华为公布新专利，日本传来新消息，光刻机巨头ASML不再是唯一？

高端科技，宛如星辰大海一般，浩渺无边，在广袤辽阔的领域中，藏着许许多多幽邃的秘密，这些秘密，将会成为通往发展进步的阶梯，高端科技，自身的重要性不言而喻。如今，在高端科技领域中，最重要也最核心的非芯片莫属。

而其中核心的核心，就是光刻机，特别是EUV光刻机，但是，大家都心知肚明，如今全球的EUV光刻机市场，基本上都被阿斯麦尔垄断。旁人无法，也难以从中获得一杯羹。但是，比亚迪创始人王传福曾经说过这样一句很有名的话。

再高端的科技，也是人造的，不是神造，EUV光刻机自然也一样，目前直接研发生产出EUV光刻机暂时不太可能，但是，突破一些核心技术还是没有问题的，我国的华为和日本的佳能就做到了。

那么，这样一来，将会给阿斯麦尔带来怎样的影响呢？在未来的日子里，这些突破是否会冲击到阿斯麦尔的地位呢？

华为新专利，日本新突破

4月1日，《日经中文网》放出了一个重磅消息，日本佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，想要通过3D技术，实现多个芯片的堆叠，最终实现相关半导体性能的提高。根据日本佳能进一步透露。

这台全新的，先进的半导体3D技术光刻机最早将会在明年上半年和市场，和大众见面，日本这台光刻机的亮点在哪里呢？在曝光面积方面，和现在的EUV光刻机相比，将会扩大大约四倍，还可以支持AI使用的大型芯片的生产。

4月5日，华为公开了一种芯片堆叠封装以及终端设备方面的新专利，华为这项全新的技术专利一旦投入到实际应用中，据说能够在保持供电需求的同时，还能解决因为采用硅穿孔技术带来高成本的问题。

我国华为和日本佳能取得的专利合格突破，虽然方向不一样，技术也不一样，但是有一样是相同的，那就是，华为的专利和日本的技术都将会让阿斯麦尔的光刻机，特别是EUV光刻机英雄无用武之地。阿斯麦尔恐怕会很麻烦了。

阿斯麦尔麻烦了

根据集微网2月13日的消息可知，阿斯麦尔在美国的营收从2019年的19.8亿欧元到2020年，直接就下降到16.57亿欧元，去年，阿斯麦尔在美国的营收依旧是一路下滑，继续滑到了15.83亿欧元。

短短三年的时间，阿斯麦尔在美国的经济营收就直接蒸发了大概有20%的样子。因此，阿斯麦尔可能为了弥补美国市场的损失，所以，阿斯麦尔在4月5日的时候公开透露，阿斯麦尔CEO温彼得正在访问韩国，当天，温彼得在韩国道华城和当地相关人士讨论当地半导体产业园区和当地人才培养的方案，可能有想要和韩国加深半导体方面合作的感觉。

如今，华为取得新专利，佳能突破新技术，未来万一这个新专利得到推广，恐怕阿斯麦尔寻求半导体国际合作，寻求经济收益增长，寻求弥补美国市场亏空的目的就要落空了，对于阿斯麦尔的经济利益无疑会有一阵不小的冲击。

另外，2月21日，根据韩国媒体ETnews报道，阿斯麦尔在当天做出了一个新决定，提高了阿斯麦尔2025年韩国市场的EUV光刻机销售额目标，将这个目标扩大到147.5亿欧元，这个目标是去年销售额的两倍多。

为什么阿斯麦尔会做出这样的大动作，其实，个人觉得，这可能是阿斯麦尔想要通过这样的方式，增强自身的市场影响力，巩固自身的市场地位。还是那句话，华为的专利和佳能的技术一旦入局，由于这些技术和专利更加具有先进性，因此，对于阿斯麦尔的市场地位和市场影响力而言，恐怕也会有不小的影响。

那么，如今佳能和华为取得的成绩，无疑是阿斯麦尔所不愿意看到的情况，在这样不可逆的事实下，在未来的日子里，是否会对阿斯麦尔的市场地位带来巨大的冲击呢？

是否会冲击到阿斯麦尔的地位？

对阿斯麦尔的冲击肯定会有，但是巨大冲击这可就不一定了。一来，就华为和佳能突破的技术和专利，也仅仅是突破而已。就算未来真的实现了EUV光刻机的国产化，充其量也就和阿斯麦尔目前的EUV光刻机打个五五开。

但是，阿斯麦尔手中其实还有一张王牌，不知道大家是否在记得，在阿斯麦尔2019年的年报里面，目前正在研发新一代的EUV光刻机，预计在2022年出货，在2024年或者2025年实现量产，突进这个量产目标已经提前到了2023年，其实也就是明年。

这台新型光刻机本身的实力据说也是不弱的，按照阿斯麦尔去年12月份透露，新一代，Na值为0.55的EUV光刻机，不仅仅能够将芯片先进制程的生产提升到1纳米及以下，还有可能会有更大的曝光量，提高芯片的产能。

因此，在阿斯麦尔不断进步的当下，我国的华为和日本的佳能，也仅仅是突破一项技术，取得一项专利而言，要想凭借着这样就冲击阿斯麦尔的地位，多少有点不太可能。

总结

华为的新专利，佳能的新技术，使得阿斯麦尔的EUV光刻机不再是芯片生产代工的唯一选择。期待着未来全球，特别是我国，能够在芯片生产领域不断攻坚克难，争取早日摆脱对阿斯麦尔EUV光刻机以及DUV光刻机的依赖。