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化学气相沉积的原理

原理::CVD是利用气态物质在固体表面进行化学反应,生成固态沉积物的过程。

三个步骤

CVD的过程:

1.反应气体到达基材表面

2.反应气体被基材表面吸附

3.在基材表面产生化学反应,形核

4.生成物从基材表面脱离

5.生成物从基材表面扩散

常见的反应类型:

1、热分解反应

2、还原反应

3、化学输送

4、氧化反应

5、加水分解

6、与氨反应

7、合成反应

8、等离子激发反应

9、光激发反应

#厦门毅睿科技 #化学气相沉积 #原子层沉积 #CVD #ALD #真空镀膜

  • 发表于:
  • 原文链接https://page.om.qq.com/page/OlrW_ZTLcr8GKfGrU-N-7jFA0
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