的"蜕变"。...金属键键能适中,热稳定性良好,但易受特定化学蚀刻影响。聚合物:碳氢长链编织,导电导热性差。共价键与弱范德华力并存,热稳定性是软肋,却极易被等离子体打断键链引发变革。...二、等离子体:可编程的"能量刻刀"等离子体非蛮力破坏者,而是通过精准调控(气体、功率、压力、时间),针对材料特性激活四大核心响应机制:1....结语:点石成金的创新引擎选择等离子体技术,意味着选择以原子级的精准,重塑物质表面的无限潜能。在材料科学的星辰大海中,它正持续书写点石成金的现代传奇,为未来科技奠定坚实基石。...谁能更深刻地理解并驾驭这场与材料的"灵魂对话",谁就将在创新的浪潮中勇立潮头。等离子体技术,正是开启这扇未来之门的金钥匙。

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    等离子设备处理材料时,工艺气压的选择

    在等离子体表面处理的工艺菜单中,工作气压是一个至关重要却常被忽视的核心参数。它并非一个独立的数值,而是一个决定等离子体放电特性、进而直接影响处理效果均匀性与稳定性的关键杠杆。...更重要的是,由于电极鞘层电场的存在,离子能被定向加速并以较高的能量轰击材料表面。...因此,常压等离子体更依赖于高浓度的活性自由基(如·O, ·OH, ·NO)的化学作用,而非高能离子的物理轰击。...这种反应虽然温和、均匀,但对某些需要高能量才能活化的表面或顽固污染物,其处理深度和强度可能不及低压等离子体。三、如何选择:基于应用目标的权衡艺术不存在“最好”的气压,只有“最适合”特定应用场景的选择。...*   预算有限,希望避免真空设备的高投入和维护成本。结论气压的选择是等离子体工艺优化的核心环节之一。它深刻影响着等离子体中能量与物质的传递方式,最终决定了处理效果的“质”与“形”。

    21210

    等离子清洗机对橡胶模具的研究

    等离子清洗机对橡胶模具的研究本文主要论述了等离子清洗机清洗橡胶制品模具技术进行了工艺研究,构建等离子体清洗实验装置系统和建立清洗质量的评价方法。...等离子体清洗橡胶模具能量祸合作用等离子体清洗橡胶模具主要是利用等离子体束高能粒子的活化作用,产生热冲击、活化分解或小部分燃烧汽化,从而使模具表层橡胶污染物脱离模具表,面达到清洗目的。...清洗层状污染物能量耦合作用当等离子体热源经过时,橡胶模具表而的污染物吸收等离子体激发态粒子的能量,并向基体表面和内部传递热量,从而产生自身特有的能量耦合作用。...为了深入分析等离子体清洗层状致密污染物的原理,这里我们需要对层裂应变进行计算,同时对等离子体与工件间的能量耦合机制进行有限元分析分析。...结论本文主要分析了等离子体清洗斑状颗粒污染物的界面清洗力,这个清洗力主要是污染物与基体间的粘结力。当等离子体清洗斑状污染物的界面清洗力大于粘结力时,污染物才能被清除。

    22210

    R语言实现质谱数据的离子峰获取

    做代谢研究的朋友们应该都很熟悉一个R包xcms,此包功能很强大,可以直接获得对应的离子峰数据。并且也提供了一个离子在metLin数据库的匹配功能。...我们今天就介绍其依赖的一个确定离子峰的R包CAMERA。此包主要用来识别样本的离子峰,从而获得一个样本中所具有的离子峰总数,以及对应的每个离子峰的核质比和保留时间。...2. annotateDiffreport 多样本注释离子峰。此部分利用了xcms中的获取峰面积的函数。最后获得和xcms一样的一个差异分析报告,但是多了对离子的分组。...3. findAdducts 在上面获得离子峰后,由于不同的电离模式样本所带的标准离子H, Na, K, NH4和CL都可能的结合。...7. groupFWHM 获取样本的伪谱信息,将数据基于保留时间进行分组。然后基于groupCorr对各离子之间行进基于离子峰面积的离子归类。至此获得校正后的各离子数据。

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    等离子体中气体颜色的“七十二变”

    工业的精密殿堂深处,一束无形的能量无声注入。真空腔内,本已安分的气体分子被悄然唤醒,瞬间剥离为电子、离子与活性基团——一场名为“等离子体”的微观焰火,在材料表面轰然绽放。...这不是混沌的狂欢,而是精准的秩序之舞。第一幕:氧化之焰——O₂的炽热拥抱氧气,这自然界最慷慨的施予者,在等离子体态下褪去温和。...它在等离子体中裂解,释放出极具活性的氟自由基。这些氟原子,不再满足于温和的净化,它们的目标是硅晶体本身。氟原子对硅有着近乎“贪婪”的亲和力。...第三幕:冷焰之魅——氩气的物理风暴并非所有相遇都需化学的激烈交融。氩气,这惰性的贵族,在等离子体态下化身无数高速粒子。它们携带着纯粹的动能,如一场微观的疾风骤雨,猛烈冲刷着材料表面。...第四幕:和谐奏鸣——混合气体的协奏曲工业的智慧,在于洞悉气体间的“爱恨交织”。当氧气(O₂)与四氟化碳(CF₄)携手进入等离子体腔,一场精妙的协奏曲响起。

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    等离子清洗工艺在芯片键合前的应用

    等离子体清洗工艺运用在引线键合前,会明显提高其表面活性,从而提高工件的键合强度及键合引线的拉力均匀性等离子体清洗工艺参数对清洗效果的影响不同的工艺气体对清洗效果影响氩气物理等离子体清洗过程中,氩气产生的离子携带能量轰击工件表面...物理等离子清洗工艺模式采用的仓体压力较小。物理等离子清洗工艺要求被激发的离子轰击工件表面。...化学等离子清洗工艺产生的等离子体与工件表面产生化学反应,所以离子数越多越能增加清洗的能力,导致需要使用较高的仓体压力。射频功率射频功率的大小会影响等离子体的清洗效果, 从而影响封装的可靠性。...加大等离子体射频功率是增加等离子的离子能量来加强清洗强度。离子能量是活性反应离子进行物理工作的能力。...等离子体清洗模式主流的等离子清洗机有三种类型的电极载物板,用作设备的阳极、阴极以及悬浮极。根据工件的不同,调节电极载物板能够产生两种模式的等离子体,命名为直接等离子体模式和顺流等离子体模式。

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    解码等离子表面改性技术背后的科学法则

    解码表面改性背后的科学法则等离子体处理技术之所以能跨越微电子、医疗、食品等数十个行业为之提供技术服务,关键在于其作用效果的精密可控性。...这些要素共同编织出等离子体表面工程的复杂神经网络。气体介质惰性气体与活性气体演绎不同表面故事:氩离子以0.3-5eV动能物理刻蚀,氧自由基则用4.5eV解离能接枝官能团。...材料本征的基因表达材料响应如同基因表达:N₂等离子体在316L不锈钢上生成50nm氮化层,对聚乙烯仅形成2nm氨基化表面。芳纶纤维捻度每增10TPM,等离子渗透深度骤降35%。...等离子处理的更多可能等离子体处理本质是重构物质的"界面人格",从医疗到半导体,都在量子尺度上演着表面革命的微观史诗。这六大要素如同六把钥匙,开启着万亿级工业表面改性的未来图景。...本系列将持续拆解每个要素背后的作用机制,带您穿透参数迷雾,掌握等离子工程的底层逻辑。

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    等离子体改性对PVDF基膜的影响因素有哪些

    等离子体改性等离子体改性是利用一些非反应型气体(氢气和惰性气体)或反应型气体(N2、O2等)通过放电产生自由基、电子、正负离子等多种活性粒子,这些粒子轰击材料表面的 C–H键、C–S键、C–C键,此外自由基还可以和表面特定的官能团相互作用...等离子体液相接枝改性基膜对复合膜处理效果的影响影响复合膜对0.05mol/L MgSO4溶液脱盐率的主要因素有接枝浓度、放电电流 、接枝中间时间、放电时长、接枝时长。...等离子体气相接枝改性基膜对复合膜处理效果的影响放电时长、放电电流和接枝时长三个因素对复合膜性能影响都较为显著,但极差分析和方差分析中的显著顺序有所不同,并且正交实验只确定了各因素对应水平的最优范围,需要通过单因素实验探究其对复合膜的具体影响规律...,得到制备复合膜的最优等离子体气相接枝因素水平。...电流越大,低温等离子体中携带的高能粒子数量增多,对基膜表面的刻蚀作用也就越明显

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    负氧离子监测站:守护清新空气的科技卫士

    负氧离子,被誉为 “空气维生素”,其浓度高低直接影响着空气的清新程度与我们的健康感受。而负氧离子监测站,就像是一位不知疲倦的环境卫士,时刻监测着空气中负氧离子的浓度,为我们的生活与环境保驾护航。...负氧离子监测站的工作原理负氧离子监测站的核心工作原理基于负氧离子的物理和化学特性。空气中的负氧离子,在电场的作用下,会与带电粒子发生相互作用。...监测站利用这一特性,通过特定的传感器技术,捕捉这些相互作用并转化为电信号。这些电信号经过放大、滤波和数字化处理后,最终转化为负氧离子的浓度值。...负氧离子监测站的系统组成空气负氧离子浓度传感器:作为监测站的 “嗅觉”,它负责精准捕捉空气中的负氧离子,并将其转化为电信号,为后续的浓度计算提供原始数据。...负氧离子监测站的功能特点实时精准监测:通过高精度的传感器和先进的数据采集技术,负氧离子监测站能够 24 小时不间断地监测空气中的负氧离子浓度,确保数据的准确性和时效性。

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    等离子体处理对壳聚糖膜表面形貌的影响

    等离子体处理可以在表面形成一定的粗糙度,粗糙度的适当增加可以为材料提供更好的细胞黏附表面。...在此,我们仅以等离子体表面处理对壳聚糖膜表面形貌影响做一些讨论和演绎未经等离子处理的AFM图O2 100W 60S处理后的AFM图片O2 150W 60S处理后的AFM图片100W的等离子体处理壳聚糖膜表面光滑平整...经过氧气等离子体处理后的壳聚糖膜表面AFM图,可以看出为等离子体刻蚀的作用,壳聚糖膜表面变得较为粗糙,表面粗糙度Rms增加为5.252nm。表面粗糙度的适当增加将有利于材料表面细胞的黏附。...另外,经过等离子体处理在壳聚糖膜表面引入的极性基团会随着时间的推移而逐渐转移到膜的内部,这种极性基团的翻转内迁,导致了等离子体处理效果的时效性,其亲水性逐渐下降,接触角增大,表面自由能尤其是其极性分量逐渐下降...主要原因是等离子体处理后暴露大气,表面活性自由基与空气中的氧气、水汽等反应是等离子体处理样品表面极性化的主要过程,表面氧含量得到增加。

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    Intel通过Ge离子注入实现微环共振波长的精确控制

    这篇笔记介绍下Intel在微环方面的最新进展,他们通过在微环波导中注入Ge离子,控制退火温度与时间,实现Si波导在非晶态与晶体之间的转换,从而精确控制微环的共振波长。...Ge离子注入区的波导,从晶体变为非晶态,从而引起折射率的变化。当通过金属热电极提供一个较高的退火温度时,该段波导又会转化为正常的晶体状态,如下图所示,退火前后可以明显观察到波导状态的变化。...这张图里,小豆芽有一点小的疑问,如果不考虑Ge离子注入的影响,通常金属热电极加热,会导致共振波长红移,但这一点似乎没有在下图中有所体现,波长一直保持蓝移的趋势。...可能是Ge离子退火前后带来的折射率变化更大。...每个微环退火所需要的时间不超过半分钟。 (图片来自文献1) 此外,研究人员在实验中也发现Ge离子注入会对调制效率带来一定的影响,他们也提出了下一步优化的方向。

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    二次离子质谱(SIMS)技术在检测分析中的应用

    二次离子质谱(SIMS)技术详解:分析与应用二次离子质谱(Secondary Ion Mass Spectrometry,SIMS)是一种用于深度分析样品表面和亚表面结构的分析技术;它通过将样品表面溅射出二次离子...,然后利用质谱仪分析这些离子的质量和浓度,从而获取样品表面和亚表面的化学成分和结构信息。...样品溅射:SIMS技术使用离子源产生的离子束(通常是金属离子,如Ar+)对样品表面进行轰击;离子束与样品表面相互作用,使样品表面的原子或分子被溅射出来。2....二次离子生成:溅射出的原子或分子在电场作用下获得足够的动能,从样品表面脱离并加速;这些溅射出的原子或分子在加速过程中与周围的原子或分子发生碰撞,产生新的二次离子。3....质谱分析:二次离子被引入质谱仪中,通过磁场和电场的作用,将二次离子按照质量-电荷比(m/z)进行分离和检测;通过分析二次离子的质量和浓度,可以获得样品表面和亚表面的化学成分和结构信息。

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