芯片江湖7：EUV光刻技术，源于日本，也败于日本

从20世纪80年代后期开始，得益于VLSI项目，日本在光刻机领域登上了世界的巅峰。但是随着一项新技术的产品化实现，使得日本在光刻机领域失去了世界领先的地位。这项新技术就是：极紫外光刻技术。极紫外光刻技术也被称为EUV，它使用波长接近13.5纳米的极紫外光，通过反射光掩模曝光在晶圆表面的光刻胶，来制造半导体集成电路芯片。当前世界上最先进的光刻机就是采用了这项技术。EUV光刻技术最早起源于日本。但是由于各种原因，这项技术并没有在日本取得成功。