在光刻机领域内,技术最先进的厂商就是ASML,其研发的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机,其是生产制造5nm芯片的必要设备,推出后就供不应求。至今,ASML还积压了几十亿欧元的EUV光刻机订单。
但由于ASML的光刻机也采用了部分美技术,这就导致ASML也不能自由出货。去年年中,ASML就表示其愿意提供其能够的一切技术,DUV光刻机出货一般是不需要许可的。
进入2021年后,ASML突然变得主动起来,多次明确表示支持向中出货更多光刻机。
据悉,今年早些时候,ASML正式与中芯国际签订了11亿美元的光刻机出售协议,主要涉及DUV光刻机。
另外,ASML还两度发出警告,一直限制ASML等自由出货,不仅会加速中国厂商发展光刻机技术,还会导致ASML或在15年后退出中国市场。
关键是,限制ASML自由出货,不仅给ASML带来损失,对美半导体行业也没有好处。
近日,ASML再次就光刻机向中出货透露出新消息,情况这样的。
ASML全球副总裁明确表示,DUV光刻机向中国市场正常出货,虽然光刻机出货量翻倍增加但ASML仍旧是按照原价销售光刻机等设备。
最主要的是,ASML表示暂时还无法自由出货EUV光刻机,但除了EUV光刻机外,其它光刻机均是正常出货,并将强化本土服务,还将新建维修中心,并扩大研发中心。
可以说,ASML突然变得主动起来,不仅多次明确向中国市场表态,还将强化本土服务,在原有服务的基础上,新建维修中心等,这可能是因为三点。
首先,中国市场对光刻机需求巨大。
都知道,中国市场是全球最大的半导体芯片消费市场,在美修改规则后,国内厂商也开始进一步实现芯片本地化生产。
数据显示,目前国内平均每月的集成电路的产能是300亿块,集成电路芯片进一步本地化后,集成电路的月产能还将进一步提升。
芯片产能提升,自然就需要更多光刻机等设备,而ASML自然是看中国巨大的市场,毕竟,ASML在国内的市场份额相比上海微电子而言,还是有很大差距的。
其次,国产新一代光刻机即将下线。
上海微电子研发制造的光刻机占领了国内市场八成份额,消息称,上海微电子新一代光刻机预计在今年年底或明年初下线,其类似ASML的DUV光刻机。
还有消息称,国内厂商今年年底就能建成28nm国产芯片生产线,明年年底就能建成国产14nm芯片生产线。
可以说,一旦新一代国产光刻机下线量产后,ASML想在国内销售更多光刻机就难了,因为国产光刻机物美价廉,关键是不受美规则约束。
更何况,ASML总裁也明确表达了类似的担忧,担心新一代国产光刻机下线后,ASML在国内市场就更不好生存了。
最后,ASML已经实现DUV光刻机正常出货。
2020年,ASML还称,在一般情况下,DUV光刻机出货是不需要许可的,但不包含在美生产制造的DUV光刻机。
如今,ASML方面却表示,DUV光刻机正常向中国市场出货,这说明ASML获得了相关许可,在这样的情况,ASML自然是加紧出货,以免再出现幺蛾子。
更何况,DUV光刻机并非很先进的技术,如果不加紧出货,很可能就会被上海微电子以及尼康等厂商赶超。
对于变得主动的ASML,你们怎么看,欢迎留言、点赞、分享。
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