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光刻机行业频频发出信号,国产光刻机研发刻不容缓

近日,全球半导体产业频频发出信号。

光刻机巨头 ASML Holding NV 公布,第四季度订单激增 250%,从第三季度的 26 亿欧元暴涨至 91.9 亿欧元,远超分析师平均预测的 36 亿欧元,创下历史新纪录。阿斯麦首席财务官罗杰·达森表示,中国大陆通常是ASML的第三大市场,去年替代韩国上升至第二名,2023年中国市场的业绩表现非常强劲,但交付的大部分设备是基于2022年甚至更早的订单。预计荷兰和美国最新颁布的出口管制法规生效后,2024年中国市场销售额受到的影响为10%至15%。2024年阿斯麦将不会获得向中国发运NXT:2000i及以上浸润式设备的出口许可证,此外个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i和NXT:1980i浸润式设备的许可证。同时,中国大陆占去年第四季度销售额的39%,成为该季度ASML的最大市场,与一季度8%的占比差距明显。

同时,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C 目标今年或明年出货。佳能社长御手洗富士夫表示,纳米压印光刻技术的问世,为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。

光刻机是制造集成电路芯片的关键设备之一,在芯片制造中扮演着至关重要的角色。它的主要作用是将设计好的图案从掩膜上转移到硅片上,决定芯片的集成度和性能,实现高精度、高分辨率的图案转移,以定义电路的形状和尺寸。目前最先进的EUV光刻机,有超过45万个零件,零件数量是一辆F1赛车的20倍以上,制造难度超乎想象。即便是处于世界EUV光刻机制造垄断地位的ASML,大约也只生产了其中的15%,另外85%的零件需要从全球的供应链整合而来。因此,推进我国光刻机关键技术研发,提升半导体设备国产化率,是当下乃至未来相当长一段时间内,既重要紧迫,同时又有很高难度的攻坚任务。

目前中国光刻机制造水平和荷兰、日本相比,还存在一定的差距。荷兰的ASML、日本的佳能和尼康等公司是全球高端光刻机的主要供应商,其技术和市场份额都处于领先地位。中国在光刻机领域不断努力,可量产90纳米以上的光刻机,能满足国内市场部分需要,但要达到国际领先水平还需要从技术水平、产业链完善度、研发投入等几个方面发力,缩小与国际领先水平的差距。

拥有先进的国产光刻机对于提升中国科技实力、保障国家安全,避免对国外光刻机的过度依赖、促进经济发展,推动高科技产业的升级和转型、提高国际竞争力、推动科技创新、打破国际垄断等方面有重要意义,因此,研发国产光刻机刻不容缓。

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