在材料科学和工业制造的专业范畴内,膜厚测量的精确性对产品质量、性能以及生产过程的精细化把控起着决定性作用。国仪光子依托雄厚的技术研发能力,推出了一系列先进的膜厚测定仪,涵盖膜厚测定仪 FILMTHICK - C10、全自动膜厚测定仪 JY - FILMTHICK - CT18 和膜厚测定仪 CHT - C200,为各行业的膜厚检测提供了高效且精准的解决方案。
多领域应用彰显价值
半导体行业:在半导体制造流程中,各类薄膜的厚度对芯片性能和良率影响显著。国仪光子的膜厚测定仪可针对硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体等不同半导体材料的膜厚进行测量,包括光刻胶、氧化物/氮化物、工艺薄膜、介电材料、硅或其他半导体膜层等。精准测量膜厚有助于保障半导体器件性能稳定,提升生产效率和产品质量。
液晶显示领域:液晶显示产品的质量与薄膜厚度紧密相关。国仪光子的设备能够对 OLED、玻璃厚度、聚酰亚胺、LCD、TFT、ITO 与其他 TCO 等薄膜进行高精度测量。以 OLED 显示屏制造为例,精确控制薄膜厚度可改善显示效果,减少色差和亮度不均等问题。
光学镀膜行业:光学镀膜质量直接关乎光学元件性能。国仪光子的膜厚测定仪可用于 HC 硬涂层、AR 抗反射层、AG 防眩光涂层、滤光片、眼镜等光学镀层的厚度测量。准确测量膜厚能确保光学元件的光学性能符合设计标准,增强产品竞争力。
生物医学领域:在生物医学方面,国仪光子的设备可用于 Parylene 派瑞林、聚合物、生物膜、医疗设备等薄膜层的厚度测量。对医疗设备涂层厚度的检测,可保证涂层的均匀性和稳定性,提高医疗设备的安全性和可靠性。
光干涉原理:技术核心支撑
国仪光子的膜厚测定仪均基于光干涉原理。光干涉作为一种光学现象,当两束或多束光在空间交汇时,会相互叠加形成干涉条纹。不同厚度的薄膜会使反射光或透射光产生不同的光程差,进而导致干涉条纹发生变化。通过检测干涉条纹的特征,如条纹间距、强度等,并结合先进算法,可精确计算出薄膜厚度。
国仪光子的 OPTICAFILMTEST 光学膜厚测量/检测软件采用了 FFT 傅里叶法、极值法、拟合法等多种高精度算法。这些算法能够深入分析干涉条纹数据,结合软件中丰富且开放的材料折射率数据库,有效辅助用户进行测试分析。在测量过程中,软件可实时显示干涉、FFT 波谱和膜厚等趋势,为用户提供直观、准确的测量结果。
卓越产品特性满足多元需求
膜厚测定仪 FILMTHICK - C10:该设备的机械结构集成了进口卤钨灯光源,具备超过 10000 小时的使用寿命,为长期稳定测量提供可靠保障。它采用非接触式、无损测量方式,可对样品进行高精度测量,能同时测量反射率、颜色、膜厚等多个参数。这种多参数测量能力使其在不同应用场景中均能发挥重要作用。
全自动膜厚测定仪 JY - FILMTHICK - CT18:此设备依据光干涉原理,设计了高稳定测试大平台和桥驾式探测头结构,XY 轴具有超大行程,可测量 1.2x0.7m 的大尺寸样品。采用高强度氘钨灯光源,光谱覆盖深紫外到近红外范围,能适应不同材料和薄膜的测量需求。该设备具备一键测试输出自动定位功能,可对样品进行非接触式无损、高精度多点位测量。通过设置数百个测试点位,能全面、准确地获取样品的膜厚信息,大幅提高测量效率和精度。
膜厚测定仪 CHT - C200:其机械结构同样集成了进口卤钨灯光源,使用寿命可达 50000 小时,具有更长的使用寿命和更低的维护成本。该设备对样品进行非接触式、无损、高精度检测,可检测反射率、颜色、膜厚等参数,能为用户提供准确、可靠的检测结果,满足不同行业对膜厚检测的严格要求。
综上所述,国仪光子的膜厚测定仪凭借先进的光干涉原理、高精度算法以及丰富的应用案例,在材料科学、工业制造、生物医学等多个领域发挥着关键作用。这些设备以高精度测量结果、高效测量速度、无损检测优势和广泛的应用范围,成为众多企业和研究机构进行膜厚检测的优选。随着科技不断发展,国仪光子将持续加大研发投入,优化产品性能,为各行业的发展和产品质量提升贡献更多力量。
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