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晶圆光刻图形是半导体制造中通过光刻工艺形成的微米至纳米级三维结构(如光刻胶线条、接触孔、栅极图形等),其线宽、高度、边缘粗糙度等参数直接决定后续蚀刻、沉积工艺的...
晶圆蚀刻图形是半导体制造中通过干法或湿法蚀刻形成的微米至纳米级三维结构(如沟槽、通孔、鳍片等),其深度、线宽、侧壁倾角等参数直接影响器件的电学性能与可靠性。传统...
TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)的核心图形结构(如栅极、源漏电极、像素电极等)是微米级甚至亚微米级的金属或半导体薄膜图案,其线宽、高度、台阶差等三维轮廓参...
太阳能电池片的栅线作为收集光生载流子的关键结构,其高度、线宽、截面轮廓等参数直接影响电池的导电性能和转换效率。栅线通常为微米级金属线条(如银浆印刷形成,高度 5...
微透镜阵列作为由数百至数千个微米级透镜单元组成的光学元件,在成像系统、光通信、传感器等领域应用广泛,其表面微观 3D 轮廓参数(如曲率半径、面型误差、中心厚度等...
在微观形貌表征领域,白光干涉仪与激光共聚焦显微镜是两种广泛应用的精密测量仪器。二者虽均能实现三维形貌成像,但基于不同的光学原理,在测量精度、适用范围及性能特点上...
表面粗糙度作为衡量材料表面微观形貌的关键指标,其精准测量在精密制造、材料科学等领域具有重要意义。白光干涉仪与原子力显微镜(AFM)是两类常用的粗糙度测试工具,二...
在精密光学测量技术中,白光干涉仪与激光干涉仪凭借各自独特的光学特性,成为不同测量场景的核心工具。二者虽均基于光的干涉现象,但在光源选择、干涉机制及应用方向上存在...
在微纳米尺度表面形貌测量领域,白光干涉仪凭借非接触、高精度的优势,成为获取物体 3D 轮廓的重要工具。其核心原理是利用白光干涉产生的条纹信号,通过对条纹特征的分...
在微纳米级表面测量领域,白光干涉仪凭借其高精度检测能力占据重要地位,而垂直分辨率作为衡量其性能的核心指标之一,直接决定了对样品表面微观起伏的捕捉能力。深入理解垂...
在微纳米级表面光学分析领域,白光干涉仪与共聚焦显微镜作为重要的检测工具,发挥着关键作用。随着半导体、光学加工等产业的发展,对微观轮廓结构测量的精度和效率提出了更...
在精密制造、材料科学和生物医学等领域,对物体表面微观形貌的三维测量需求日益迫切。白光干涉 3D 表面轮廓仪凭借纳米级测量精度、非接触式测量方式及广泛的适用性,成...
白光干涉仪作为一种高精度光学测量仪器,在微电子制造、精密机械加工、生物医学等领域有着广泛应用。它利用白光的干涉现象,能够实现对物体表面微观形貌、透明介质厚度等参...
在半导体制造与晶圆检测领域,白光干涉仪凭借高精度表面形貌测量能力得到广泛应用。然而,传统显微平台尺寸有限,难以满足 4、6、8、12 寸晶圆的检测需求。将白光干...
摘要:本文聚焦深孔测量领域深度遮挡与精度不足的难题,介绍新启航激光频率梳技术。该技术凭借创新的测量原理与系统架构,有效穿透 130mm 深度遮挡,实现 2μm ...
在现代光学制造、精密仪器加工等领域,光学表面粗糙度是影响光学元件性能和使用寿命的关键指标。非接触式光学表面粗糙度测量技术凭借其无损、高效等特性,成为获取表面微观...
白光干涉测量非接触式光学表面粗糙度过程中,滤波处理是获取准确结果的关键环节。合理设置滤波值能够有效去除噪声、分离不同尺度的表面特征,而不当的滤波值设置则会导致表...
在光学制造、精密仪器等领域,光学表面粗糙度对光学元件的性能有着重要影响。非接触式光学表面粗糙度测量技术因其无损、高效等优势备受关注,其中白光干涉技术凭借独特的测...
摘要:本文针对新能源电池深孔极片测量难题,介绍新启航激光频率梳技术。该技术凭借独特的测量原理,有效消除光学遮挡影响,实现 2um 级高精度测量,为新能源电池极片...
在半导体制造、微机电系统(MEMS)等高新技术领域,1um 以下光刻深度、凹槽深度和宽度的精确测量至关重要。这类微小尺寸的测量精度直接影响产品性能与质量,但因其...
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