中科院删除5nm光刻机新闻，国产光刻机到底落后多少年？

近期，华为余承东就宣布麒麟芯片停产的消息，起因是受美国条例的限制，很多使用美国技术的芯片代工厂商被迫取消与华为合作，这导致华为的麒麟芯片无人代工，最终只能暂时面临停产，此事在国内也引起很大反响，也暴露我国在半导体行业的落后。

就在国人忧心忡忡的时候，一篇关于中科院研发出新型5nm超高精度光刻机的文章爆红网络，不少自媒体纷纷发文表示国产芯片有救了，可在不久之后，中科院就将这篇有关5nm新闻删除，对于此事，官方也没有给出任何回应。

其实该技术只是在测试阶段，想真正替代光刻机还有很长的路要走，在几十年前，我国就对光刻机的重要性和战略性进行过确认，最后便开始我国光刻机的研发计划，但由于我国科技工业落后，在1977年才研发出GK-3型接触式光刻机，与当时的1:1投影光刻机和分步投影光刻机存在不小的差距。

而ASML的崛起改变了现有光刻机的格局，不仅赶超了尼康、佳能这两大光刻机巨头，还抢占了不少市场份额，而我国光刻机本来就与西方存在一些差距，而ASML的出现拉大我国光刻机的距离，再加上政策扶持减少，和西方技术封锁，导致国产光刻机面临困境，不过真正导致国产光刻机破产还是思想上的问题，在“造不如买”的思想转变下，很多人选择买现成光刻机，这让我国光刻机发展被迫暂停。

好在我国又开启对光刻机的研制计划，上海微电子公司在2007年推出首台90nm工艺投影光刻机，可随之不久，西方就对我国实施元器件禁运，导致光刻机部分元器件得不到补充，最后无法进行大规模量产。

我国光刻机研发之所以困难重重，除了西方国家多方限制之外，最主要是思想上出现了问题，当“造不如买”成为主流，我们就已经动摇了自研技术的决心，所以在任何领域，我们都不能其影响，一旦我们脑海里出现“不可能”“做不到”时就已经失败了。